一种聚四氟乙烯的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种聚四氟乙烯的制造方法，该方法包括：将LogPOW为3.4以下的含氟表面活性剂、水和四氟乙烯投入至聚合槽中的工序；向聚合槽中投入氧化还原引发剂并引发四氟乙烯的乳液聚合的工序；和回收聚四氟乙烯的工序，相对于最终聚四氟乙烯产量，所述含氟表面活性剂的总投入量为1000ppm～6000ppm。本发明专利技术的目的在于通过使用水溶性和挥发性高的表面活性剂来提供一种聚四氟乙烯，该聚四氟乙烯适于多孔质聚四氟乙烯膜的成型。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】-种聚四氣乙稀的制造方法 本申请是分案申请，其原申请的国际申请号为PCT/JP2010/055708，中国国家申请 号为201080012143.4,申请日为2010年3月30日，专利技术名称为"聚四氣乙締及其制造方 法"。
本专利技术设及一种聚四氣乙締的制造方法。
技术介绍
将聚四氣乙締粉末成型，在未烧制状态下对其进行高度地拉伸，则能够得到多孔 质聚四氣乙締膜。该多孔质膜可透过水蒸气等气体，但由于聚四氣乙締的强疏水性而不能 透过水滴。利用该独特的性质，聚四氣乙締可W应用于衣服类和分离膜等。 作为适于拉伸的聚四氣乙締的制造方法，已知有W下方法。 阳0化]在专利文献1中记载了如下内容：通过使用高儘酸钟/氨漠酸作为聚合引发剂，在 全氣辛酸锭的存在下聚合四氣乙締，从而得到非烙融二次加工性聚四氣乙締树脂。 在专利文献2中记载了如下内容：通过使用漠酸钟和亚硫酸锭的组合作为聚合引 发剂，在PFOA的存在下聚合四氣乙締，从而得到聚四氣乙締。 在专利文献3中记载了如下内容：通过使用过氧化二下二酸作为聚合引发剂，在 CFs化0化化0化COONH4的存在下聚合四氣乙締，从而得到聚四氣乙締。 在专利文献4中记载了在含有全氣簇酸或全氣簇酸的盐和自由基捕获剂的水性 介质中进行乳液聚合的内容，所述全氣簇酸中，与氣原子结合的碳原子数为5~6、且构成 主链的碳原子数和氧原子数的总数为9~12。 现有专利文献 专利文献 专利文献1 :日本特开2000-143727号公报（专利第4452354号公报） 专利文献2 :日本特开2002-201217号公报（专利第3552685号公报） 阳01引专利文献3 :国际公开第2007/046345号小册子 专利文献4 :国际公开第2009/001894号小册子
技术实现思路
本专利技术的目的在于通过使用水溶性和挥发性高的表面活性剂来提供一种聚四氣 乙締，该聚四氣乙締适于多孔质聚四氣乙締膜的成型。 目P，本专利技术为一种聚四氣乙締，其特征在于，其具有非烙融二次加工性，标准比重 为2. 160W下，平均一次粒径为150nmW上，应力松弛时间为500秒W上，所述聚四氣乙締 是通过在Lo评OW为3. 4W下的含氣表面活性剂的存在下对四氣乙締进行乳液聚合而得到 的，具有29. 7NW上的断裂强度。 本专利技术的聚四氣乙締优选断裂强度为32.ON~49.ON。 本专利技术还设及一种聚四氣乙締的制造方法，其特征在于，该方法包括：将Lo评OW 为3. 4W下的含氣表面活性剂、水和四氣乙締投入至聚合槽中的工序；向聚合槽中投入氧 化还原引发剂并引发四氣乙締的乳液聚合的工序；和回收聚四氣乙締的工序，其中，相对于 最终聚四氣乙締产量，上述含氣表面活性剂的总投入量为1000~eOOOppm。（W下，有时称 作本专利技术的第1制造方法。） 上述含氣表面活性剂优选为选自由通式：CF3OCF(CFs)CFzOCF(CFs)COOX(式中，X表 示氨原子、畑4或碱金属原子）和通式：CF3CF20CF2CF20CF2C00X(式中，X表示氨原子、畑4或 碱金属原子）组成的组中的至少一种含氣表面活性剂。 由本专利技术的聚四氣乙締得到的多孔体的断裂强度高。本专利技术的制造方法由于具有 上述构成，因此能够通过使用水溶性和挥发性高的含氣表面活性剂来制造特别适于多孔体 制造的聚四氣乙締。【具体实施方式】 W下详细地说明本专利技术。 1.本专利技术的聚四氣乙締 本专利技术的聚四氣乙締的特征在于，其具有非烙融二次加工性，标准比重为2. 160 W下，平均一次粒径为150nmW上，应力松弛时间为500秒W上，所述聚四氣乙締是通过在 Lo评OW为3. 4W下的含氣表面活性剂的存在下对四氣乙締进行乳液聚合而得到的，具有 29. 7NW上的断裂强度。 考虑到Lo评OW大的化合物可能会对环境产生负荷运一点时，则优选使用Lo评OW 小于3. 5的化合物。W往通过乳液聚合来制造含氣聚合物时，主要使用全氣辛酸锭 作为表面活性剂，由于PFOA的Lo评OW为3. 5,因此优选替换成Lo评OW为3. 4W下的含氣表 面活性剂。 另一方面，Lo评OW为3. 4 W下的含氣表面活性剂存在乳化能力差的问题。人们相 信，为了得到高断裂强度的聚四氣乙締，聚合时的水性分散液的稳定性是重要的，实际上若 使用乳化能力差的含氣表面活性剂则不能得到充分的断裂强度。 因此，在国际公开第2009/001894号小册子中记载了为了提高水性分散液的稳定 性而大量使用Lo评OW小的含氣表面活性剂的方法。但是，即使是由该方法得到的聚四氣乙 締，其断裂强度也不充分。 本专利技术人进行了深入研究，结果发现，使用少量乳化能力充分低的含氣表面活性 剂，并采用氧化还原引发剂来引发聚合时，反而能够得到显示高断裂强度的聚四氣乙締。旨P，本专利技术的聚四氣乙締是一种作为在Lo评OW为3. 4 W下的含氣表面活性剂的存 在下得到的产物显示出程度不可预测的断裂强度的新颖的聚四氣乙締。 由于本专利技术是通过在Lo评OW为3. 4 W下的含氣表面活性剂的存在下对四氣乙締 进行乳液聚合而得到的聚四氣乙締，因此对环境友好，而且，由于含氣表面活性剂容易清 洗，因此也容易生产。 而且，本专利技术的聚四氣乙締具有29. 7NW上的断裂强度。使用乳化能力低的含氣 表面活性剂会损害水性分散液的稳定性，如果基于W往的知识，所得到的聚四氣乙締的断 裂强度应该低，但令人惊奇的是，上述断裂强度与日本特开2000-143727号公报（专利第 4452354号公报）和日本特开2002-201217号公报（专利第3552685号公报）记载的聚四 氣乙締为同等。 本专利技术的聚四氣乙締优选断裂强度为32.ON~49.ON。 阳03引本专利技术的聚四氣乙締是在Lo评OW为3. 4W下的含氣表面活性剂的存在下得到的， 也可W在Lo评OW为2. 5W上或3. 0W上的表面活性剂的存在下得到。 上述Lo评OW为1-辛醇与水的分配系数，由Lo评表示。 W34] 作为Lo评OW为3. 4W下的含氣表面活性剂，优选为含氣阴离子型表面活 性剂，可W使用美国专利申请公开第2007/0015864号说明书、美国专利申请公开第 2007/0015865号说明书、美国专利申请公开第2007/0015866号说明书、美国专利申请公开 第2007/0276103号说明书、美国专利申请公开第2007/0117914号说明书、美国专利申请 公开第2007/142541号说明书、美国专利申请公开第2008/0015319号说明书、美国专利第 3250808号说明书、美国专利第3271341号说明书、日本特开2003-119204号公报、国际公开 第2005/042593号小册子、国际公开第2008/060461号小册子、国际公开第2007/046377号 小册子、国际公开第2007/119526号小册子、国际公开第2007/046482号小册子、国际公开 第2007/046345号小册子中记载的含氣表面活性剂。作为Lo评OW为3. 4 W下的含氣表面活性剂，优选为选自由如下两个通式组成的组 中的至少一种含氣表面活性剂： 阳的6] CF3OCF师3)CFzOCF师3)COOX (式中，X表不氨原子、NHa或碱金属原子。） 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚四氟乙烯的制造方法，其特征在于，该方法包括：将LogPOW为3.4以下的含氟表面活性剂、水和四氟乙烯投入至聚合槽中的工序；向聚合槽中投入氧化还原引发剂并引发四氟乙烯的乳液聚合的工序；和回收聚四氟乙烯的工序，相对于最终聚四氟乙烯产量，所述含氟表面活性剂的总投入量为1000ppm～6000ppm。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：小野真诚，佐藤洋之，泽内千绘，加藤丈人，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP