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一种针对多层芯片的高效X结构避障布线器的构造方法技术

技术编号:12583322 阅读:62 留言:0更新日期:2015-12-23 23:35
本发明专利技术涉及集成电路计算机辅助设计技术领域中一种针对多层芯片的高效X结构避障布线器的构造方法。该方法包括以下步骤:步骤S1:根据给定的一组引脚坐标位置,基于一种快速的多分片MST构建策略生成一棵连接所有引脚的3D-OFMST;步骤S2:3D-OFMST中所有边的XRP信息被计算,并将这些信息存入两个记录从而生成两个查找表;步骤S3:基于快速查表,通过将3D-OFMST的每条边转化为一条XRP生成一棵ML-XST,并将该ML-XST将被转化为一棵ML-OAXST;步骤S4:对ML-OAXST进一步从全局和局部两个角度优化,从而生成最终的ML-OAXSMT。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于集成电路计算机辅助设计
,具体涉及一种针对多层芯片的高 效X结构避障布线器构造问题。
技术介绍
斯坦纳最小树是图论领域最重要的数学模型之一,且被广泛的应用到了许多 研究领域。特别是1966年由Hanna提出的直角结构斯坦纳树(rectilinear Steiner minimal tree, RSMT),已经被广泛的应用到现代超大规模集成电路(very large scale integrat ion,VLSI)设计的多个阶段。例如,在早期设计阶段,包括划分、布图规划和布局, RSMT可以被用来有效的预估芯片的多项性能指标,如线长,拥塞,和时延。在总体布线和详 细布线阶段,RSMT可以被用来构造每一个线网的最终连通拓扑。此外,随着现代芯片密度 的急剧增加,在当今的VLSI设计中存在着越来越多的障碍物,例如宏模块和预布线网,这 些障碍物在布线阶段是不能够被穿越的,因此避障直角斯坦纳最小树(obstacle-avoiding rectilinear Steiner minimal tree, 0ARSMT)布线器构建问题在过去十几年得到了充分 重视,并取得了非常出色的研究成果。 另一方面,随着VLSI生产工艺的不断进步,现代芯片可以提供多个布线层 以增加设计灵活性。因此,在2007年,多层避障直角斯坦纳最小树(multi-layer obstacle-avoiding rectilinear Steiner minimal tree, ML-0ARSMT)布线器构造问题首 次由台湾大学电子工程研究院提出,并很快得到了工业界和学术界的重视。随后,多家科研 单位先后设计了数个性能优良的ML-0ARSMT布线器。 然而,上述布线器,无论是针对传统单层布线和现代多层布线,都是基于直角结 构。随着当前芯片规模进入深亚微米阶段,由于直角结构将走线方向限制为只能水平和垂 直两个方向,而这已经很难满足当前的设计需求。幸运的是,新兴的非直角结构允许更多的 走线方向并能进一步提高芯片的可布通性。特别的,X结构作为最有前景的非直角结构已 经被当前生产工艺充分支持,并成为近年来的一个研究热点。数家研究机构已先后设计出 了多个不同的避障X结构斯坦纳最小树布线器(obstalce-avoiding X Steiner minimal tree, OAXSMT)〇 问题是,当同时考虑多层芯片结构、障碍物、X结构三个因素,即多层避障X结构 其if坦纳树(multi-layer obstacle-avoiding X-architecture Steiner minimal tree, ML-0AXSMT)布线器的构造,问题将变得非常困难。因为,仅仅一个单层的RSMT布线器构 造就已经被证明为NP完全问题。据我们所知,当前有关ML-0AXSMT布线器构造的成果非常 少,而工业设计的需求却仍在不断提高,因此设计一种高效的ML-0AXSMT布线器变得尤为 紧迫。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种在VLSI总体布线设计问题中考虑多层芯片结构和障碍 物,同时引入X结构斯坦纳最小树的布线器构造问题。以优化布线树总长为目标,进而使得 诸如时延、拥塞等多项指标得到优化。该方法从总体布线的全局角度考虑ML-OAXSMT的构 造,能够在极短的时间内获得有效的解决方案。 本专利技术采用以下方案实现:一种针对多层芯片的高效X结构避障布线器的构造 方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤Sl :根据给定的一组引脚坐标位置,基于一种快 速的多分片MST(最小生成树,minimum spanning tree),构建策略生成一棵连接所有引 脚的 3D-0FMST (三维无障最小生成树,3D obstacle-free minimal spanning tree),该 3D-0FMST 为最终 ML-0AXSMT (多层避障 X 结构斯坦纳树,multi-layer obstacle-avoiding X-architecture Steiner minimal tree)的基础架构;步骤 S2 :3D_0FMST 中所有边 的XRP(X布线路径,X routing path)信息被计算,并将这些信息存入两个记录从而生 成两个查找表,这两个查找表可以为布线器的后续运作提供信息支持;步骤S3 :基于快 速查表,通过将3D-0FMST的每条边转化为一条XRP生成一棵ML-XST (多层X结构斯坦 纳树,multi-layer X-architecture Steiner tree),并将该 ML-XST 将被转化为一棵 ML-0AXST (多层避障 X 结构斯坦纳树,multi-layer obstacle-avoiding X-architecture Steiner tree);步骤S4:对ML-OAXST进一步从全局和局部两个角度优化,从而生成最终 的 ML-0AXSMT 〇 与现有技术相比本专利技术具有以下优点:该布线器采用了一种基于快速查找表的基 本构架,整个布线器逻辑紧凑,运行效率高;在3D-0FMST构建阶段,一种基于密度度量的多 分片MST构建策略被采用,同传统基于完全图的MST构建方法相比,该策略具有更高的效 率;在ML-OAXST生成阶段,该布线器根据ML-XST每条穿障边的具体特征,将所有ML-XST穿 障边分为三类,并采用了三种不同的策略进行避障路径计算,这些策略可以精确地捕捉到 多层空间中恰当的伪Steiner点位置,从而帮助ML-XST边生成最佳的避障X布线路径;特 别的,针对任意两个分布在不同布线层的引脚,一种针对多层空间通孔定位的线扫描策略 被用来精确地搜索引脚之间的合法通孔;此外,为了进一步优化压缩布线总长,该布线器采 用了两种有效的精炼策略,一种通过优化伪Steiner点连接结构以达到充分利用有效布线 资源的目的,另一种则是通过充分增加布线树共享路径总长,从而达到压缩线长的目的。【附图说明】 图1是针对多层芯片的高效X结构避障布线器的流程图。 图2是多层结构下四种XRP图。 图3是ML-XST穿障边的分类图。 图4是单个引脚的八角划分示意图及ML-XST边转换示意图。 图5是可修复路径的避障路径计算示例图。 图6是逃逸路径的避障路径计算示例图及通孔定位线扫描策略示意图。 图7是非逃逸路径的避障路径计算示例图。 图8是伪Steiner点连接优化示意图。 图9是ML-OAXST结构优化示意图。 实施方式 下面结合附图和【具体实施方式】对本专利技术做进一步说明。 一种针对多层芯片的高效X结构避障布线器的构造方法,包括以下步骤: 步骤Sl :根据给定的一组引脚坐标位置,基于一种快速的多分片MST构建策略生成一 棵连接所有引脚的3D-0FMST,该3D-0FMST为最终ML-0AXSMT的基础架构; 步骤S2 :3D-0FMST中所有边的XRP信息被计算,并将这些信息存入两个记录从而生成 两个查找表,这两个查找表可以为布线器的后续运作提供信息支持; 步骤S3 :基于快速查表,通过将3D-0FMST的每条边转化为一条XRP生成一棵ML-XST, 并将该ML-XST将被转化为一棵ML-OAXST ; 步骤S4 :对M本文档来自技高网
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一种针对多层芯片的高效X结构避障布线器的构造方法

【技术保护点】
一种针对多层芯片的高效X结构避障布线器的构造方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤S1:根据给定的一组引脚坐标位置,基于一种快速的多分片MST构建策略生成一棵连接所有引脚的3D‑OFMST,该3D‑OFMST为最终ML‑OAXSMT的基础架构;步骤S2:3D‑OFMST中所有边的XRP信息被计算,并将这些信息存入两个记录从而生成两个查找表,这两个查找表可以为布线器的后续运作提供信息支持;步骤S3:基于快速查表,通过将3D‑OFMST的每条边转化为一条XRP生成一棵ML‑XST,并将该ML‑XST将被转化为一棵ML‑OAXST;步骤S4:对ML‑OAXST进一步从全局和局部两个角度优化,从而生成最终的ML‑OAXSMT。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郭文忠黄兴刘耿耿陈国龙
申请(专利权)人:福州大学
类型:发明
国别省市:福建;35

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