一组涉及研磨不同材料的方法和装置的发明专利技术。所述方法包含在旋转面上通过研磨体对待研磨物料进行干式粉碎，所述研磨体具有旋转体的形状。所述研磨体位于所述研磨体的表面和支撑面之间随机的间隙。支撑面被相互同轴地设置并且被垂直地定向。被平行设置或彼此成一定角度设置。支撑面相对于彼此位于偏心位置并被水平地、垂直地或倾斜地定向。所述装置包括一个固定的壳体，一个具有旋转体的形状的研磨体和一个旋转驱动。所述壳体包括以下固定的相互连接的物品，圆锥形部分，圆柱形阶梯部分和具有圆形形状的水平部分，所述水平部分设置有同心的导向槽。一个转子包含一个圆锥形部分、圆柱形阶梯部分和水平部分，这些部分固定的和相互连接，并位于壳体内腔的一侧，与壳体偏心地设置。所述研磨体为大小不等的圆锥形，圆柱形或桶形滚筒并具有表面凹槽。这组发明专利技术通过减少移动研磨体时的能量消耗来怎家研磨效率。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种运用机械装置进行脆性物料的粉碎处理。它适用于需要得到几毫米至几纳米粉末的各个行业。所提出的方法和实施该方法的装置的基础为通过压碎进行的机械破坏，和在与研磨介质的相互作用中通过在磨体支撑面对原材料的磨损作用。
技术介绍
已知的此方法的实施方式包括:在滚筒式磨机中的磨球或磨杆(见SidenkoP.M.Grinding in chemical industry, ed.2nd rev.M, Chemistry, 1977),在振动磨机、行星式球磨机、超微磨碎机中的磨球(见Sidenko P.M.Grinding in chemicalindustry.Ed.2nd rev.，Chemistry, 1977 ；Andreev S.E.，Perov V.A.，ZverevichV.V.Crushing, grinding and screening of minerals.M., Nedraj 1980)，，珠磨机中的磨球(见 Sidenko P.M.Grinding in chemical industry, ed.2nd rev.，Chemistry，1977) 0对于所有的优点，所有的这些装置存在两个主要缺陷:一一在空转时很高的能耗成本，以及其结果是一一低效率；一一研磨体的重量限制了其破碎力以及对它们的加速，其通过减小粉碎物料的尺寸和更严格的粒度要求显著减少了该方法的效率。起始物料的颗粒和销毁它的元件之间的相互作用所依据的原理中最接近所提出的研磨方法的是在转轮运行中使用的研磨方法(见 Sidenko P.M.Grinding in chemical industry, ed.2nd rev.M., Chemistry, 1977)0被研磨的该物料的颗粒在研磨介质和支撑表面之间被压碎并研磨。当这些元件中的一些具有一个旋转体(旋转磨石)的形状时，另一些创建了一个封闭的支撑面(碗状)并旋转。尽管对物料上的多个定向破坏性作用使得以这种方式获得优良的产品成为可能，它仍然完全具有所有的上述缺陷。
技术实现思路
在所提出的研磨方法中，由于研磨体被放置在两个支撑表面之间这一事实，破碎力一一它通过来自一个或两个支撑面的研磨体被传递到颗粒一一它并不依赖于研磨体的质量，而仅由该驱动器的功率来决定，其用于移动支撑平面。于是，由于旋转质量平衡的空载损耗仅由当其沿该支撑表面移动时的研磨产生的滚动摩擦损耗决定。已经增加的至所要求限度的功率密度，具有90 %的效率，这允许引导该力直接施加到起始物料的解体，从而获得了一个达到纳米级尺寸的几乎所有细度的高效的产品。与已知的方法和原型比较，所提出的方法拥有显著的优点，其中大部分的能量被用来移动研磨介质，而不用考虑待研磨材料的存在与否。所提出的方法，除了上面提到的特征外，其特征还在于具有大量的各种性能、形状和类型的研磨体，并同时具有多种类型的支撑表面以及最广泛的各种构造和所有这些元件的交互布置的模式。所提出的研磨方法所使用的该设备设定的目标为提高该方法的效率，由于以下事实而被实现了:由驱动器旋转的转子被置于与它们同轴的固定外壳中，并且该研磨体被放置在它们之间的间隙中；而所有这些元件的构造和形状在各种组合和选择中被实施，并且这样的设备被同轴地插入到彼此，以便提高生产效率。附图的简要说明图1-研磨体和具有压碎的物料颗粒的支撑面的相互作用的原理。图2-在水平支撑面上的研磨体的有序排列。图3-研磨体的自发性排列。图4-在垂直布置的平行支撑面上的研磨体的有序排列。图5-在倾斜的平行支撑面上的研磨体的自发性排列。图6-在彼此成一定角度的支撑面上的研磨体的自发性排列。图7-单层装置的横截面。图8-多层装置的一个横截面。图1展示了所提出的研磨方法的本质。研磨体I被置于两个支撑面2之间的一个层中。在这种情况下，该研磨体I和支撑面2之间的间隙被调整为小雨该研磨体I直径的0.86倍之内，它会自动维持研磨体I的单层排列。起始物料3的颗粒被提供到的轴承表面之一，其相对于所述研磨体I移动，并且通过与此支撑面2的摩擦被给予旋转运动。起始物料3的颗粒，由于它们的尺寸比研磨体I的直径要小15-20倍这一事实(在研磨体材料I上被所述研磨体I捕获的起始物料3的颗粒的角度要小于起始物料3的颗粒材料的摩擦力的角度)，而在研磨体I下被撕碎，并且因为第二支撑面2限制了研磨体I的垂直运动的可能性，于是，起始物料3的颗粒通过研磨体I被粉碎。对此，研磨体I被塑造为旋转体，而支撑面2被给予这样的构造，研磨体I在支撑面2上沿着一个封闭的路径移动。轴承表面将以下列构造制成:5，10圆锥形，6，11圆柱形，7.12平板(见图7)。给予研磨体I的形式:21球形，圆柱形20，18圆锥形，筒体19，或旋转体的另一种形式(7)。基于对研磨过程的要求，轴承面2朝向彼此或两者旋转一一在同一方向上但以不同的速度，或者只是移动其中一个。解体过程中，为了提高研磨主体的粉碎效率至粉碎物料的最大粒径并且提高其特性的变化，在从装载到卸载的研磨物料的运动过程中，这两个支撑面2具有各种构造和尺寸，而不同的压缩力被施加给他们；它们被同心或偏心放置；而置于它们之间的间隙里的研磨体I得到不同的:大小，形状，切割的类型，并且它们被加载了不同的数量，并且间隙本身被平稳地或逐步地进行调整。在这种情况下，研磨体I被有序地(图2，4)或自发地(图3，5，6)排列。研磨体I的有序排列被调节，例如，由于它们被放置在导槽8(图2，4，7)中这一事实。对于轴承面2之间的研磨体I的自发性布置，重力被使用。由于自发性有序布置的研磨体I的数目之间的比率被改变这一事实，研磨期间的破碎和磨损力之间的比率被改变，一一自发布置的研磨体越多，通过磨蚀的研磨就越多，而以有序的方式布置的研磨体越多，经受粉碎的研磨物料就越多。由于研磨体和轴承表面设置有各种形状和构造的凹槽这一事实，研磨效率得以提尚O凹槽以环、螺钉、具有牙齿的轮廓的连续或不连续的类型制作:三角形，梯形或球形。切口的轮廓可以是另一种构造。取决于起始物料3的性质的变化，当在研磨过程中减小其尺寸，凹槽的形状、大小、类型和数目被连续地或逐步地改变，同样的改变发生在研磨体I的数目，切口的构造、类型，支撑面2的旋转速度，以及该研磨体I和该支撑面2之间的间隙的尺寸。当处于垂直位置或具有支撑面2大倾角的位置(图4，5)时，该研磨物料3通常在重力的影响下移动。当处于水平位置或具有支撑面2小倾角的位置时，以及当离心力阻止运动并挤压待研磨物料3至可移动支撑面2时，以下的方法有:或者为机械的方式移动，在这种情况下，倾斜面(螺旋装置)被固定在固定支撑面2上，或者液体或气体的流动介质具有其在初始物料上的影响。该介质被强制抽到支撑面之间，沿着从待研磨的物料3的装载至其被排放的地点的方向。粉碎的效率由方向和控制的液体或气体介质的流速的改变而控制。图7和8展示了所提出的方法在研磨装置中实际的实现。研磨装置(7)的单层选择:它包含以下固定在一个公共体4的物品:壳体5的圆锥形部分，壳体6的圆柱形阶梯部分，包括相同或不同直径的中空圆筒，以及一个具有圆形形状的水平主体部分7。在壳体4的内部，转子9通过间隙9被插入。所述转子由以下固定的和相互连接的物品制成:转子10的本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种研磨方法，包含在旋转面上通过研磨体对待研磨物料进行湿式或干式粉碎，其具有旋转体的形状，其特征在于，为了提高研磨效率和所述方法的效率，研磨体以有序或自发的方式被放置在两个支撑表面之间的单层里；其中，研磨体的表面和支撑面之间的间隙被设置为小于该研磨体直径的0.86倍之内，而呈现圆筒形、锥形或圆形的所述支撑面被平行设置或彼此成一定角度设置，其角度值要小于研磨体材料和处于进料位置的支撑面间的摩擦力的角度；所述支撑表面相对于彼此位于同一轴上或者位于偏心位置，并且它们被水平地、垂直地或倾斜地定向。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员：列夫·康斯坦丁诺维奇·波格丹诺夫，
申请(专利权)人：列夫·康斯坦丁诺维奇·波格丹诺夫，
类型：发明
国别省市：俄罗斯;RU
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