一种显示基板及其制备方法和显示面板技术

本发明专利技术提供一种显示基板及其制备方法和显示面板。该显示基板包括多个子基板，子基板之间的间隔区域的衬底上设置有测距区，测距区用于在采用曝光工艺形成子基板中的各个膜层前测量掩模板与衬底之间的间距，测距区的周边区域的衬底上设置有支撑膜层，周边区域位于间隔区域内测距区的周围，且周边区域和测距区用于在曝光形成子基板中的各个膜层时被遮挡。该显示基板的测距区的周边区域和子基板所在区域不会形成很大的断差，从而使该显示基板在后续与其他基板对盒时不会出现比较明显的应力集中，进而能够避免该显示基板在对盒时发生较大变形，由此避免对盒后的盒厚出现异常，使对盒后的显示面板在显示时不会发生局部发黄现象。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，具体地，涉及一种显示基板及其制备方法和显示面板。
技术介绍
与阴极射线管显示器(CRT)相比，液晶显示器(LCD)具有很多优点，如厚度较薄，功耗较低等。因此，液晶显示器在很多领域都已经代替了 CRT显示器。常规的薄膜晶体管液晶面板(TFT-1XD)包括阵列基板(Array)、彩膜基板(CF)和液晶层，液晶层填充于Array基板和CF基板之间。CF基板的膜层形成顺序依次为黑矩阵(BM)、彩膜层(B、G、R彩膜)、平坦层(OC)和隔垫物(PS)，每一膜层的制备工艺都包括涂布、曝光和显影。常用的曝光方法为接近式曝光，因此需要测试掩模板与玻璃基板之间的距离。如图1所示，为现有技术测定掩模板与玻璃基板之间距离的系统结构图，包括半导体激光器61、偏光片62、反光镜63、掩模板64、玻璃基板65以及线性传感器66。通过半导体激光器61发生出激光穿过偏振片62调整光路，然后将出射的光束照射到反光镜63上，通过反光镜63反射的光束穿过掩模板64的测距窗口 641入射到玻璃基板65的上表面Al点，线性传感器66接收到掩模板64测距窗口 641下表面A点折射的光束和玻璃基板65上表面Al点反射的光线的光强信息，再通过模数转换电路转换成电压信号，将Al点和A点的光强信息表现出来。通过对接收到的电压信号进行处理分析，比较接收到两个信号的时间差，从而测定掩模板64与玻璃基板65的之间的距离，即Al点和A点之间的距离。为了保证每次曝光前测得的掩模板64与玻璃基板65之间的距离数据的准确性，测距窗口 641处除了黑矩阵之外不得有其他任何膜层，因此在黑矩阵之后的膜层涂覆后曝光前都需要将测距窗口 641及其周围区域进行挡光板遮挡，以防止后续膜层的光刻胶曝光固化，将测距窗口 641遮挡住。另外，在测距窗口 641的被遮挡的周围区域如果存在膜层的话，在曝光时由于遮挡容易造成被遮挡区域与未被遮挡区域之间的接壤区域不完全曝光，在后续的显影过程中产生碎肩污染。因此，一般彩膜基板母板上对应测距窗口 641的附近会存在一大片空白区域7，如图2所示。如图3所示，由于彩膜基板母板上测距窗口 641附近空白区域7的存在，使彩膜基板母板上空白区域7与其他非空白区域会形成断差，这在后续的彩膜基板母板与阵列基板母板的真空对盒过程中会造成对盒基板应力集中产生牛顿环，导致对盒基板变形，引起盒厚异常，因此点灯时出现画面显示不均，同样灰阶下发生局部发黄。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种显示基板及其制备方法和显示面板。该显示基板的测距区的周边区域和子基板所在区域不会形成很大的断差，从而使该显示基板在后续与其他基板对盒时不会出现比较明显的应力集中，进而能够避免该显示基板在对盒时发生较大变形，由此避免对盒后的盒厚出现异常，使对盒后的显示面板在显示时不会发生局部发黄现象。本专利技术提供一种显示基板，包括多个子基板，所述子基板之间的间隔区域的衬底上设置有测距区，所述测距区用于在采用曝光工艺形成所述子基板中的各个膜层前测量掩模板与所述衬底之间的间距，所述测距区的周边区域的所述衬底上设置有支撑膜层，所述周边区域位于所述间隔区域内所述测距区的周围，且所述周边区域和所述测距区用于在曝光形成所述子基板中的各个膜层时被遮挡。优选地，所述支撑膜层的厚度与所述子基板中所有膜层的总厚度相同。优选地，所述子基板中的膜层包括黑矩阵、彩膜层、平坦层和隔垫物，所述支撑膜层包括从所述子基板所在的区域延伸至所述周边区域的所述黑矩阵、所述彩膜层、所述平坦层和所述隔垫物，且所述支撑膜层中各个膜层的图形与所述子基板中相同膜层的图形分另IJ相同。优选地，所述支撑膜层为固化的光刻胶层。优选地，所述支撑膜层为固化的封框胶层。优选地，所述支撑膜层至少设置在所述周边区域的靠近所述子基板的一侧。本专利技术还提供一种显示面板，包括上述显示基板。本专利技术还提供一种显示基板的制备方法，包括形成子基板中的各个膜层，所述子基板之间的间隔区域的衬底上设置有测距区，还包括在所述测距区的周边区域的所述衬底上形成支撑膜层；所述周边区域位于所述间隔区域内所述测距区的周围，在曝光形成所述子基板中的各个膜层时遮挡所述周边区域和所述测距区。优选地，所述形成子基板中的各个膜层包括在对应所述子基板的所述衬底上形成黑矩阵、彩膜层、平坦层和隔垫物，所述黑矩阵、所述彩膜层、所述平坦层和所述隔垫物还延伸至所述周边区域形成所述支撑膜层，具体包括:步骤S1:在所述显示基板的整个所述衬底上涂布黑矩阵膜层；步骤S2:将对应所述测距区和所述周边区域的所述黑矩阵膜层遮挡；步骤S3:采用包括黑矩阵图形的掩模板对未遮挡的所述黑矩阵膜层进行曝光；步骤S4:将遮挡所述周边区域和所述测距区的遮挡物去除；步骤S5:采用激光打印设备对所述周边区域和所述测距区内的所述黑矩阵膜层进tx曝光；步骤S6:对经过曝光的所述黑矩阵膜层进行显影，最终形成所述子基板中的所述黑矩阵和所述周边区域的所述黑矩阵；保留所述测距区内的所述黑矩阵膜层；按照与形成所述黑矩阵相同的步骤在形成所述黑矩阵的所述衬底上形成所述子基板中和所述周边区域内的所述彩膜层、所述平坦层和所述隔垫物；并去除所述测距区内的所述彩膜层、所述平坦层和所述隔垫物。优选地，首先，采用构图工艺在所述衬底上依次形成所述子基板中的各个膜层，对应所述周边区域的所述衬底上未形成任何膜层；然后，在完成上述步骤的所述衬底上涂布光刻胶膜层，对所述光刻胶膜层进行曝光和显影，保留对应位于所述周边区域内的所述光刻胶，去除对应位于所述周边区域以外区域内的所述光刻胶。优选地，首先，采用构图工艺在所述衬底上依次形成所述子基板中的各个膜层，对应所述周边区域的所述衬底上未形成任何膜层；然后，对应在所述周边区域内涂布封框胶，并对所述封框胶进行固化。本专利技术的有益效果:本专利技术所提供的显示基板，通过在测距区的周边区域设置支撑膜层，使该显示基板的测距区的周边区域和子基板所在区域不会形成很大的断差，从而使该显示基板在后续与其他基板对盒时不会出现比较明显的应力集中，进而能够避免该显示基板在对盒时发生较大变形，由此避免对盒后的盒厚出现异常，使对盒后的显示面板在显示时不会发生局部发黄现象。本专利技术所提供的显示面板，通过采用上述显示基板，使该显示面板不会出现应力集中，从而使该显示面板不会发生变形，进而使该显示面板在显示时不会发生局部发黄现象。【附图说明】图1为现有技术中测量掩模板与玻璃基板之间距离的系统结构示意图；图2为现有技术中彩膜基板母板的结构俯视图；图3为图2中的彩膜基板母板沿AA’剖切线的结构剖视图；图4为本专利技术实施例1中显示基板的结构俯视图；图5为图4中显示基板沿AA’剖切线的结构剖视图；图6为本专利技术实施例2中显示基板的结构俯视图；图7为图6中显示基板沿AA’剖切线的结构剖视图；...

【技术保护点】
一种显示基板，包括多个子基板，所述子基板之间的间隔区域的衬底上设置有测距区，所述测距区用于在采用曝光工艺形成所述子基板中的各个膜层前测量掩模板与所述衬底之间的间距，其特征在于，所述测距区的周边区域的所述衬底上设置有支撑膜层，所述周边区域位于所述间隔区域内所述测距区的周围，且所述周边区域和所述测距区用于在曝光形成所述子基板中的各个膜层时被遮挡。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：曹诚英，汪弋，周纪登，冯伟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11