【技术实现步骤摘要】
本技术属于过滤
,涉及一种循环过滤系统。
技术介绍
微电子行业对光刻胶的质量有非常严格的要求,特别是对颗粒的控制更是严格,颗粒的大小、数量直接影响产品的质量和微电子工艺制程。目前光刻胶生产过程中过滤是非常重要的一道环节,传统的过滤采用一次过滤方式,即通过氮气的压力,光刻胶经过过滤器过滤后直接分装,但这种过滤方式的缺点是绝大部分颗粒虽然被过滤掉,但还有少部分颗粒穿过过滤器进入成品中,这样不仅影响产品的质量,还降低了生产效率。而且,这种压滤的方式使整个生产系统处于带压状态,增加安全隐患。带压状态意思是:在过滤的过程中由于增加氮气使得整个设备、管线、过滤器等内部具有一定压力,如果系统有压力薄弱点则会发生泄压可能。
技术实现思路
为了解决现有的过滤系统中存在部分颗粒穿过过滤器进入成品中,影响到产品的质量,降低了生产效率,本技术提供一种循环过滤系统。本技术采用的技术方案是:一种循环过滤系统,包括:用于盛放物料的反应釜和物料出口阀门,在所述反应釜和物料出口阀门之间设有一循环的过滤管路,所述过滤管路用于将物料在所述反应釜和物料出口阀门之间进行循环过滤。优选地,所述过 ...
【技术保护点】
一种循环过滤系统,其特征在于,包括:用于盛放物料的反应釜(1)和物料出口阀门(7),在所述反应釜(1)和物料出口阀门(7)之间设有一循环的过滤管路,所述过滤管路用于将物料在所述反应釜(1)和物料出口阀门(7)之间进行循环过滤。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:柴华泽,高子奇,孙立红,
申请(专利权)人:北京科华微电子材料有限公司,北京科华丰园微电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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