测定制造技术

本发明专利技术涉及光刻胶树脂技术领域，具体涉及一种测定

【技术实现步骤摘要】
测定248nm光刻胶树脂中对羟基苯乙烯含量的方法


[0001]本专利技术涉及光刻胶树脂
，具体而言，涉及一种测定
248nm
光刻胶树脂中对羟基苯乙烯含量的方法
。

技术介绍

[0002]248nm
光刻胶采用的基本上都化学放大技术，其主要成分是聚合物树脂
、
光致产酸剂
、
添加剂和溶剂，所用的聚合物树脂多为部分保护的聚羟基苯乙烯类树脂，该类树脂分子链上悬挂有酸不稳定基团，它的存在使树脂不溶于显影液；而光致产酸剂在光照条件下分解产生酸
(H+),
在曝光后烘
(PEB)
的过程中，酸会作为催化剂使树脂分子链上的酸不稳定基团脱落，从而改变了树脂的极性，足够多的酸不稳定基团脱落后，光刻胶溶于显影液
。
因此，酸不稳定基团的含量即树脂保护率对光刻胶的性能具有重要影响
。
[0003]248
光刻胶使用的树脂一般都溶解在溶剂中密闭保存来保持树脂的稳定性，用溶液法测定紫外吸收需要知道树脂溶液的固含或者是将树脂从溶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种测定
248nm
光刻胶树脂中对羟基苯乙烯含量的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(a)
取不同已知对羟基苯乙烯摩尔含量的同类型保护基团的树脂溶液标准品，分别旋涂在紫外石英片上，干燥后得到膜层，测定每个含有所述膜层的紫外石英片的膜层厚度；
(b)
将步骤
(a)
中含有膜层的紫外石英片分别进行光谱测定，以空白石英片为背景，测定不同波长下的吸光度
A
；
(c)
获取各个所述膜层在
278nm
处的光密度值，以光密度为横坐标，以对羟基苯乙烯基团在树脂中的摩尔含量为纵坐标，构建标准曲线，得到标准曲线的回归方程
Y
＝
aX+b
，
X
为光密度，
Y
为对羟基苯乙烯基团在树脂中的摩尔含量；各个所述膜层的光密度的测定公式为：
(d)
取与所述标准品具有相同类型保护基团的待测样品，按照所述标准品同样的测试方法，测定所述待测样品的膜层厚度及
278nm
的吸光度，获取所述待测样品的光密度，根据步骤
(c)
的标准曲线的回归方程，计算得到待测样品中的对羟基苯乙烯的摩尔含量
。2.
根据权利要求1所述的测定
248nm
光刻胶树脂中对羟基苯乙烯含量的方法，其特征在于，所述树脂的结构式如式
(I)
或
(Ⅱ)
所示：其中，
R
为保护基团，
R1为与对羟基苯乙烯聚合的其他基团，
m+n
＝
100
，
m
和
n
为树脂中两种重复单元的摩尔含量
。3.
根据权利要求1所述的测定
248nm
光刻胶树脂中对羟基苯乙烯含量的方法，其特征在于，在步骤
(a)
中，冷却至室温后，再测定每个含有膜层的紫外石英片的膜层厚度
。4.
根据权利要求1所述的测定

【专利技术属性】
技术研发人员：房彩琴，孙嘉，李冰，鲁代仁，王文芳，董栋，张宁，
申请(专利权)人：北京科华微电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：