一种基板及其制备方法、触控显示屏技术

本发明专利技术实施例提供一种基板及其制备方法、触控显示屏，涉及触控屏技术领域，可改善后续在形成走线的过程中，出现的断线、刻蚀残留等问题。该基板，包括周边区域；所述周边区域包括：依次设置在衬底基板上的白色光阻层和金属遮光层。用于触控显示屏。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及触控屏
，尤其涉及一种基板及其制备方法、触控显示屏。
技术介绍
一体化触控（OneGlassSolution，简称OGS)技术是指在盖板玻璃上直接形成氧 化铟锡（Indiumtinoxide，简称IT0)材料的触控电极和金属材料的走线，盖板玻璃同时起 到保护功能和触控功能的双重作用。 其中，在0GS制成中，位于盖板玻璃的周边区域起到屏蔽走线以及装饰作用的边 框材料必须有足够大的光密度（OpticalDensity，简称0D)数值，以达到完全遮光的效果。 当采用白色光阻材料作为边框材料时，由于其光密度较小，还需要增加一层黑色 光阻涂布在白色光阻上，才能达到完全遮光的效果。基于此，为了保证边框区的色度值，需 要白色光阻层的厚度达到一定值。然而，由于白色光阻层加黑色光阻层厚度太厚，在后续形 成走线过程中，在爬坡（即：经过白色光阻层和黑色光阻层的段差处）时会出现断线、刻蚀 残留等问题，从而影响产品良率。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种基板及其制备方法、触控显示屏，可改善后续在形成走 线的过程中，出现的断线、刻蚀残留等问题。 为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案： -方面，提供一种基板，包括周边区域；所述周边区域包括：依次设置在衬底基板 上的白色光阻层和金属遮光层。 优选的，所述金属层为钼合金层。 进一步优选的，所述钼合金层为钼钽氧合金层。 进一步优选的，所述钼钽氧合金层的厚度为1000-6000A。 进一步优选的，所述白色光阻层的厚度为8-18ym。 基于上述，优选的，所述基板还包括触控区域，所述触控区域包括交叉设置的第一 触控电极和第二触控电极，所述第一触控电极包括多个直接连接的第一触控子电极，所述 第二触控电极包括多个采用搭桥方式连接的第二触控子电极；所述第一触控电极和所述第 二触控电极相互绝缘。 进一步优选的，所述基板还包括位于所述金属遮光层远离所述衬底基板一侧的平 坦层；所述平坦层还位于所述触控区域内，且所述平坦层位于所述触控区域内的边缘距离 靠近的所述触控区域的边缘的长度为10-50ym;位于所述触控区域内且与所述搭桥对应 的绝缘块与所述平坦层同层设置，其中所述绝缘块用于使所述第一触控电极和所述第二触 控电极绝缘。 进一步优选的，所述基板还包括位于所述平坦层远离所述衬底基板一侧的金属走 线；所述金属走线与所述第一触控电极或第二触控电极电连接；所述搭桥的材料为金属材 料，且所述搭桥与所述金属走线同层设置。 或者，优选的，所述基板还包括位于所述平坦层远离所述衬底基板一侧且位于不 同层的金属走线和透明电极走线，所述金属走线和所述透明电极走线一一对应且接触；其 中，所述透明电极走线与所述第一触控电极或第二触控电极电连接；所述搭桥的材料为透 明导电材料，且所述搭桥与所述透明电极走线同层设置。 另一方面，提供一种触控显示屏，包括：显示面板和上述的基板。 再一方面，提供一种基板的制备方法，包括：通过一次构图工艺在衬底基板的周边 区域形成白色光阻层；通过一次构图工艺在所述白色光阻层上方形成金属遮光层；通过一 次构图工艺在衬底基板的触控区域形成交叉且相互绝缘的第一触控电极和第二触控电极； 其中，所述第一触控电极包括多个直接连接的第一触控子电极；所述第二触控电极包括多 个第二触控子电极，相邻所述第二触控子电极断开；通过一次构图工艺形成绝缘块和平坦 层；其中，所述绝缘块位于相邻所述第二触控子电极的断开处；所述平坦层位于所述周边 区域和所述触控区域内，且位于所述触控区域内的边缘距离靠近的所述触控区域的边缘的 长度为10-50ym;通过一次构图工艺形成金属材料的搭桥和金属走线；其中，所述搭桥位 于所述绝缘块的上方且用于电连接相连所述第二触控子电极；所述金属走线位于所述平坦 层上方且用于与所述第一触控电极或第二触控电极电连接。 优选的，所述金属遮光层为钼钽氧合金层；形成所述钼钽氧合金层，包括：在氩气 环境下，采用溅射工艺溅射钼钽，并通入氧气，形成钼钽氧合金薄膜；其中，所述氧气和氩气 的含量在1:9-2:8之间；通过一次构图工艺，形成所述钼钽氧合金层。 又一方面，提供一种基板的制备方法，包括：通过一次构图工艺在衬底基板的周边 区域形成白色光阻层；通过一次构图工艺在所述白色光阻层上方形成金属遮光层；通过一 次构图工艺在衬底基板的触控区域形成交叉且相互绝缘的第一触控电极和第二触控电极； 其中，所述第一触控电极包括多个直接连接的第一触控子电极；所述第二触控电极包括多 个第二触控子电极，相邻所述第二触控子电极断开；通过一次构图工艺形成绝缘块和平坦 层；其中，所述绝缘块位于相邻所述第二触控子电极的断开处；所述平坦层位于所述周边 区域和所述触控区域内，且位于所述触控区域内的边缘距离靠近的所述触控区域的边缘的 长度为l〇-5〇ym;通过一次构图工艺形成透明导电材料的搭桥和透明电极走线；其中，所 述搭桥位于所述绝缘块的上方且用于电连接相连所述第二触控子电极；所述透明电极走线 位于所述平坦层上方且用于与所述第一触控电极或第二触控电极电连接；通过一次构图工 艺在所述周边区域形成金属走线；其中，所述金属走线和所述透明电极走线一一对应且接 触。 优选的，所述金属遮光层为钼钽氧合金层；形成所述钼钽氧合金层，包括：在氩气 环境下，采用溅射工艺溅射钼钽，并通入氧气，形成钼钽氧合金薄膜；其中，所述氧气和氩气 的含量在1:9-2:8之间；通过一次构图工艺，形成所述钼钽氧合金层。 本专利技术的实施例提供一种基板及其制备方法、触控显示屏，通过在周边区域设置 白色光阻层可以起到屏蔽走线和装饰的作用，在此基础上，通过在所述白色光阻层远离所 述衬底基板一侧设置所述金属遮光层，可以使周边区域达到完全遮光的效果。其中，由于所 述金属遮光层可以做的较薄，因而使得白色光阻层和金属遮光层的整体厚度相对较小，从 而可以改善后续在形成走线的过程中，出现的断线、刻蚀残留等问题，进而可以提高产品良 率。【附图说明】 为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本 专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以 根据这些附图获得其他的附图。 图1为本专利技术实施例提供的一种基板的不意图； 图2a为在图1基础上沿AA'向的剖视示意图一； 图2b为在图1基础上沿AA'向的剖视示意图二； 图3为本专利技术实施例提供的一种基板的触控区域的俯视结构示意图； 图4为本专利技术实施例提供的一种基板的俯视结构不意图； 图5a为在图4基础上沿BB'向的剖视示意图一； 图5b为在图4基础上沿BB'向的剖视示意图二；当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板，包括周边区域；其特征在于，所述周边区域包括：依次设置在衬底基板上的白色光阻层和金属遮光层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：冯京，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11