OLED显示器件及其制备方法、显示面板和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种OLED显示器件及其制备方法、显示面板和显示装置，以解决现有技术制备的AMOLED显示器件精化程度较低，导致显示面板分辨率低的问题。OLED显示器件的制备方法，包括：提供形成有阳极层和空穴注入层的衬底基板；利用微机电系统工艺在第一成型基板上形成第一阴模、以及在第二成型基板上形成第二阴模；采用浸泡工艺使第一阴模内浸满空穴传输层材料溶液，固化处理得到空穴传输层，以及采用浸泡工艺使第二阴模内浸满有机发光层材料溶液，固化处理得到有机发光层；将第一阴模内的空穴传输层和第二阴模内的有机发光层依次通过转移载体转移到衬底基板上；在完成上述步骤的衬底基板上形成电子传输层、电子注入层和阴极层。

【技术实现步骤摘要】
OLED显示器件及其制备方法、显示面板和显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及OLED显示器件及其制备方法、显示面板和显示装置。
技术介绍
有机电致发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示器件是一种利用电流驱动有机半导体薄膜发光的器件，其结构属于夹层式结构，通常由阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极等组成。在外电场的作用下，电子和电空穴被注入至有机发光层，然后在发光层内复合后形成激子，由激子辐射衰减而发光。由于OLED显示器件具有高对比度、高亮度、自发光、色域宽和轻薄等特点，被视为比较具有发展前景的一代显示技术。有源矩阵有机电致发光二极管(ActiveMatrixOrganicLightEmittingDiode，AMOLED)显示器件是OLED显示器件的一种。对于R/G/B型AMOLED显示器件，一个AMOLED显示器件为一个包括R/G/B亚像素的像素单元，采用金属遮罩(FineMetalShadowMask，FMM)技术形成该AMOLED显示器件的R/G/B亚像素。但是，由于目前无法形成更精细的FMM，因此，相应的采用FMM技术制备的AMOLED显示器件的精细化程度较低，导致采用FMM技术制备的AMOLED显示器件的显示面板的分辨率较低。虽然，现有技术中，可以白光OLED加色阻的设计来提高AMOLED显示器件的精细化程度，但是由于色阻会使光透过率降低，因此该方法制备的AMOLED显示器件的亮度大大降低。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种OLED显示器件及其制备方法、显示面板和显示装置，以解决现有技术制备的AMOLED显示器件精细化程度低，导致显示面板分辨率低的问题。本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的：本专利技术实施例提供一种OLED显示器件的制备方法，所述OLED显示器件对应一个像素单元，包括：提供形成有阳极层和空穴注入层的衬底基板；提供第一成型基板和第二成型基板，利用微机电系统(MicroElectroMechanicalSystems)工艺在所述第一成型基板上形成第一阴模、以及在所述第二成型基板上形成第二阴模；其中，所述第一阴模用于制备与所述像素单元的亚像素对应的空穴传输层，所述第二阴模用于制备与所述像素单元的亚像素对应的有机发光层；采用浸泡工艺使所述第一阴模内浸满空穴传输层材料溶液，固化处理得到空穴传输层，以及采用浸泡工艺使所述第二阴模内浸满有机发光层材料溶液，固化处理得到有机发光层；将所述第一阴模内的所述空穴传输层和所述第二阴模内的所述有机发光层依次通过转移载体转移到所述衬底基板上；在完成上述步骤的所述衬底基板上形成电子传输层、电子注入层和阴极层。本实施例中，通过微机电系统工艺形成用于制备亚像素的空穴传输层的第一阴模、以及形成用于制备亚像素的有机发光层的第二阴模，能够得到精细度较高的空穴传输层和有机发光层，从而使制备形成的OLED显示器件的像素更精细，应用于显示面板时，能够提高显示面板的分辨率。优选的，所述采用浸泡工艺使所述第一阴模内浸满空穴传输层材料溶液，以及采用浸泡工艺使所述第二阴模内浸满有机发光层材料溶液之前，还包括：分别在所述第一阴模内和所述第二阴模内形成脱模层。本实施例中，在所述第一阴膜和所述第二阴模内形成脱模层，有利于提高效率。优选的，所述脱模层的材料为表面活性剂。优选的，将所述第一阴模内的所述空穴传输层和所述第二阴模内的所述有机发光层依次通过转移载体转移到所述衬底基板上，具体包括：将所述第一成型基板与第一转移载体对位贴合并脱模，使所述空穴传输层转移至所述第一转移载体上，继续将所述第一转移载体与所述衬底基板对位贴合并剥离所述第一转移载体，使所述空穴传输层贴合于所述衬底基板上；将所述第二成型基板与第二转移载体对位贴合并脱模，使所述有机发光层转移至所述第二转移载体上，继续将所述第二转移载体与所述衬底基板对位贴合并剥离所述第二转移载体，使所述有机发光层贴合于所述衬底基板上。优选的，剥离所述第一转移载体和剥离所述第二转移载体时的环境温度为小于5℃。优选的，采用浸泡工艺使所述第一阴模内浸满空穴传输层材料溶液之前，以及采用浸泡工艺使所述第二阴模内浸满有机发光层材料溶液之前，还包括在真空环境下完成空穴传输层材料溶液和有机发光层材料溶液的调配。优选的，与所述像素单元的不同亚像素相对应的不同所述第一阴模的深度相等。优选的，与所述像素单元的不同亚像素相对应的不同所述第二阴模的深度相等。优选的，所述第一成型基板和所述第二成型基板为石英基板。本专利技术实施例有益效果如下：通过微机电加工工艺形成用于制备亚像素的空穴传输层的第一阴模、以及形成用于制备亚像素的有机发光层的第二阴模，能够得到精细度较高的空穴传输层和有机发光层，从而使制备形成的OLED显示器件的像素更精细，应用于显示面板时，能够提高显示面板的分辨率。本专利技术实施例还提供一种有机发光二极管显示器件，采用上述实施例提供的制备方法制备。本专利技术实施例还提供一种显示面板，包括如上实施例提供的所述OLED显示器件。本专利技术实施例还提供一种显示装置，包括如上实施例提供的所述显示面板。本专利技术实施例有益效果如下：通过微机电系统工艺形成用于制备亚像素的空穴传输层的第一阴模、以及形成用于制备亚像素的有机发光层的第二阴模，能够得到精细度较高的空穴传输层和有机发光层，从而使制备形成的OLED显示器件的像素更精细，应用于显示面板和显示装置时，能够制备更高分辨率的显示面板和显示装置。附图说明图1为本专利技术实施例提供的OLED显示器件的制备方法的流程图；图2为本专利技术实施例提供的第一种OLED显示器件的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的第二种OLED显示器件的结构示意图。具体实施方式下面结合说明书附图对本专利技术实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。参见图1，本专利技术实施例提供一种OLED显示器件的制备方法，OLED显示器件对应一个像素单元，包括：101，提供形成有阳极层和空穴注入层的衬底基板。102，提供第一成型基板和第二成型基板，利用微机电系统工艺在第一成型基板上形成第一阴模、以及在第二成型基板上形成第二阴模；其中，第一阴模用于制备与像素单元的亚像素对应的空穴传输层，第二阴模用于制备与像素单元的亚像素对应的有机发光层。对于OLED显示器件而言，空穴传输层和有机发光层是否精细，尤其有机发光层是否具有高的精细度，关乎OLED显示器件是否具有高的精细度。由于微机电系统工艺直接在成型基板(例如第一成型基板和第二成型基板)上形成第一阴模和第二阴模，因此，第一阴模和第二阴模可以达到较高的精细化程度，而第一阴模用于制备与像素单元的亚像素对应的空穴传输层，第二阴模用于制备与像素单元的亚像素对应的有机发光层，在第一阴模和第二阴模精细化程度较高的情况下，相应的，能够得到精细化程度较高的空穴传输层和有机发光层，因此，可以得到精细化程度较高的OLED显示器件。优选的，与像素单元的不同亚像素相对应的不同第一阴模的深度相等。相似的，与像素单元的不同亚像素相对应的不同第二阴模的深度相等本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种OLED显示器件的制备方法，所述OLED显示器件对应一个像素单元，其特征在于，包括：提供形成有阳极层和空穴注入层的衬底基板；提供第一成型基板和第二成型基板，利用微机电系统工艺在所述第一成型基板上形成第一阴模、以及在所述第二成型基板上形成第二阴模；其中，所述第一阴模用于制备与所述像素单元的亚像素对应的空穴传输层，所述第二阴模用于制备与所述像素单元的亚像素对应的有机发光层；采用浸泡工艺使所述第一阴模内浸满空穴传输层材料溶液，固化处理得到空穴传输层，以及采用浸泡工艺使所述第二阴模内浸满有机发光层材料溶液，固化处理得到有机发光层；将所述第一阴模内的所述空穴传输层和所述第二阴模内的所述有机发光层依次通过转移载体转移到所述衬底基板上；在完成上述步骤的所述衬底基板上形成电子传输层、电子注入层和阴极层。

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示器件的制备方法，所述OLED显示器件对应一个像素单元，其特征在于，包括：提供形成有阳极层和空穴注入层的衬底基板；提供第一成型基板和第二成型基板，利用微机电系统工艺在所述第一成型基板上形成第一阴模、以及在所述第二成型基板上形成第二阴模；其中，所述第一阴模用于制备与所述像素单元的亚像素对应的空穴传输层，所述第二阴模用于制备与所述像素单元的亚像素对应的有机发光层；采用浸泡工艺使所述第一阴模内浸满空穴传输层材料溶液，固化处理得到空穴传输层，以及采用浸泡工艺使所述第二阴模内浸满有机发光层材料溶液，固化处理得到有机发光层；将所述第一阴模内的所述空穴传输层和所述第二阴模内的所述有机发光层依次通过转移载体转移到所述衬底基板上；在完成上述步骤的所述衬底基板上形成电子传输层、电子注入层和阴极层。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述采用浸泡工艺使所述第一阴模内浸满空穴传输层材料溶液，以及采用浸泡工艺使所述第二阴模内浸满有机发光层材料溶液之前，还包括：分别在所述第一阴模内和所述第二阴模内形成脱模层。3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述脱模层的材料为表面活性剂。4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，将所述第一阴模内的所述空穴传输层和所述第二阴模内的所述有机发光层依次通过转移载体转移到所述衬底基板上，具体包括：将所述第一成型基板与第一转移载体对位贴合并脱模，使所述空穴传输层...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨久霞，白峰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11