一种有机发光显示器的像素的制造方法技术

本发明专利技术公开了一种有机发光显示器的像素的制造方法。所述像素包括多个子像素，任一子像素的制造方法包括：A、利用第一掩膜板将子像素蒸镀到转印膜上；B、将蒸镀有子像素的转印膜和基板进行对位；C、将第二掩膜板与转印膜进行对位，使所述第二掩膜板上的开口与转印膜上的子像素之间在第一方向上偏移一距离L；D、对转印膜进行加热，使转印膜上的子像素对应第二掩膜板上开口的部分转印到所述基板上。本发明专利技术通过热转印方式，在热转印时，利用两套或多套掩膜板之间的对位偏差，使得被转印到基板上的子像素大小相当于掩膜板开口大小的一部分，从而能够最大限度减小子像素以及像素的尺寸，突破掩膜板开口对像素尺寸的限制，得到更高分辨率的屏体。

【技术实现步骤摘要】
一种有机发光显示器的像素的制造方法
本专利技术涉及有机发光显示技术，尤其涉及一种有机发光显示器的像素的制造方法。
技术介绍
有机发光显示器（OLED）是主动发光器件。相比现有主流平板显示技术薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD),OLED具有高对比度，广视角，低功耗，体积更薄等优点，有望成为继LCD之后的下一代平板显示技术，是目前平板显示技术中受到关注最多的技术之一。为了提高显示器的分辨率而使得像素尺寸缩小之时，用于蒸镀红绿蓝（RGB）三色材料的掩膜板（mask）开口也会变小，受mask制备工艺的影响，此开口的尺寸是有限制的，因此，无法提高显示器的分辨率。图1为传统的像素排布方式，每个像素由R、G、B三个子像素组成。如图1所示的像素11，子像素12。图1A、图1B为对应于图1的两种蒸镀掩膜板（mask），如图1A、图1B所示，掩膜板（mask）13、15和蒸镀掩膜板（mask）开口14、16。所述蒸镀掩膜板（mask）开口14、16可以是缝（slit）或槽（slot）。掩膜板（mask）上的每个开口只能对应一个或一条相同颜色的子像素，这样分辨率不能做大，此外，受mask工艺水平的影响，掩膜板（mask）开口也不能过小。原因是利用该蒸镀工艺实现画素排列时，受mask开口极限的限制，像素的分辨率很难再提高。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术要解决的技术问题是提供一种有机发光显示器的像素的制造方法，可以有效降低子像素的尺寸，从而提高屏体的分辨率。为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种有机发光显示器的像素的制造方法，所述像素包括多个子像素，其中任一子像素的制造方法包括：A、利用第一掩膜板将子像素蒸镀到转印膜上；B、将蒸镀有子像素的转印膜和基板进行对位；C、将第二掩膜板与所述转印膜进行对位，使所述第二掩膜板上的开口与转印膜上的子像素之间在第一方向上偏移一距离L；D、对转印膜进行加热，使转印膜上的子像素对应第二掩膜板上开口的部分转印到所述基板上。进一步地，所述距离L小于第一掩膜板或第二掩膜板上开口的宽度A。进一步地，所述第一掩膜板与第二掩膜板为同一掩膜板，将所述第一掩膜板在第一方向上平移一距离L形成所述第二掩膜板。进一步地，所述第一掩膜板与第二掩膜板为同一掩膜板，所述第一掩膜板在第一方向上的两个侧边缘的宽度相差距离L，将所述第一掩膜板在第一方向上进行翻转形成所述第二掩膜板。进一步地，所述步骤C中，第二掩膜板上的开口与转印膜上的子像素之间在第二方向上偏移一距离P，所述第二方向与所述第一方向垂直。进一步地，所述第一掩膜板与第二掩膜板为同一掩膜板，将所述第一掩膜板在第一方向上平移一距离L，同时在第二方向上平移一距离P，形成所述第二掩膜板。进一步地，所述第一掩膜板与第二掩膜板为同一掩膜板，所述第一掩膜板在第一方向上的两个侧边缘的宽度相差距离L，在第二方向上的两个侧边缘的宽度相差距离P，将所述第一掩膜板在第一方向上和第二方向上同时翻转形成所述第二掩膜板。进一步地，所述步骤C中，所述第二掩膜板设置于转印膜外侧；所述步骤D中，通过激光穿过所述第二掩膜板上的开口对所述转印膜加热。本专利技术还提供了另一种有机发光显示器的像素的制造方法，所述像素包括多个子像素，其中任一子像素的制造方法包括：a、利用第一掩膜板将子像素蒸镀到转印膜上；b、依次利用第一过渡掩膜板至第N过渡掩膜板将转印膜上的子像素的一部分转印到第一过渡转印膜至第N过渡转印膜上，其中，所述N为正整数；c、将所述第N过渡转印膜和基板进行对位；d、将第二掩膜板与所述第N过渡转印膜进行对位，使所述第二掩膜板上的开口与第N过渡转印膜上的子像素之间在第一方向上偏移一距离L1；e、对所述第N过渡转印膜进行加热，使第N过渡转印膜上的子像素对应第二掩膜板上开口的部分转印到所述基板上。进一步地，所述步骤b中，每次转印时各过渡掩膜板上的开口与相对应的各过渡转印膜上的子像素在第一方向上偏移一距离L2。本专利技术所提供的有机发光显示器像素的制造方法，是通过热转印方式，利用两套或多套掩膜板（mask）的对位偏差形成子像素，在热转印时，两套或多套掩膜板之间的对位偏差，使得只有相当于掩膜板开口面积一部分的子像素会最终被转印到基板上，即被转印到基板上的子像素大小相当于掩膜板开口大小的一部分，从而能够最大限度减小子像素以及像素的尺寸，突破掩膜板（mask）开口对像素尺寸的限制，得到更高分辨率的屏体。附图说明图1为传统有机发光显示器的像素排布示意图；图1A为对应图1的一种mask开口示意图；图1B为对应图1的另一种mask开口示意图；图2为本专利技术的有机发光显示器像素的制造方法的流程示意图。图3A和图3B为本专利技术的有机发光显示器的像素的制造方法的第一实施例的工艺过程图。图3C是应用于图3A和图3B所示像素的制造方法实施例的一种掩膜板的实施例。图4A和图4B为本专利技术的有机发光显示器的像素的制造方法的第二实施例的工艺过程图。图5A和图5B为本专利技术的有机发光显示器的像素的制造方法的第三实施例的工艺过程图。具体实施方式下面结合附图及本专利技术的实施例对本专利技术的像素的制造方法作进一步详细的说明。本专利技术的核心思想在于：利用热转印技术，通过两次掩膜板（mask）或多次掩膜板的转印，在转印过程中，各掩膜板之间形成对位偏差，利用该对位偏差，使得只有相当于掩膜板开口面积一部分的子像素会最终被转印到基板上，即被转印到基板上的子像素大小相当于掩膜板开口大小的一部分，从而能够最大限度减小子像素以及像素的尺寸，突破掩膜板（mask）开口对像素尺寸的限制，得到更高分辨率的屏体。本专利技术中，有机发光显示器的像素包括多个子像素，例如每个像素由红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素构成，或者每个像素由红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色子像素构成等。如图2所示，每个子像素均可以由以下方法来制作：步骤21：利用第一掩膜板mask1将子像素蒸镀到转印膜（DonorFilm）上，得到蒸镀有子像素的转印膜；步骤22：将蒸镀有子像素的转印膜和基板进行对位，该基板可以是TFT（薄膜晶体管）基板或其它用于承载像素的基板；步骤23：将第二掩膜板mask2与所述转印膜进行对位，使所述第二掩膜板上的开口与转印膜上的子像素之间在第一方向上偏移一距离L；步骤24：对转印膜进行加热，使转印膜上的子像素对应第二掩膜板上开口的部分转印到所述基板上；步骤25：移除第二掩膜板及转印膜，得到带有子像素的基板。上述方法中，偏移的距离L应小于第一掩膜板或第二掩膜板上开口的宽度A。偏移的距离L过大会导致第二掩膜板上的开口与转印膜上的子像素没有重叠的部分，进而导致无法将转印膜上的子像素转印基板上。如图3A和图3B所示，为本专利技术的有机发光显示器的像素的制造方法的第一实施例的工艺过程图。本实施例中，第二掩膜板上的开口与转印膜上的子像素之间在横向上偏移一距离L。如图3A所示，为本专利技术的有机发光显示器的像素的制造方法第一实施例中，得到的蒸镀有子像素31的转印膜32，该转印膜32上的子像素31的宽度与第一掩膜板上开口的宽度相同，均为A。如图3B所示，为本专利技术的有机发光显示器的像素的制造方法第一实施例中，得到的带有子像素34的基板33。其中，子像素34的宽度相当于第一掩膜板或第二掩膜板上开口的宽度A减去偏移距离本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机发光显示器的像素的制造方法，所述像素包括多个子像素，其特征在于，其中任一子像素的制造方法包括：A、利用第一掩膜板将子像素蒸镀到转印膜上；B、将蒸镀有子像素的转印膜和基板进行对位；C、将第二掩膜板与所述转印膜进行对位，使所述第二掩膜板上的开口与转印膜上的子像素之间在第一方向上偏移一距离L；D、对转印膜进行加热，使转印膜上的子像素对应第二掩膜板上开口的部分转印到所述基板上。

【技术特征摘要】
1.一种有机发光显示器的像素的制造方法，所述像素包括多个子像素，其特征在于，其中任一子像素的制造方法包括：步骤A、利用第一掩膜板将子像素蒸镀到转印膜上；步骤B、将蒸镀有子像素的转印膜和基板进行对位；步骤C、将第二掩膜板与所述转印膜进行对位，使所述第二掩膜板上的开口与转印膜上的子像素之间在第一方向上偏移一距离L；步骤D、对转印膜进行加热，使转印膜上的子像素对应第二掩膜板上开口的部分转印到所述基板上。2.根据权利要求1所述的有机发光显示器的像素的制造方法，其特征在于，所述距离L小于第一掩膜板或第二掩膜板上开口的宽度A。3.根据权利要求1所述的有机发光显示器的像素的制造方法，其特征在于，所述第一掩膜板与第二掩膜板为同一掩膜板，将所述第一掩膜板在第一方向上平移一距离L形成所述第二掩膜板。4.根据权利要求1所述的有机发光显示器的像素的制造方法，其特征在于，所述第一掩膜板与第二掩膜板为同一掩膜板，所述第一掩膜板在第一方向上的两个侧边缘的宽度相差距离L，将所述第一掩膜板在第一方向上进行翻转形成所述第二掩膜板。5.根据权利要求1所述的有机发光显示器的像素的制造方法，其特征在于，所述步骤C中，第二掩膜板上的开口与转印膜上的子像素之间在第二方向上偏移一距离P，所述第二方向与所述第一方向垂直。6.根据权利要求5所述的有机发光显示器的像素的制造方法，其特征在于，所述第一掩膜板与第二掩膜板为同一掩膜板，将所述第一掩膜板在第一方向上平移一距离L，同时...

【专利技术属性】
技术研发人员：党鹏乐，邱勇，黄秀颀，高孝裕，刘周英，
申请(专利权)人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32