本发明专利技术提供一种微细凹凸转印用模具，其可以容易地识别具有微细凹凸结构的成形体的缺陷部位，并且在卷取该成形体时防止微细凹凸结构变形。所述微细凹凸转印用模具的特征在于，该模具用于制造表面具有周期为可见光的波长以下的多个凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部的光学物品，前述模具在表面具有转印区域，在该转印区域设置有具有与所述光学物品的凸部和凹部互补的尺寸形状的凹部和凸部，在前述转印区域设置标记部且前述凸部的高度比转印区域的其它部分的凸部的高度低。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，尤其涉及微 细凹凸转印用模具的制造方法以及该模具、使用该模具制作的防反射薄膜。
技术介绍
作为在光学物品表面形成微细凹凸结构的方法，是如下进行的方法：在辊状模子 (模具）周围配置长条状的基材，向辊状模子与基材之间填充活性能量射线固化性树脂组 合物，透过基材对活性能量射线固化性树脂组合物照射活性能量射线使其固化，将固化树 脂层和基材从辊状模子剥离，连续制造成形体。 如此连续制造的成形体有时根据使用的制品规格而被切断或裁切加工成规定的 形状。但是，所制造的成形体有时包含不满足要求特性的缺陷部位。为了避免这样的缺陷 部位而进行切断或裁切加工成规定的形状，通常对成形体实施标记，从而可以容易地识别/ 去除缺陷部位。 作为在成形体上标记缺陷部位等的方法有：在薄膜上直接标记的方法；和在模子 (模具）上形成标记，将其转印至成形体来进行标记的方法。 专利文献1公开了可以在片状制品的缺陷部位直接用笔实施标记的缺陷标记装 置。另外，专利文献2公开了使在片状制品的缺陷部分的附近的、该缺陷部分的宽度方向的 两端带有标记用的伤痕的缺陷标记方法。 另外，为了确定转印到成形体上的缺陷的位置与模具上的哪个位置相当而进行如 下方法：预先使辊状模子的周边部位带有伤痕来实施标记，通过缺陷部位与标记的位置比 较来确定模具上的缺陷部位。专利文献3公开了对模子的端部实施标记，在薄膜上转印周 期与模子的外周对应的标记的方法，专利文献4和5公开了制造的板、薄膜的检查方法。 现有专利文献 专利文献 专利文献1 :日本特开平9-304295号公报 专利文献2 :日本特开2002-303580号公报 专利文献3 :日本特开2011-220967号公报 专利文献4 :日本特开2011-226957号公报 专利文献5 :日本特开2012-26863号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题 近年，随着微细加工技术的进步，可以对成形体表面赋予纳米级的微细凹凸结构。 纳米级的微细凹凸结构可以发挥例如称作蛾眼效果的防反射功能、称作荷叶效应的拒水功 能这样来源于结构的功能，因此积极谋求纳米级的微细凹凸结构的工业上的利用。 使用赋予纳米级的微细凹凸结构的辊状模子连续制造的成形体有时根据使用的 制品规格而被切断或裁切加工成规定的形状，因此优选对成形体实施标记，可以容易地识 别/去除缺陷部位。 但是，本专利技术人等进行了研宄，结果发现，表面赋予了微细凹凸结构的成形体具有 称作荷叶效应的拒水功能等，因此难以像专利文献1公开的那样用笔标记、另外有时标记 容易消失。另外，作为实施标记的后续工序，在对成形体进行化学试剂处理等的情况下，有 时标记渗出消失。 另外，上述专利文献2记载的缺陷标记法是使薄膜带有伤痕而非用墨标记的方 法。若是这样的方法，则虽然在后续工序中标记不消失，但由于使薄膜带伤痕时形成了与 纳米级的微细凹凸结构相比非常大的凹凸，因此存在如下等问题：将薄膜卷取成辊状时，有 时伤痕转印到他处，有时与伤痕的部分重合地卷取的部分的微细凹凸结构由于伤痕引起变 形。 另外发现，专利文献3记载的那样使模子带有伤痕的方法中，在将成形体卷取成 辊状时，与标记部分重合的位置产生瘪痕那样的缺陷。若利用专利文献3记载的那样的使 模子带有伤痕的方法，则在成形体上形成与伤痕对应的凸部。如此形成的凸部与表面形成 的纳米级的微细凹凸结构相比非常大。可知将这样的具有凸部的成形体进行卷取时，在与 该凸部重合的部分形成的微细凹凸结构变形，进而产生缺陷。 进而明确，表面形成有纳米级的微细凹凸结构的成形体，尤其是防反射性能、透明 性优异，因此上述瘪痕这样的缺陷容易被察觉、制品的成品率大幅降低。 为了防止这样的缺陷产生，认为带有小于纳米级的微细凹凸结构的伤痕即可，但 难以简便地制成这样的伤痕、另外也难以用检查机器检出制成的伤痕。 进一步，将成形体卷取成辊状，在微小的伤痕上重叠多层成形体时，有时产生卷 褶，有时产生在卷褶的部分形成的纳米级的微细凹凸结构变形等问题。 用于解决问题的方案 本专利技术的专利技术人深入研宄，结果发现，容易地制造在卷取薄膜时不产生瘪痕地实 施了标记的微细凹凸转印用模子（模具）的方法，从而完成本专利技术。 根据本专利技术，提供一种用于制造光学物品的模具，其特征在于，该模具用于制造表 面具有周期为可见光的波长以下的多个凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部的光学 物品，前述模具具有转印区域，在该转印区域设置有具有与前述光学物品的凸部和凹部互 补的尺寸形状的凹部和凸部，在前述转印区域设置标记部且该标记部的凸部的高度比转印 区域的其它部分的凸部的高度低。 使用这样的模具制造的成形体由于纳米级的微细凹凸结构的凸部为大致相同的 高度，因此即使将成形体卷取成辊状时，也可以抑制卷褶的产生、可以防止微细凹凸结构变 形。另一方面，成形体上的标记部的凹部的高度比其它形成有凹部的区域的凹部的高度高 (即，凹部的深度比其它形成有凹部的区域的凹部的深度浅），由此光的反射率、透明性变 化，从而可以容易地识别标记部。 本专利技术的一个方式的特征在于，前述模具为通过对铝进行阳极氧化而制造的多孔 氧化铝模具，前述标记部是使前述多孔氧化铝模具与可以溶解前述多孔氧化铝模具的蚀刻 液接触而形成的。 本专利技术的一个方式的特征在于，前述标记部具有包含文字、几何形状、几何图案、 识别记号中的至少一种的表面形状。另外，本专利技术的一个方式的特征在于，前述模具的外形 为辊形状。 另外，根据本专利技术，提供一种光学物品，其特征在于，该光学物品在表面具有周期 为可见光的波长以下的多个凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部，该光学物品具有 标记部且前述凹部的高度比其它形成有凹部的区域的凹部的高度高。 本专利技术的一个方式的特征在于，前述标记部具有包含文字、数字、几何形状、几何 图案、识别记号中的至少一种的表面形状。 另外，根据本专利技术，提供一种模具的制造方法，其特征在于，其为表面具有周期为 可见光的波长以下的多个凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部的模具的制造方法， 该制造方法具有：凹凸形成工序，在前述模具的表面形成前述凸部和前述凹部；标记工序， 使形成有前述凸部和前述凹部的区域的一部分与用于溶解前述模具的液体接触，使前述凸 部的高度比通过前述凹凸形成工序形成的凸部的高度低。 本专利技术的一个方式的特征在于，前述凹凸形成工序包括：阳极氧化处理，对铝母材 进行阳极氧化，在前述铝母材的表面形成微细凹结构；和扩大处理，使前述微细凹结构与蚀 刻液接触，扩大前述微细凹结构的口径。 本专利技术的一个方式的特征在于，前述标记工序使用的液体与前述扩大处理使用的 蚀刻液为同一组成。 本专利技术的一个方式的特征在于，前述标记工序使用的液体和前述蚀刻液包含磷 酸。 本专利技术的一个方式的特征在于，前述标记工序使用的液体的20°C下的粘度为 0· 5 ~5000cP〇 本专利技术的一个方式的特征在于，前述标记工序使用的液体的20°C下的粘度为1~ 1500cP〇 本专利技术的一个方式的特征在于，前述标记工序使附着有前述液体的部件与前述模 具接触。 另外，本专利技术的一个方式提供一种表面具有微细凹凸结构的薄膜的制造装置，其 特征在于，将通过特征如下的模具的制造方法制造的、表面具有微细凹凸结构的辊状模子本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于制造光学物品的模具，其特征在于，该模具用于制造表面具有周期为可见光的波长以下的多个凸部、和邻接的该凸部之间形成的多个凹部的光学物品，所述模具在表面具有转印区域，在该转印区域设置有具有与所述光学物品的凸部和凹部互补的尺寸形状的凹部和凸部，在所述转印区域设置标记部且所述凸部的高度比转印区域的其它部分的凸部的高度低。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：尾野本广志，中西志茉，河内秀树，地纸哲哉，
申请(专利权)人：三菱丽阳株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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