本发明专利技术公布了一种适用于UV‑CTP的免化学处理阴图感光组合物，包含：(1)一种－(X)－(Y)－(Z)－结构的不饱和水溶性聚合物，其特征在于，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料。本发明专利技术中，使用感光组合物后平印版感光度高、网点还愿性好，在紫外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷，并可得到高的耐印力。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种UV-CTP，具体是指一种适用于UV-CTP的免化学处理阴图感光组合物。
技术介绍
众所周知，平印版的制版过程至少需要两步 来完成，一是将涂布了感光组合物的印版通过蒙片(如，正片型和负片型蒙片)在特定的光源下曝光，由此而形成一个光影像潜影；二是把上面曝光之后的印版进行一个所谓的后续的显影步骤，通过这个过程，除去多余的涂层。预涂感光平版是以铝或聚酯为支持体的片状材料，并且能通过上述两个步骤制得同时具有亲油和亲水性的表面，适合于平版印刷。通常，在一个负片型系统中，曝光部位由于涂层的聚合或交联发生变化，变成显影液不溶或难溶，从而可以在显影步骤中将印版未曝光部位的涂层除去。反之，在一个正片型系统中，显影步骤是将印版曝光部位的材料除去。显影步骤通常包括用显影剂漂洗和洗涤，通常在一个含有显影剂的处理单元中进行显影。阳图型平印版所用的显影剂通常是强碱，阴图型显影液中除强碱外通常还含有有机溶剂，如苯甲醇等。当然，光影像的显影也有用加热方法或其它方式来完成的。上述的两种(即湿和热)显影过程的缺点是耗时、成本很高。而且，当采用挥发性有机物或强碱作为显影剂时，这些废液地处理将带来环境问题。随着印刷工业的发展和人们生活水平的提高，世界各国对环保的要求越来越高，这样就需要一种在印刷前不需要化学处理或者不需任何处理的印版，这不但会有利于环保，而且这还将有利于减少印刷成本、减少印刷间的空间及减少印刷作业的准备时间。在成像之后印刷之前不需处理的正片型印版的结构已被公开(如见美国专利No.5,1 02,771；5,225,316和5,314,785)。这些专利公开了以含有丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯聚合物的感光涂层为基础的印版和光酸产生系统。当图像暴露在光辐射下时，在光照射区域的聚合物分解形成亲水性，而在没有光照射的区域的聚合物保持亲墨性。在成像后印刷前不需处理的预涂感光负片型平版也是该领域已知的。在成像和印刷之间不需处理步骤印版的种类在美国专利No.3,231,378；3,285,745；和3,409,487中公开。这些印版含有一种包含酚醛树脂、环氧乙烷聚合物和光增感剂的感光组合物。当其暴露在光化辐射下时，使酚醛树脂发生氧化，从而增加了亲墨性。这些印版的缺点是它们在印刷过程中亲墨性易减少，以至于需要严格控制印刷机上的墨/水间的平衡才能保证正常的印刷，有时还会使印版变得不可操作。美国专利No.3,793,033公开了在组成物中加人羟基乙基纤维素酯。获得的印版不会瞎版(即印刷时平版不受墨，图像损失)，并只需对印刷机上的墨/水 平衡进行较少的控制。该组成的一个明显的不利条件是要用需固化的酚醛树脂来获得合适的印刷机印数。这样就需要在制得的印版前体上形成一个双层系统，即在含酚醛树脂层上应再加一层增感剂层。如果在固化后不涂布增感剂层那么酚醛树脂在固化时将分解。另一类在成像和印刷间不需处理的负片型印版是那些基于多层感光层的印版。通常， 如在美国专利No.4,600,679和4,104,072及欧洲专利公开号No.450,199中所描述的，这些结构在最靠近版基有一个亲水感光层，一个用于光硬化的附加层与第一层连接。这些结构通常用以芳香类重氮化合物为基础的负片型感光组合物作为最靠近版基的亲水层。这些印版的一个缺点是其有起脏(即背景部位上墨)和污染印刷机的趋势。这个缺点需要在印刷前先用合适的清洗剂(即润版液)清洗印版。因此，重氮化合物和树脂的加入对于用于“无处理”版的印版是有害的。PCT申请号No.93-05446中公开的印版，其中亲水层中没有重氮成分， 因此消除了由于残留的未反应的重氮物质所引起的印刷机污染问题。所述的版包括版/版基，最接近版基的感光聚合亲水层，和一个第二靠近版基的隔开的感光聚合物疏水层。感光亲水层是以不含重氮化合物的可聚合物质为基础版的官能度是通过两个层曝光在光化辐射下失去水溶性和硬化而获得的。该版只需一个装有墨和润版液的印刷机以在曝光后获得好的印刷品，而不需在印刷前进行预洗版。由于该结构有外部疏水层，如果在印刷前不 处理除去背景部分的疏水物质那么就不能获得与常规的版相同的着水着墨性能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种适用于UV-CTP的免化学处理阴图感光组合物，使得UV-CTP版在紫外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤，即可上机印刷、并可得到高的耐印力。本专利技术的目的通过下述技术方案实现：一种适用于UV-CTP的免化学处理阴图感光组合物，包含以下六种组分：(1)一种 -(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜 料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元；X选自乙烯磺酸、异戊二烯磺酸，X占共聚物的15％～20％摩尔比。Y是含有两个不饱和双键的支链的丙烯酸或 甲基丙烯酸共聚单元。Y是含有一个不饱和双键取代的GMA接枝的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。Y占共聚物的20％～40％摩尔比。Z是含一个不饱和双键取代基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚单元。Z占共聚物的30％～50％摩尔比。本专利技术与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：1、本专利技术中平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物之前，用本专利技术-(X)-(Y)-(Z) -结构的不饱和水溶性聚合物对铝版基进行亲水化处理。该平印版适合于使用UV-CTP制版机制版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，可以不使用显影液显影而使用自来水冲洗，即得到可印刷的平印版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，不经过任何处理直接可以装版到印刷机印刷；2、本专利技术由于采用组分和方法，使之具有诸多优点，即感光度高、网点还愿性好，在用紫外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷。印版图文部分亲油性好，空白部分不上脏，并可得到高的耐印力，尤其适合UV-CTP制版机。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例，对本专利技术作进一步的详细说明，本专利技术的示意性实施方式及其说明仅用于解释本专利技术，并不作为对本专利技术的限定。实施例1本专利技术适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物主要包含以下六种组分：(1)一种 -(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元。本专利技术中X选自乙烯磺酸、异戊 二烯磺酸。X占共聚物的15％摩尔比。Y是含有两个不饱和双键的支链的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。或者，Y是含有一个不饱和双键取代的GMA接枝的丙烯酸或甲基丙烯酸共 聚单元。Y占共聚物的20％摩尔比。Z是含一个不饱和双键取代基团本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种适用于UV‑CTP的免化学处理阴图感光组合物，其特征在于：它主要包含以下六种组分：(1)一种‑(X)‑(Y)‑(Z)‑结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元；所述X选自乙烯磺酸、异戊二烯磺酸，X占共聚物的15％～20％摩尔比。
【技术特征摘要】
1.一种适用于UV-CTP的免化学处理阴图感光组合物，其特征在于：它主要包含以下六种组分：(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元；所述X选自乙烯磺酸、异戊二烯磺酸，X占共聚物的15％～20％摩尔比。2.根据权利要求1所述一种适用于UV-CTP的免化学处理阴图感光组合物，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：黎仕友，刘亚林，黄永生，杨志荣，
申请(专利权)人：成都新图新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51
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