【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】反应性介晶 专利
本专利技术涉及包含三联苯基的反应性介晶（RM)，包含它们的混合物和调制物，获自 该RM和RM混合物的聚合物，以及RM、RM混合物和聚合物在光学或电光学组件或器件如用 于液晶显示器（IXD)的光学延迟膜中的用途。 背景和现有技术 反应性介晶（RM)、包含它们的混合物或调制物、和自其获得的聚合物可用于制造 光学组件，如补偿、延迟或偏振膜、或透镜。这些光学组件可用于光学或电光学器件如LC显 示器。通常，冊或RM混合物通过原位聚合过程聚合。 制造具有高双折射的RM膜产品对于制造现代显示器器件如IXD的光学组件是非 常重要的。增加RM的双折射同时保持其可聚合并具有良好的物理性质是可能的，但需要将 特定的化学基团，如例如二苯乙炔基并入化合物。这些二苯乙炔基是相对反应活性的并通 常不适合光暴露，使得它们由于黄化或其它降解作用而难以用于许多光学应用。 因此，本专利技术的目的是提供改进的RM和RM调制物，其不具有现有技术已知的材料 缺陷。具体地，目的是提供适用于通过原位UV光聚合制备聚合物的RM和RM调制物，所述 RM和RM调制物具有高双折射，并在暴露于UV光之后显示出高黄化抗性。自以下描述，本发 明的其它目的对于专业人员而言立即变得显而易见。 本专利技术的专利技术人已发现这些目的可通过提供下文公开并要求保护的RM和RM调制 物实现。 专利技术概述 本专利技术涉及式I的化合物【主权项】1. 式I的化合物其中 P为可聚合基团， Sp为间隔基团或单键， L1、L2、L3彼此独立地为 P-Sp-、F、Cl、Br、I、-CN、-NO 2、-...
【技术保护点】
式I的化合物其中P为可聚合基团，Sp为间隔基团或单键，L1、L2、L3彼此独立地为P‑Sp‑、F、Cl、Br、I、‑CN、‑NO2、‑NCO、‑NCS、‑OCN、‑SCN、‑C(＝O)NR00R000、‑C(＝O)X、‑C(＝O)OR00、‑C(＝O)R0、‑NR00R000、‑OH、‑SF5、任选取代的甲硅烷基、具有1‑12个、优选1‑6个C原子的芳基或杂芳基、和具有1‑12个、优选1‑6个C原子的直链或支链烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰基氧基或烷氧基羰基氧基，其中一个或多个H原子任选地被F或Cl替代，r1、r2、r3彼此独立地为0、1、2、3或4，R00、R000彼此独立地表示H或具有1‑12个C原子的烷基，Y为CN、F、Cl、OCF3、OCH3或CF3。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：K·阿德莱姆，O·L·帕里，G·史密斯，P·E·萨克斯顿，M·纳姆特比，V·库克，J·萨根特，
申请(专利权)人：默克专利股份有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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