导电基板及制造该导电基板的方法技术

根据本发明专利技术的一种制备导电基板的方法，包括：1)在基板上形成导电图案；2)通过进行电镀在所述导电图案上的至少一部分区域形成第一暗化层；以及3)通过将所述导电图案浸渍到氧化剂溶液中而在所述导电图案上的至少一部分区域形成第二暗化层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本申请要求享有于2012年11月30日向韩国知识产权局提交的申请号为10-2012-0138371的韩国专利申请的优先权，其公开内容以整体引用的方式并入本文中。本专利技术涉及一种导电基板及制备该导电基板的方法。
技术介绍
一般而言，触摸屏可根据信号的检测方式而分类如下。即，在对其施加直流电压时，通过压力按压，凭借电流值或电压值的变化感测位置的电阻型；在对其施加交流电压时，利用电容耦合的电容型；在对其施加磁场时，随电压变化感测选定位置的电磁型等。
技术实现思路
[技术问题]本领域需要开发用以改善各个类型的触摸屏性能的技术。在此情况下，在不采用现有的氧化铟锡(ITO)而采用细金属线用于技术开发的模式的情况下，存在由于金属的高反射率而能看清其图案的问题。[技术方案]本专利技术提供一种制备导电基板的方法，包括：1)在基板上形成导电图案；2)通过进行电镀在所述导电图案上的至少一部分区域形成第一暗化层；以及3)通过将所述导电图案浸渍到氧化剂溶液中而在所述导电图案上的至少一部分区域形成第二暗化层。此外，本专利技术提供一种通过制备导电基板的方法而制备的导电基板。此外，本专利技术提供一种导电基板，包括：基板；导电图案，其设置于所述基板上且包含电连接区域和电绝缘区域；第一暗化层，其设置于所述电连接区域上；和第二暗化层，其设置于所述电绝缘区域上。此外，本专利技术提供一种包含所述导电基板的触摸屏。另外，本专利技术提供一种包含所述触摸屏的显示器。[有益效果]根据本专利技术，在包含设置于有效屏幕部分的导电图案的触摸屏中，将暗化层引入到所述导电图案的可视面以防止所述导电图案的反射而不影响所述导电图案的导电性，且额外引入了所述可视面的侧边暗化层以提高暗化程度，因而改善了所述导电图案的隐蔽。另外，通过引入上述的暗化层而可以进一步提高触摸屏的对比特性。附图说明图1和2为示意性图示了根据本专利技术的示例性的实施方式的导电基板的图。图3为图示了根据本专利技术的示例性的实施方式的用于测量反射率的装置的构造和设计的图。具体实施方式下文中，将更加详细地描述本专利技术。一般来说，触摸屏采用的是基于ITO的导电膜，但存在的问题是，当将ITO应用于大面积的触摸屏时，由于本身的RC延迟而识别速度较低。为了解决这个问题，进行了引入额外的补偿芯片的尝试，但又有价格上涨的问题。为了解决这个问题，许多公司正在开发通过采用金属图案以取代ITO导电膜的技术。然而，这个技术的缺点是，在采用了普通的单一金属的情况下，由于金属的高反射率，就可见性而言，人眼能很好地看清图案，且由于相对于外界光的高的反射和雾度值，还可能会产生眩光。因此，本专利技术的专利技术人已经进行了能够改善触摸屏中的导电图案的可见性和外界光的反射特征的研究，所述触摸屏包含设置于有效屏幕部分的导电图案，所述触摸屏与在相关领域中采用基于ITO的导电膜的触摸屏不同。此外，在相关领域的产品(如PDP滤光器)中采用的暗化技术可通常分为三种类型。一种方法是通过运用金属的导电特征来进行的电镀法，此方法的缺点是，在所述方法中可赋予暗化层本身导电性，而切断电(electrically cut)的部分没有电镀上。另一种方法是通过氧化金属的表面来得到暗化的方法，此方法的缺点是，由于不论是否切断电特性都可进行暗化，但氧化物膜是形成在暗化部分中，因此，对应的部分可能不会导电。最后一种方法是无电镀法，此方法的缺点是，由于需要无电镀的预处理，所述无电镀法可能不适用于小厚度的薄膜，再者，还需要用以延长较低的无电镀时间的额外预处理步骤以及相当于无电镀的晶种的层。为了克服所述缺点，可以提供了一种通过电镀来暗化全部的金属的方法，在此情况下，存在的缺点是，在采用细金属线的触摸屏的实际制备过程中，与所述细金属线电连接的部分和与所述细金属线电绝缘的部分共存，因此，当应用电镀时，不可能暗化电绝缘的部分。此外，当应用金属的氧化时，存在的缺点是，由于通过采用如柔性印刷电路板(FPCB)的部件而与其它装置相连接的部分的表面的氧化，最终可能不会实现电连接。因此，为了解决上述问题，本专利技术是致力于提供一种通过混合电镀法和金属的氧化方法来暗化设置于基板上的导电图案的方法。根据本专利技术的示例性的实施方式的一种制备导电基板的方法，包括：1)在基板上形成导电图案；2)通过进行电镀在所述导电图案上的至少一部分区域形成第一暗化层；以及3)通过将所述导电图案浸渍到氧化剂溶液中而在所述导电图案上的至少一部分区域形成第二暗化层。在本专利技术中，所述暗化层并非指的是设置成暗化层的层的颜色或吸光率本身显示黑色，而指的是当所述暗化层被构成导电层的金属和由所述金属构成的图案层压时，由于反射率和光吸收特征而使得具有暗化了看到的颜色的特性的层。在本专利技术中，在包含设置于有效表面部分的导电图案的触摸屏中，发现所述导电图案的光反射主要影响着导电图案的可见性，而本专利技术是致力于改善此问题而做出的。详细的说，在现有的基于ITO的触摸屏中，由于所述ITO本身的高透明度，由于导电图案的反射的问题不会明显显现，但发现导电图案的反射性和光吸收特征对在包含设置于有效屏幕部分的导电图案的触摸屏中的线条的察觉发挥了关键的影响。详细地说，当暗化层粘附于具有高反射率的层(如导电图案)时，所述暗化层在特定的厚度条件下具有相消性干涉和自身光吸收性，因而通过类似地调节所述暗化层上的光反射和穿过所述暗化层的所述导电图案的光反射，与此同时，在所述特定的厚度条件下，也引导了两种光之间的相消性干涉，而展现出通过所述导电图案降低反射率的效果。在此情况下，所述暗化层优选具有比所述导电图案低的反射率。由此，相较于使用者直接观看所述导电图案的情况，可降低光的反射率，因此，所述导电图案的可见性可大大降低。在本专利技术中，所述基板的材料可根据需要应用根据本专利技术的导电基板的领域适当选择，作为其优选的实例，有玻璃或无机材料基板、塑料基板或膜，但所述材料不限于此。所述导电图案可包括通过导电金属线形成的图案，优选所述导电图案的材料具有优异的导电性且易于蚀刻。一般而言，所述具有优异导电性的材料所具有的缺点是反射率高。然而，在本专利技术中，通过采用所述暗化层，使得采用所述具有高反射率的材料可以形成所述导电图案。在本专利技术中，即使采用具有70-80％的总反射率的材本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备导电基板的方法，包括：1)在基板上形成导电图案；2)通过进行电镀在所述导电图案上的至少一部分区域形成第一暗化层；以及3)通过将所述导电图案浸渍到氧化剂溶液中而在所述导电图案上的至少一部分区域形成第二暗化层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.11.30 KR 10-2012-01383711.一种制备导电基板的方法，包括：
1)在基板上形成导电图案；
2)通过进行电镀在所述导电图案上的至少一部分区域形成第一暗
化层；以及
3)通过将所述导电图案浸渍到氧化剂溶液中而在所述导电图案上
的至少一部分区域形成第二暗化层。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包含电连接
区域和电绝缘区域，以及
所述第一暗化层形成于所述电连接区域上。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包含电连接
区域和电绝缘区域，以及
所述第二暗化层形成于所述电绝缘区域上。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包含由导电
金属线形成的图案。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一暗化层或所述第
二暗化层包含选自金属、金属合金、金属氧化物、金属氮化物、金属
氮氧化物和金属碳化物中的一种或多种。
6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述金属包括选自Ni、
Mo、Ti、Cr、Al、Cu、Fe、Co、Ti、V、Au和Ag中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：
在所述基板上的导电图案的形成之前，在所述基板上形成第三暗
化层。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第三暗化层是通过沉
积法、光刻法或印刷法在所述基板上形成的。
9.一种导电基板，其通过权利要求1至8中任一项所述的用于制
备导电基板的方法制备。
10.一种导电基板，包括：
基板；
导电图案，其设置于所述基板上且包含电连接区域和电绝缘区域；
第一暗化层，其设置于所述电连接区域上；以及
第二暗化层，其设置于所述电绝缘区域上。
11.根据权利要求10所述的导电基板，其中，所述第一暗化层或
第二暗化层设置于所述导电图案的上表面和侧边的至少一部分。
12.根据权利要求10所述的导电基板，其中，包含所述导电图案
和第一暗化层的层的厚度不同于包含所述导电图案和第二暗化层的层
的厚度。
13.根据权利要求10所述的导电基板，其中，除了与所述基板相
接触的导电图案的表面之外，所述第一暗化层与所述导电图案的剩余
表面的至少一部分相接触。
14.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄智泳，成知玹，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR