阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置制造方法及图纸

技术编号:11757876 阅读:65 留言:0更新日期:2015-07-22 11:29
本发明专利技术实施例提供一种阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置。该阵列基板包括:基板,包括一显示区域和非显示区域;平坦化层,形成在基板上,平坦化层在非显示区域设有一凹槽,凹槽用于容置控制单元;导电走线,形成在平坦化层上,从所述显示区域延伸至所述非显示区域的凹槽;第一绝缘层,覆盖在所述导电走线上;遮罩层,设置在所述第一绝缘层上,且至少遮盖非显示区域的导电走线。本发明专利技术通过在平坦化层非显示区域凹槽的台阶处形成一遮罩层来遮盖绝缘层下方的导电走线,从而在采用光刻胶刻蚀工艺刻蚀绝缘层时,能够以遮罩层遮盖保护绝缘层,避免台阶处的绝缘层被刻蚀,从而能够避免绝缘层下方的导电走线暴露在空气中,发生腐蚀断线。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术实施例涉及触控显示设备技术,尤其涉及一种阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置
技术介绍
随着电子科技的发展,显示装置的功能并不仅仅局限于接收视频信号而后进行显示,现今显示装置还集成有触控功能,即能够根据操作者对显示装置的触摸操作信息,输入控制指令。具有触控功能的显示器是基于功能丰富化的技术产生的,比较常见的触控技术有内嵌式(In-cell)触控技术和外挂式(On-cell)触控技术。其中,In-cell触控技术是指将触摸结构集成到显示面板内部的技术,On-cell触控技术是指将触摸结构功能嵌入到彩膜基板和偏光板之间的方法。由于In-cell触控技术能够使显示器更轻薄,因此更被关注。如图1A所示,现有触控显示面板通常包括基板101,基板101包括显示区域102和非显示区域103,基板101的显示区域102中形成有扫描线104、数据线105、晶体管开关106和像素电极107,还形成有用于实现触控功能的触控电极108,以及向触控电极108传输触控信号的触控电极走线109。触控电极108 —般与多个像素电极107所在区域对应。一般在扫描线104、数据线105和晶体管开关106的绝缘层之上设置有平坦化层110,如图1B所示(图1B仅示出绝缘层(ILD)上方的层次结构),将触控电极走线109形成在平坦化层110上。触控电极走线109上覆盖有第一绝缘层111,触控电极108形成在第一绝缘层111上,触控电极108上还覆盖有第二绝缘层112,像素电极107形成在第二绝缘层112上。非显示区域103形成在显示区域102的周边,平坦化层110在非显示区域103中会刻蚀形成凹槽120,凹槽120典型是形成在显示区域102的一侧,凹槽120中形成有控制单元接口(PAD) 116,用于连接并容置控制单元113,例如IC或FPC,因此该凹槽120又可称为IC槽。触控电极走线109需要从显示区域102的平坦化层110上延伸至该凹槽120中,形成扇出(fanout)区域115,进而与控制单元113相连,以获取触控信号,如图1B所示。现有技术存在的缺陷在于:在第二绝缘层112形成之后,需要采用光刻胶(PV) 114刻蚀工艺来刻蚀第二绝缘层112,如图1C所示(图1C仅示出绝缘层(ILD)上方的层次结构),以便在显示区域102形成过孔。由于在平坦化层110与凹槽120之间存在台阶,所以光刻胶114容易从台阶上向下方的凹槽120中流动,使得台阶上的光刻胶114涂层较薄,如图1C中虚线框中所示。在下一道制程中,刻蚀过孔时难以对台阶处的绝缘层进行保护,会发生刻蚀掉第一绝缘层111和第二绝缘层112,暴露出触控电极走线109的现象。台阶处的触控电极走线109可能会暴露在空气中,易发生腐蚀断线的问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置,以解决触控显示装置在平台化层的非显示区域凹槽台阶处,以暴露触控电极走线的问题。第一方面,本专利技术实施例提供了一种阵列基板,包括:基板,包括一显示区域和非显示区域;平坦化层,形成在所述基板上,所述平坦化层在非显示区域设有一凹槽,所述凹槽用于容置控制单元;导电走线,形成在所述平坦化层上,从所述显示区域延伸至所述非显示区域的凹槽;第一绝缘层,覆盖在所述导电走线上;遮罩层,设置在所述第一绝缘层上,且至少遮盖非显示区域的导电走线。进一步的,上述阵列基板中,优选的是:所述遮罩层采用导电材料制成。进一步的,上述阵列基板中,优选的是:所述第一绝缘层上设置有电极图案,所述遮罩层与所述电极图案采用相同材料同层形成。进一步的,上述阵列基板中,优选的是:所述导电走线为触控电极走线;所述电极图案为触控电极;所述电极图案、第一绝缘层和所述遮罩层上还覆盖有第二绝缘层;所述第二绝缘层上形成有像素电极,所述像素电极通过贯穿于所述第一绝缘层和第二绝缘层中的过孔与其他导电图案电连接。进一步的,上述阵列基板中,优选的是:所述控制单元为集成电路芯片或柔性印刷电路板。第二方面,本专利技术实施例还提供了一种触控显示面板,该面板包括第一方面所提供的阵列基板。第三方面,本专利技术实施例还提供了一种触控显示装置,该装置包括第二方面所提供的触控显示面板。第四方面,本专利技术实施例还提供了一种阵列基板的制造方法,包括:在基板的显示区域和非显示区域上形成平坦化层,并采用构图工艺在所述平坦化层的非显示区域刻蚀形成用于容置控制单元的凹槽;在所述平坦化层和基板上形成导电图层,并采用构图工艺刻蚀形成导电走线的图案,所述导电走线从所述显示区域延伸至所述非显示区域的凹槽;在所述导电走线上形成第一绝缘层;在所述第一绝缘层上采用构图工艺形成遮罩层,所述遮罩层至少遮盖非显示区域的导电走线。进一步的,在上述阵列基板的制造方法中,优选的是:在形成所述遮罩层之后,还包括:在所述遮罩层上形成第二绝缘层;在所述第二绝缘层和第一绝缘层中采用光刻胶刻蚀工艺刻蚀形成过孔;在所述第二绝缘层上形成电极材料层,并采用构图工艺刻蚀形成电极图案,所述电极图案通过所述过孔与其他导电图案电连接。进一步的,上述阵列基板中,优选的是:所述遮罩层采用导电材料制成。进一步的,上述阵列基板的制造方法中,优选的是,在所述第一绝缘层上采用构图工艺形成遮罩层包括:在所述第一绝缘层上形成触控电极材料层,并采用构图工艺刻蚀形成触控电极和遮罩层的图案。进一步的,上述阵列基板的制造方法中,优选的是,所述导电走线为触控电极走线;所述电极图案为像素电极。进一步的,上述阵列基板的制造方法中,优选的是,在基板的显示区域和非显示区域上形成平坦化层之前,还包括:在基板上形成数据线、扫描线和薄膜晶体管开关的图案,所述薄膜晶体管开关包括栅极、源极、漏极和有源层。本专利技术实施例的技术方案,通过在平坦化层非显示区域凹槽的台阶处形成一遮罩层来遮盖绝缘层下方的导电走线,从而在采用光刻胶刻蚀工艺刻蚀绝缘层时,能够以遮罩层遮盖保护绝缘层,避免台阶处的绝缘层被刻蚀,从而能够避免绝缘层下方的导电走线暴露在空气中,发生腐蚀断线。【附图说明】图1A为现有的一种阵列基板的俯视结构示意图;图1B为图1A中沿B-B线的剖视结构示意图;图1C为图1A中沿B-B线涂覆光刻胶状态的剖视结构示意图;图2A为本专利技术实施例一提供的一种阵列基板的俯视结构示意图;图2B为图2A中沿B-B线的剖视结构示意图;图2C为图2A中沿B-B线涂覆光刻胶状态的剖视结构示意图;图3A为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图;图3B为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图;图3C为本专利技术实施例提供的再一种阵列基板的结构示意图;图4为本专利技术实施例二提供的一种触控显示面板的结构示意图;图5为本专利技术实施例三提供的一种阵列基板的制造方法的流程图。【具体实施方式】下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术,而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。实施例一图2A为本专利技术实施例一提供的一种阵列基板的俯视结构示意图,图2B为图2A中沿B-B线的剖视结构示意图。如图2A和2B(图2B仅示出绝缘层(ILD)上方的层次结构)所示,该阵列基板包括基板本文档来自技高网
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阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置

【技术保护点】
一种阵列基板,其特征在于,包括:基板,包括一显示区域和非显示区域;平坦化层,形成在所述基板上,所述平坦化层在非显示区域设有一凹槽,所述凹槽用于容置控制单元;导电走线,形成在所述平坦化层上,从所述显示区域延伸至所述非显示区域的凹槽;第一绝缘层,覆盖在所述导电走线上;遮罩层,设置在所述第一绝缘层上,且至少遮盖非显示区域的导电走线。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴焕达彭涛
申请(专利权)人:厦门天马微电子有限公司天马微电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:福建;35

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