滤色片及其制备方法技术

技术编号:11579102 阅读:48 留言:0更新日期:2015-06-10 12:41
本发明专利技术提供一种滤色片,包括基底,以及相互间隔的设置在基底上的多个色阻;每个色阻包括两个边缘部与位于两个边缘部之间的主体部;其中至少一个色阻的至少一个边缘部的膜厚大于其主体部的膜厚,用于减弱该边缘部的透光率,在使用上述滤色片的液晶显示装置中,当某个像素的光线发生偏转入射到相邻像素所对应的色阻的边缘部上时,该色阻的边缘部由于透光率的减弱会阻挡住部分偏转光线穿过该色阻,从而可以改善色偏现象。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种、彩膜基板以及显示装置。
技术介绍
液晶显示器是一种采用液晶材料制作的显示装置,具有轻薄、功耗小和显示信息量大等特点。在液晶显示器中,液晶显示面板是其最重要的组成部件,其中,滤色片更是液晶显示面板中不可或缺的部分。图1为现有技术中液晶显不面板的结构不意图,如图1所不,通常的液晶显不面板主要由相对设置的阵列基板101、彩膜基板102,以及设置在阵列基板101和彩膜基板102之间的液晶层103构成,并且在其中的阵列基板101上设置多个像素104,多个像素104之间例如通过由不透光的金属线制作而成的数据线及扫描线间隔开,每个像素104包括用于允许光通过的透光区及除透光区之外的遮光区;在彩膜基板102上设置有滤色片100,滤色片100包括绿色色阻105a、红色色阻105b和蓝色色阻105c,绿色色阻105a、红色色阻105b和蓝色色阻105c分别与多个像素104的透光区--对应,且绿色色阻105a、红色色阻105b和蓝色色阻105c具有均一膜厚,另外,在各个色阻之间设置有黑矩阵106,黑矩阵106对应于各个像素104的透光区之外的遮光区,相应的,阵列基板21上用于间隔相邻像素104的数据线或扫描线与彩膜基板22上的黑矩阵106重叠。在液晶显示面板制备过程中,需要将制备好的阵列基板21和彩膜基板22进行对位贴合,在此贴合过程中会产生阵列基板21和彩膜基板22的对位偏差,导致彩膜基板22上的各个色阻与阵列基板21上的各个像素104的透光区之间差生偏差,此时,当光线穿透液晶层23后,在不同色阻的相邻区域,会发生混色现象,即发生色偏。尤其在观察者所在的位置与液晶显示面板的法线方向存在一定的夹角时,会看到明显的色偏,即产生大视角色偏,影响显示效果。随着人们对液晶显示图像分辨率的追求越来越高,阵列基板上的像素104和彩膜基板上的绿色色阻105a、红色色阻105b和蓝色色阻105c被设计的越来越小,由阵列基板21和彩膜基板22之间的对位偏差导致的色偏现象也越来越严重,降低了液晶显示面板的显示质量。现有技术中一种解决方式是可以通过增加黑矩阵106的宽度降低色偏,但上述方式会使得液晶显示面板的开口率减小,穿透率降低,同样会影响液晶显示面板的显示效果O
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术实施例提供一种滤色片及使用该滤色片的液晶显示面板,以解决现有技术中液晶显示面板的色偏问题。为达到上述目的,本专利技术提供了一种滤色片,其特征在于,包括基底,以及相互间隔的设置在所述基底上的多个色阻;每个所述色阻包括两个边缘部与位于两个边缘部之间的主体部;所述色阻包括第一色阻,所述第一色阻的至少一个边缘部的膜厚大于所述主体部的膜厚。进一步的,本专利技术提供了一种包含上述滤色片的液晶显示面板。另外,本专利技术还提供了一种滤色片的制备方法,形成所述色阻的步骤主要包括:步骤一:涂覆工艺,在基底上涂覆第一颜色着色层并固化;步骤二:曝光工艺,通过第一光掩模对第一颜色着色层进行曝光工艺,所述第一光掩模具有不透光部、透光部及部分透光部;步骤三:显影工艺,对经曝光了的第一颜色着色层显影,形成第一色阻,所述第一色阻的边缘部的膜厚大于所述第一色阻的主体部的膜厚;所述第一光掩模的部分透光部对应所述第一色阻的主体部。与现有技术相比,本专利技术液晶显示面板的每个色阻包括边缘部与主体部,且至少一个色阻的至少一个边缘部的膜厚大于其主体部的膜厚,用于减弱该边缘部的透光率,当某个像素的光线发生偏转入射到相邻像素所对应的色阻上时,该色阻的边缘部由于透光率的减弱会阻挡住部分偏转光线穿过该色阻,从而可以改善色偏现象。【附图说明】图1是现有技术中液晶显示面板的剖面示意图;图2是本专利技术实施例一中滤色片的俯视图;图3是沿着图2中V-V线的滤色片的截面图;图4是本专利技术实施例一中使用图2所示滤色片的液晶显示面板的剖面示意图;图5是本专利技术实施例二中彩膜基板的俯视示意图;图6是图4所不液晶显不面板的色偏改善效果仿真图;图7a_7f是图2所示滤色片的制备流程图;图8是本专利技术实施例二中液晶显示面板的剖面示意图;图9是本专利技术实施例三中滤色片的其中一部分的制备方法示意图;【具体实施方式】以下,根据附图详细地说明本专利技术的实施方式。另外,本专利技术并不限定于以下的各实施方式。图2是本专利技术实施例一中滤色片的俯视图,图3是沿着图2中V-V线的滤色片的截面图,如图2与图3所示,滤色片10包括基底11与位于基底11上的第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c。在本实施例中,第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c在滤色片10的行向上交错排列,第一色阻15a位于第二色阻15b与第三色阻15c之间;在滤色片10的列向上,单个色阻重复连续排列,如第一色阻15a所在列由第一色阻15a重复连续排列形成。滤色片10还包括覆盖第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的平坦层17,用于使滤色片10表面平坦化。具体的,滤色片10的每个色阻包括主体部151与位于主体部151两侧的边缘部152,边缘部152沿着滤色片10的列向延伸,其中至少一个色阻的至少一个边缘部152的膜厚大于该色阻的主体部151的膜厚。在本实施例中,第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的边缘部152的膜厚全部大于主体部151的膜厚,且第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的边缘部152分别具有相同的膜厚,优选的,该边缘部152的膜厚为2.7 μ m-3.7 μ m,第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的主体部151分别具有相同的膜厚,优选的,该主体部151的膜厚为1.7μπι-2.7μπι。进一步的,滤色片10还包括位于基板11上的黑矩阵13,黑矩阵13包括沿滤色片10的列向延伸的第一部分131与沿滤色片10的行向延伸的第二部分132,其中,第一部分131用于将滤色片10的行向上的相邻色阻间隔开。进一步的,在本实施例中,第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的边缘部152分别沿着黑矩阵13的第一部分131延伸,并与第一部分131部分重叠。优选的,相邻色阻上的相邻边缘部152相互接触,也就是说,相邻色阻上的相邻边缘部152之间无缝隙,可以增加滤色片10的表面平坦度。黑矩阵13的第一部分131沿滤色片10的行向上的宽度取为Wb,相邻两个边缘部152分别与Wb/2宽度的黑矩阵13相重叠。在本实施例中,相邻边缘部152在沿滤色片10的行向上的宽度W2为(Wb/2+2 ym),每个色阻的主体部151在沿滤色片10的行向上的宽度Wl为(Wb+4 μπι),也即,各色阻的主体部151的宽度为边缘部152的宽度的2倍,当然,各色阻的主体部151与边缘部152的宽度比例也可以根据透光率与色偏改善的需要设置为其它值,在此并不做特别限定。优选的,黑矩阵13的第一部分131沿滤色片10的行向上的宽度Wb的值为5μπι-6μπι,此时,主体部151的宽度Wl的值为9 μ m_10 μ m,边缘部152的宽度W2的值为4.5 μ m-5 μ m。优选的,在本实施例中,各个色阻的边缘部152在滤色片10的列向上的长度与每个色阻在滤色片10的列向上的长度相等,且等于黑矩阵13两相邻的第二部分132之间的宽度。优选的本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种滤色片,其特征在于,包括基底,以及相互间隔的设置在所述基底上的多个色阻,;每个所述色阻包括两个边缘部与位于两个边缘部之间的主体部;所述色阻包括第一色阻,所述第一色阻的至少一个边缘部的膜厚大于所述主体部的膜厚。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴树茂周秀峰
申请(专利权)人:厦门天马微电子有限公司天马微电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:福建;35

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