本实用新型专利技术提供了一种扇出型圆片级芯片正装封装结构，包括金属镀层(2)、键合层(3)、芯片(8)、导线9、导电层(6)、电介层(5)和塑封层(4)；芯片(8)通过导线9连接键合层(3)、芯片(8)和键合层(3)分别设置安装在金属镀层(2)上；塑封层是用填料包封芯片(8)、金属镀层(20、导线9、键合层(3)以及导电层(6)和电介层(5)的上面形成，导电层(6)和电介层(5)位于底部。结构多变，应用广泛；使用铜的含量降低有利于低成本化；I/O端密度一般不会偏低；另外本实用新型专利技术通过去除载板(1)并在底层进行再布线，实现了低成本且可用于各种封装形式以及较高的精准度，同时植球间距利用线路层中铜的部分可以明显降低，加强整体的支撑强度。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及集成电路封装
，尤其涉及一种扇出型圆片级芯片正装封装结构。
技术介绍
在当前的半导体行业中，电子封装已经成为行业发展的一个重要方面。几十年的封装技术的发展，使高密度、小尺寸的封装要求成为封装的主流方向。扇出WLP是在晶圆一级加工的埋置型封装，也是一个I/O数量大，集成灵活性高的主要先进封装工艺。而且，它能在一个封装内实现垂直和水平方向多芯片集成且不用衬底。这样，扇出WLP技术目前正在发展成为下一代封装技术，如多芯片、低剖面封装和3DSip。随着电子产品向更薄、更轻、更高引脚密度、更低成本方面发展，采用单颗芯片封装技术已经逐渐无法满足产业需求，一种新的封装技术即圆片级封装技术的出现为封装行业向低成本封装发展提供了契机。目前，圆片级扇出(Fan-out)结构，其通过重构圆片和圆片级再布线的方式，实现芯片扇出结构的塑封，最终切割成单颗封装体，但其仍存在如下不足:1)、其强度偏低，使扇出(Fan-out)结构的支撑强度不够，在薄型封装中难以应用；2)、扇出(Fan-out)结构较为单一，应用不够广泛；3)、现有工艺不利于产品的低成本化；4)、I/O端密度相对较低。如CN103552977A公开了一种微机电系统晶圆级封装结构，包括晶圆，该晶圆具有两个相对的侧面，其中一个侧面上规律的排布若干个芯片，所述封装结构还包括光学玻璃和环氧树脂圆片，所述环氧树脂圆片上对应所述晶圆的每个芯片位置处分别形成一通孔，该环氧树脂圆片的两个相对侧面分别与所述光学玻璃的一个侧面和晶圆的设有芯片的一个侧面对应压合形成一体，且压合时所述晶圆上的芯片分别对应所述环氧树脂圆片上的通孔。其采用环氧树脂作为封装材料强度偏低，使扇出(Fan-out)结构的支撑强度不够，在薄型封装中难以应用，其扇出(Fan-out)结构较为单一，应用不够广泛，其I/O端密度相对较低，待封装芯片在塑封工艺中容易出现偏移。
技术实现思路
为克服现有技术中存在的强度低、成本高、应用范围小以及制造时容易出现偏移等问题，本技术提供了一种扇出型圆片级芯片正装封装结构，包括金属镀层2、键合层3、芯片8、导电层6 ;其特征在于:芯片8通过导线9连接键合层3，芯片8和键合层3分别设置安装在金属镀层2上。所述芯片8正装固定于金属镀层2上，导电层6位于金属镀层(2)下与金属镀层(2)连接。进一步，扇出型圆片级芯片正装封装结构还包括导线9、电介层5和塑封层4 ;塑封层4包封芯片8、导电层6和电介层(5)，导电层6和电介层(5)位于塑封层4和金属镀层2之下；电介层(5)把金属层(6)分隔成不同区域。所述电介层5不完全覆盖金属镀层2。导电层6连接金属镀层2并且导电层有一层或多层。当导电层有多层时，多层导电层6相连形成导电线路:导电层6位置处设置有金属球7，通过焊接植入。金属球7为锡球。与现有技术相比，本技术的有益效果是:芯片8外面包覆塑封料，塑封料为酚醛树脂或者增强不饱和树脂材料，其强度高，使扇出(Fan-out)结构的支撑强度增强，适合在薄型封装应用；而且扇出(Fan -out)结构多变，应用广泛；使用铜的含量降低有利于低成本化；1/0端密度一般不会偏低；另外本技术通过去除载板I并在底层进行再布线，实现了低成本且可用于各种封装形式以及较高的精准度，同时植球间距利用线路层中铜的部分可以明显降低，加强整体的支撑强度。【附图说明】图1是本技术第一【具体实施方式】和第二【具体实施方式】中载板I的结构示意图；图2是本技术第一【具体实施方式】和第二【具体实施方式】中载板I上金属镀层2和覆I旲的结构不意图；图3是本技术第一【具体实施方式】和第二【具体实施方式】中载板I上去除覆膜后金属镀层2的结构示意图；图4是本技术第一【具体实施方式】和第二【具体实施方式】中载板I上金属镀层2和键合层3的结构示意图；图5是本技术第一【具体实施方式】和第二【具体实施方式】中包封后的结构示意图；图6是本技术第一【具体实施方式】中和第二【具体实施方式】去除载板的结构示意图；图7是本技术第一【具体实施方式】中和第二【具体实施方式】底部填充电介层5的结构示意图；图8是本技术第一【具体实施方式】和第二【具体实施方式】中填充电介层5和导电层6的结构示意图；图9是本技术第一【具体实施方式】、第二【具体实施方式】和第三【具体实施方式】中植球后的结构示意图；【具体实施方式】以下结合附图和实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。第一【具体实施方式】:如图1 -图9所示，一种扇出型圆片级芯片正装封装结构，通过如下步骤实现:步骤一:准备载板I和芯片8，载板I由玻璃片或硅片或者陶瓷片制成；步骤二:通过电镀、化学镀或溅射的方式在载板I上制作金属镀层2 ;步骤三:在载板I金属镀层2 —面进行贴膜，使膜料成阵列分布，并通过曝光显影处理去除部分金属镀层2 ;步骤四:通过光刻或者化学蚀刻的方法去除膜料；步骤五:在金属镀层2上设置键合层3，键合层3的材料为银或钯或其合金；步骤六:将芯片8正装安装固定在金属镀层2上并设置导线9连接芯片8和步骤五中设置的键合层3 ;步骤七:包封，用填料料将芯片8、导线9、金属镀层2以及载板I的电镀面完全包封形成塑封层4，填料采用非环氧树脂类材料，如酚醛树脂、不饱和树脂类聚合物其中的任一种。步骤八:采用光刻、化学蚀刻、减薄等方法去除载板I ;步骤九:在底部填充电介层5，电介层5不完全覆盖金属镀层2，电阶层采用有机高分子绝缘材料制成；步骤十:填充导电层6，导电层6和金属镀层2相连，导电层6采用铜或者其合金制成；步骤十一:重复步骤九和步骤十将多层导电层6相连制作成底层线路；当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种扇出型圆片级芯片正装封装结构，包括金属镀层(2)、键合层(3)、芯片(8)和导电层(6)；其特征在于：芯片(8)通过导线(9)连接键合层(3)，芯片(8)和键合层(3)分别设置安装在金属镀层(2)上；导电层(6)位于金属镀层(2)下与金属镀层(2)连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：石磊，
申请(专利权)人：南通富士通微电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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