【技术实现步骤摘要】
本技术属于一种法兰连接结构，具体涉及一种可阻隔X射线泄露的真空法.~*.0
技术介绍
大部分电子束加工设备，都是在真空密闭的环境下，利用高速运动的电子的能量作为热源加热或者融化金属的，在工艺过程中，具有很高能量的电子束流轰击到物质表面，由于电子束和金属作用有X射线产生，当电子束功率大于1kW时，产生的X射线就相当可观，这些X射线很容易从各个法兰连接接口处泄露，理论计算和实际测量都表明X射线的辐射强度人体的危害相当严重。因此，必须采取必要的措施，减低X射线的泄露，我国国标规定的每人每天的安全剂量小于0.05伦琴。当前冶金工业中所使用的电子枪功率已高达数百千瓦，甚至几千千瓦。目前，用于防护X射线的技术措施主要为某些最能吸收X射线的物质，例如铅等，将其做成一定厚度的隔板，使X射线通过隔板后的剂量低于容许值，即达到防护的目的。再者就是使操作者远离X射线源，但这样就需要有工业监控设备和遥控装置等。所以当前使用最广泛的X射线防护还是铅板屏蔽。
技术实现思路
本技术是为了克服现有技术中存在的缺点而提出的，其目的是提供一种可阻隔X射线泄露的真空法兰。本技术的技术方案是:一种可阻隔X射线泄露的真空法兰，包括通过螺栓连接的左法兰和右法兰，左法兰和右法兰中心均形成通孔，且左法兰通孔左侧和右法兰通孔右侧均连接有管道，所述左法兰相对右法兰的一侧自内向外分别形成凸台和左法兰散射槽，所述右法兰相对左法兰的一侧自内向外分别形成密封圈槽、凹台和右法兰散射槽，其中凹台与凸台相对应，右法兰散射槽与左法兰散射槽相对应；密封圈置于密封圈槽内，且与密封圈槽紧配合。所述左法兰和右法兰之间的间隙S...
【技术保护点】
一种可阻隔X射线泄露的真空法兰，包括通过螺栓（5）连接的左法兰（1）和右法兰（2），左法兰（1）和右法兰（2）中心均形成通孔，且左法兰（1）通孔左侧和右法兰（2）通孔右侧均连接有管道（4），其特征在于：所述左法兰（1）相对右法兰（2）的一侧自内向外分别形成凸台（6）和左法兰散射槽（8），所述右法兰（2相对左法兰（1）的一侧自内向外分别形成密封圈槽（10）、凹台（7）和右法兰散射槽（9），其中凹台（7）与凸台（6）相对应，右法兰散射槽（9）与左法兰散射槽（8）相对应；密封圈（3）置于密封圈槽（10）内，且与密封圈槽（10）紧配合。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张黎源，张晓卫，
申请(专利权)人：核工业理化工程研究院，
类型：新型
国别省市：天津;12
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