聚酯薄膜制造技术

本发明专利技术提供一种通过底涂层屏蔽低聚物的聚酯薄膜，更具体地讲，提供一种能够阻滞低聚物迁移并具有低的雾度变化率从而用作光学用途的低聚物阻滞聚酯薄膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酯薄膜
本专利技术涉及一种通过底涂层来屏蔽低聚物的聚酯薄膜，更具体地，涉及一种能够阻滞低聚物迁移并且具有低的雾度变化率从而用作光学用途的低聚物阻滞聚酯薄膜。
技术介绍
光学薄膜是一种用作显示器的光学构件的薄膜，它用作液晶显示器(LCD)背光单元(BLU)的光学材料，或者用作保护各种显示器(诸如LCD、等离子显示板(PDP)、触摸屏等)的表面的光学构件。在这种光学薄膜中，要求有优异的透明度和可见度，并且使用具有优异的机械和电学特性的双向拉伸聚酯薄膜作为基膜。在这种双向拉伸聚酯薄膜中，由于表面硬度低且耐磨性或耐擦伤性不足，所以当该薄膜用作各种显示器的光学构件时，因与物体摩擦或接触之故而容易发生表面损伤。因此，为了避免这种损伤，在薄膜表面上层叠硬质涂层，并且形成底涂层作为中间层，以提高聚酯薄膜(即基膜)和硬质涂层之间的紧密粘附。在这种用于显示器的聚酯薄膜中，产生了与低聚物相关的质量问题。作为质量问题的一个例子，在聚酯薄膜的后处理过程中，当在棱柱体涂布(prismcoating)或扩散涂布后的固化过程中加热时，低聚物在聚酯薄膜中发生迁移，这会引起白化现象，即表面变为白色，如图1所示。另外，如图2所示，会产生菱形痕迹现象，即，在制备出聚酯薄膜后的切割过程中所使用的菱形图案辊的压力下，形成菱形图案。在产生了如上所述的白化现象和菱形痕迹现象的情况下，薄膜卷会在过程中受到污染，并且，最终产品的光学特性会变差。为了防止聚酯薄膜中的低聚物发生迁移，有人在聚酯薄膜聚合时降低低聚物含量，但是，难以完全阻滞低聚物。另外，为了在聚酯薄膜上形成层压膜以控制低聚物的渗漏，日本专利特许公开No.2007-253511(2007年12月4日)公开了一种层压聚酯薄膜，作为一种在至少一个表面上具有层压膜的聚酯薄膜，在该层压聚酯薄膜中，将该薄膜加热至150℃持续60分钟后，在层压膜上析出的低聚物颗粒的平均尺寸就面积而言相当于10μm2或更小，并且低聚物颗粒的数目在100μm×100μm的视野内为100个或更少。上述专利技术是为了控制低聚物的渗漏，但是，并不能完全阻滞低聚物的渗漏。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的是，提供一种聚酯薄膜，该聚酯薄膜能够完全阻滞低聚物的渗漏。本专利技术的另一个目的是，提供一种聚酯薄膜，该聚酯薄膜能够抑制在进行热处理过程时由于低聚物的表面渗漏而引起的雾度增加，并且雾度变化率为0.1％或更低。技术方案为了实现上述目的，本专利技术人进行了研究并发现，通过使用特定的具有低聚物阻滞特性的水分散树脂组合物作为形成底涂层的组合物，可以阻滞低聚物的渗漏，从而可以制备出与现有技术相比加热后的雾度变化率非常低的聚酯薄膜，由此完成了本专利技术。另外，在所述水分散树脂组合物中使用具有特定结构的交联剂，从而可以进一步提高所述低聚物阻滞特性，并且可以提高涂层强度，由此提高了耐擦伤性和耐溶剂性。因此，可以减少进行后处理过程时所产生的外表缺陷。同时，本专利技术人发现，由于使用具有特定结构的交联剂可以进一步提高反应速率，所以，因薄膜形成过程的特性而会产生的交联剂的低的反应转化率可以得到提高，因底涂层中未反应的和剩余的交联剂之故而引起的底涂层的特性退化和雾度增大可以得到克服，并且由于交联度的增大所述聚酯薄膜具有更强的低聚物阻滞特性，从而完成本专利技术。在一个总的方面，一种聚酯薄膜包括聚酯基膜和底涂层，所述底涂层通过在所述聚酯基膜的一个表面或两个表面上涂布具有低聚物阻滞特性的水分散树脂组合物而形成，其中，所述聚酯薄膜在150℃下维持60分钟后，按照下述公式1得到的雾度变化率(△H)为0.1％或更低。[公式1]△H(％)＝Hf-Hi(在公式1中，Hf为所述薄膜在150℃下维持60分钟后的雾度(％)，而Hi为所述薄膜在加热之前的雾度。)所述底涂层可以具有60℃或更高的Tg、30％或更低的溶胀率、95％或更高的凝胶分数、以及1.3至1.4的密度。所述聚酯薄膜在150℃下加热60分钟后，在所述薄膜的表面上析出的低聚物颗粒的数目可以为10个/10000μm2或更少，并且其平均尺寸可以为20μm2/10000μm2或更小。所述水分散树脂组合物可以包括含缩水甘油基的可自由基聚合的不饱和单体共聚而成的丙烯酸树脂和水分散聚酯基树脂作为粘合剂树脂。在所述水分散树脂组合物中，所述含缩水甘油基的可自由基聚合的不饱和单体共聚而成的丙烯酸树脂A与所述水分散聚酯基树脂B的固体含量重量比(A:B)可以为20～80:80～20重量％。所述水分散树脂组合物可以包括所述粘合剂树脂和水，且固体含量为0.5至10重量％。所述水分散树脂组合物还可以包括0.1至0.5重量％的有机硅类润湿剂。所述水分散聚酯基树脂可以为包括磺酸碱金属盐的二羧酸组分的共聚物。所述水分散聚酯基树脂可以包含二甘醇，并且基于总的二醇组分，其含量为20至80摩尔％。所述水分散聚酯基树脂可以包括磺酸碱金属盐化合物，并且基于总的酸组分，其含量为6至20摩尔％。所述丙烯酸树脂可以包含含缩水甘油基的可自由基聚合的不饱和单体作为共聚单体，并且基于总的单体组分，其含量为20至80摩尔％。所述水分散树脂组合物还可以包括以化学式1和2表示的化合物中的任何一种化合物或者它们的混合物。[化学式1](在化学式1中，A1至A3均独立地为化学键或选自(C1-C10)亚烷基，而R1至R3均独立地选自氢和(C1-C10)烷基。)[化学式2](在化学式2中，A1至A3均独立地为(C1-C10)亚烷基，而B为阻滞剂。)以化学式1和2表示的化合物中的任何一种化合物或它们混合物的含量可以为0.1至10重量％。所述化学式1表示的化合物可以为以下化合物。所述聚酯基膜可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。所述聚酯基膜的厚度可以为25至250μm。所述底涂层的干燥涂布厚度可以为20至200nm。所述水分散树脂组合物可以在所述聚酯薄膜的制备过程中通过在线涂布方法进行涂布。如上所述的聚酯薄膜可以为用于显示器的薄膜。有益效果本专利技术所述的聚酯薄膜可以具有适于光学薄膜的光学特性、可以阻滞低聚物渗漏，并可以避免雾度增大。附图说明图1为照片，示出了低聚物发生了渗漏的聚酯薄膜中的白化现象；图2为照片，示出了低聚物发生了渗漏的聚酯薄膜中的菱形痕迹现象；图3示出了本专利技术的第一方面所述的聚酯薄膜的横截面；图4示出了本专利技术的第二方面所述的聚酯薄膜的横截面。[主要构件的详细说明]10：聚酯基膜20：第一底涂层30：第二底涂层具体实施方式在下文中，将详细地描述本专利技术。本专利技术的第一个方面，如图3所示，涉及一种包括聚酯基膜10和在其一个表面上的底涂层20的聚酯薄膜，其中，该聚酯薄膜在150℃下维持60分钟后，按照下述公式1得到的雾度变化率(△H)为0.1％或更低。[公式1]△H(％)＝Hf-Hi(在公式1中，Hf为所述薄膜在150℃下维持60分钟后的雾度(％)，而Hi为所述薄膜在加热前的雾度。)本专利技术的第二个方面，涉及一种包括聚酯基膜10和在其两个表面上的第一底涂层20、第二底涂层30的聚酯薄膜，其中，该聚酯薄膜在150℃下维持60分钟后，按照下述公式1得到的雾度变化率(△H)为0.1％或更低。[公式1]△H(％)＝Hf-Hi(在公式1中，Hf为所述薄膜在150℃下维持60分钟后的雾度(％)，而Hi为所述薄膜在加热前的雾本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚酯薄膜，包括：聚酯基膜；以及底涂层，所述底涂层通过在所述聚酯基膜的一个表面或两个表面上涂布具有低聚物阻滞特性的水分散树脂组合物而形成，其中，所述聚酯薄膜在150℃下维持60分钟后，按照下述公式1得到的雾度变化率(△H)为0.1％或更低，[公式1]△H(％)＝Hf‑Hi在公式1中，Hf为所述薄膜在150℃下维持60分钟后的雾度(％)，而Hi为所述薄膜在加热之前的雾度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.08.31 KR 10-2012-0096104;2012.09.28 KR 10-2011.一种聚酯薄膜，包括：聚酯基膜；以及底涂层，所述底涂层通过在所述聚酯基膜的一个表面或两个表面上涂布具有低聚物阻滞特性的水分散树脂组合物而形成，其中，所述水分散树脂组合物包括含缩水甘油基的可自由基聚合的不饱和单体共聚而成的丙烯酸树脂和水分散聚酯基树脂作为粘合剂树脂，其中，所述水分散树脂组合物包括化学式1表示的化合物、异氰酸酯基硬化剂中的任意一种或其混合物，其中，所述水分散聚酯基树脂包含二甘醇，并且基于总的二醇组分，其含量为20至80摩尔％，其中，所述丙烯酸树脂包含含缩水甘油基的可自由基聚合的不饱和单体作为共聚单体，并且基于总的单体组分，其含量为40至80摩尔％，其中，所述聚酯薄膜在150℃下维持60分钟后，按照下述公式1得到的雾度变化率△H为0.1％或更低，[公式1]△H＝Hf-Hi在公式1中，Hf为所述薄膜在150℃下维持60分钟后的雾度，而Hi为所述薄膜在加热之前的雾度，[化学式1]在化学式1中，A1至A3均独立地为化学键或选自C1-C10亚烷基，而R1至R3均独立地选自氢和C1-C10烷基。2.如权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，所述底涂层具有60℃或更高的Tg、30％或更低的溶胀率、95％或更高的凝胶分数、以及1.3至1.4的密度。3.如权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，在150℃下加热60分钟后，在所述薄膜的表面上析出的低聚物颗粒的数目为10个/10000μm2或更少，并且其平均尺寸为20μm2/10000μm2或更小。4.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：林美笑，曹恩惠，白尚铉，金时敏，
申请(专利权)人：可隆工业株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR