一种高真空原位储靶装置及其使用方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种高真空原位储靶装置及其使用方法，一腔体，所述腔体的内部设有若干层靶材层，并且每一所述靶材层具有若干靶材托盘，同时，若干层所述靶材层可在所述腔体的内部移动；所述腔体的外侧壁开设驳接接口，所述驳接接口安装接口阀门；真空泵，所述真空泵与所述腔体相连接。打开所述接口阀门，所述驱动装置驱动所述竖直杆上下升降和旋转，将需要取用的靶材托盘运动至所述接口阀门，所述靶材取用后关闭所述接口阀门，然后打开所述真空泵阀门和所述真空泵对所述腔体抽真空，以满足真空度要求。使用本发明专利技术，不但可以避免靶材污染，而且允许不破坏真空环境的情况下更换不同的靶材，有利于保护真空设备和提高制备效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种高真空原位储靶装置的
，尤其涉及一种应用于离子束溅射系统、磁控溅射系统、激光熔射沉积系统等物理气相沉积系统的可放置多个靶材的原位储靶装置。
技术介绍
靶材广泛应用于离子束溅射系统、磁控溅射系统、激光熔射沉积系统等物理气相沉积系统中。靶材种类很多，很多靶材对空气中的氧气、水汽等比较敏感，因此需要高度洁净的空间存放靶材。现有的靶材存放方式一般为真空干燥箱存放，真空干燥箱能够提供的真空度不高，一些特别活泼的靶材不能存放。现有物理气相沉积系统的薄膜沉积腔体中通常仅有几个靶位可以使用，不能完全满足多元复杂材料的制备要求。更换材料体系的时候需要打开真空腔体更换靶材，这样就会破坏真空腔体的真空环境，靶材遇到空气中的氧气、水汽等会造成靶材污染。一种现有的解决方法是增加靶位，从而提高靶材的容量。这种方法需要使用多个靶位造成成本增加，同时会增大真空腔体体积，这样既增加了设备成本又不利于快速获得较高真空环境。另一方面在薄膜沉积腔体放置过多靶材容易产生靶材之间交叉本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高真空原位储靶装置，其特征在于，包括：一用于储靶腔的腔体，所述腔体的内部设有若干层靶材层，并且每一所述靶材层具有若干用于放置靶材的靶材托盘，同时，若干层所述靶材层可在所述腔体的内部移动；所述腔体的外侧壁开设驳接接口，所述驳接接口连接外置真空腔体，并且所述驳接接口安装接口阀门，通过所述驳接接口用于存放或者取用所述靶材；还包括：真空泵，所述真空泵与所述腔体相连接。

【技术特征摘要】
1.一种高真空原位储靶装置，其特征在于，包括：
一用于储靶腔的腔体，所述腔体的内部设有若干层靶材层，并且每一所
述靶材层具有若干用于放置靶材的靶材托盘，同时，若干层所述靶材层可在
所述腔体的内部移动；
所述腔体的外侧壁开设驳接接口，所述驳接接口连接外置真空腔体，并
且所述驳接接口安装接口阀门，通过所述驳接接口用于存放或者取用所述靶
材；还包括：
真空泵，所述真空泵与所述腔体相连接。
2.根据权利要求1所述高真空原位储靶装置，其特征在于，若干层所述靶材
层包括一沿所述腔体内部从上至下的竖直杆，以及在所述竖直杆外侧壁向外
延伸的若干层分支杆层，每一所述分支杆层具有若干分支杆，并且每一所述
分支杆的头部安装所述靶材托盘。
3.根据权利要求2所述高真空原位储靶装置，其特征在于，所述竖直杆连接
一驱动装置，所述驱动装置驱动所述竖直杆绕自身旋转或者沿所述腔体的内
部上下移动。
4.根据权利要求1所述高真空原位储靶装置，其特征在于，所述腔体的底部
开设一真空泵接口，所述真空泵接口与所述真空泵连接，并且所述真空泵接
口安装一真空泵阀门，使得所述腔体的内部为真空环境。
...

【专利技术属性】
技术研发人员：向勇，张海涛，闫宗楷，叶继春，项晓东，
申请(专利权)人：宁波英飞迈材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33