一种用于真空离子镀膜的送气系统技术方案

技术编号:10872607 阅读:83 留言:0更新日期:2015-01-07 17:06
本实用新型专利技术涉及一种用于真空离子镀膜的送气系统,属于金属表面处理技术领域,它解决了现有技术中的送气系统气流混合不均匀,布气效果差的问题。本送气系统包括若干个进气管道和与进气管道连接的混合室,进气管道上设有进气控制阀,混合室的混合腔内具有阻流结构,混合室另一端连接有出气管道,出气管道上设有出气控制阀,出气管道的输出端与真空室内的布气管连接。本真空离子镀膜的送气系统采用MFC质量流量控制器可调节不同气体的流量,可实现不同工艺参数的调节;出气管道采用控制阀控制通断,可实现定向送气的目的;布气管的出气孔大小采用线性分布,其各个出气孔的出气量相对均匀,更有利于提升产品各个部位的工艺一致性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于真空离子镀膜的送气系统,其特征在于,包括若干个进气管道和与进气管道连接的混合室,所述的进气管道上设有进气控制阀,所述混合室的混合腔内具有阻流结构,所述的混合室另一端连接有出气管道,所述的出气管道上设有出气控制阀,所述的出气管道的输出端与真空室内的布气管连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:范玉山陈君
申请(专利权)人:苏州涂冠镀膜科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1