一种双色真空镀膜工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种双色真空镀膜工艺，包括以下步骤：在基材上用真空镀膜工艺镀制第一PVD膜；在第一PVD膜上涂覆漆膜；在漆膜上雕刻图案，雕刻深度等于或大于漆膜厚度；在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二PVD膜；去除漆膜。本发明专利技术双色真空镀膜工艺通过雕刻图案，可以得到边缘清晰度高的平面图案或凹陷的立体图案；图案颜色丰富，可采用现有任意的PVD颜色，不局限于Ti、Zr靶材的颜色。

【技术实现步骤摘要】
—种双色真空镀膜工艺[
]本专利技术涉及真空镀膜工艺，尤其涉及一种双色真空镀膜工艺。[
技术介绍
]传统的双色真空镀膜工艺在基材上真空镀两层膜，两层膜的颜色需要有明显差异；用曝光油墨涂覆外层真空镀膜面，曝光图案区域外的位置，使图案区域外的油墨固化；洗除未固化的油墨，脱退图案位置最上面一层的真空镀膜膜层；再脱退已固化的油墨，即得到双色真空镀膜的产品。传统的双色真空镀膜工艺存在以下缺点:1.因为需要采用退镀工艺脱掉最上一层PVD膜，脱膜的时间不能超过60秒，否则图案边缘的膜层会出现锯齿，因此，最上面一层膜只能采用Ti或Zr膜系结构的膜层，限止了双色真空镀膜的颜色，比如底色为黑色，面色为纯金色的双色真空镀膜就不能通过该工艺获得。真空镀膜常采用的Cr、T1、Zr、S1、Au靶材，而Cr、S1、Au材质的真空镀膜膜层脱退采用强氧化剂(如硝酸、高锰酸钾、双氧水、王水等)，其脱退时间均超过15Min，脱退时图案易出现锯齿。而Ti与Zr膜耐HF溶液的能力很弱，只需要60S即可完成脱退，因时间短，其图案边缘不会形成锯齿。2.最上一层PVD膜的脱退时间与图案的清晰度有很大的关系，脱退时间的管制难以把控，给保证产品质量带来了困难。3.不能得到凹陷的立体图案。[
技术实现思路
]本专利技术要解决的技术问题是提供一种图案边缘清晰度高、图案颜色丰富、且能够获得凹陷立体图案的双色真空镀膜工艺。为了解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案是，一种双色真空镀膜工艺，包括以下步骤:101)在基材上用真空镀膜工艺镀制第一 PVD膜；102)在第一 PVD膜上涂覆漆膜；103)在漆膜上雕刻图案，雕刻深度等于或大于漆膜厚度；104)在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二 PVD膜；105)去除漆膜。以上所述的双色真空镀膜工艺，所述的基材为金属基材或陶瓷基材。以上所述的双色真空镀膜工艺，步骤102中涂覆漆膜采用电泳、喷涂、浸涂、滚涂或刷涂工艺；漆膜固化后耐温180°C，能被碱性脱漆溶液脱除。以上所述的双色真空镀膜工艺，漆膜材料采用丙烯酸树脂或醇酸树脂。以上所述的双色真空镀膜工艺，在步骤103中，用镭雕机在漆膜上镭雕所述的图案，镭雕后的图案是平面图案或凹陷的立体的图案。以上所述的双色真空镀膜工艺，在步骤105中，漆膜用碱性脱漆水脱除。本专利技术双色真空镀膜工艺通过雕刻图案，可以得到边缘清晰度高的平面图案或凹陷的立体图案；图案颜色丰富，可采用现有任意的PVD颜色，不局限于T1、Zr靶材的颜色。[【附图说明】]下面结合附图和【具体实施方式】对本专利技术作进一步详细的说明。图1是本专利技术双色真空镀膜工艺实施例在基材上镀制第一 PVD膜的示意图。图2是本专利技术双色真空镀膜工艺实施例在第一 PVD膜上涂覆漆膜的示意图。图3是本专利技术双色真空镀膜工艺实施例漆膜上镭雕图案的示意图。图4是本专利技术双色真空镀膜工艺实施例在图案上镀制第二 PVD膜的示意图。图5是本专利技术双色真空镀膜工艺实施例用碱性脱漆水脱除漆膜后产品的示意图。[【具体实施方式】]本专利技术双色真空镀膜工艺包括以下5个步骤:第1步:在金属基材1上用真空镀膜工艺镀制底膜2(第一 PVD膜)，膜厚0.1 μ m-3 μ m,制作出双色图案的底色，该底色是真空镀膜工艺可完成的颜色，包含银色、灰色、枪色、黑色、香槟色、咖啡色、金色、玫瑰金色、蓝色、蓝黑色等。镀制完成的基材需在所要求的镀制区域完全镀上底色，不可有掉膜。金属基材1包括不锈钢材料、合金材料和陶瓷材料等，基材1的表面可以喷砂、拉丝、抛光等以获得表面效果。第2步:在已镀制底膜的基材上做遮蔽处理。遮蔽处理的目的是在基材上涂覆上一层遮蔽漆膜3，该步骤包含电泳、喷涂、浸涂、滚涂、刷涂等。该处理需使基材的所有面均涂覆上一层漆膜，漆膜的厚度大于等于3 μ m。此层漆膜需满足以下特点:1.完全固化后耐180°C的高温。2.完全固化后的在高温真空条件下放气少(真空镀膜时可抽到5.0*10_3Pa本底真空度)。3.完全固化后在碱性脱漆溶液中易脱除(80°C 10% NaOH溶液中，30Min内可脱除干净)，例如，可以采用丙烯酸树脂或醇酸树脂。第3步:在涂有遮蔽漆膜3的基材上用镭雕机镭雕所需要的图案4，如商标、图示等图案，镭雕出的图案颜色不限，可以是白色，也可以是彩色，(注:在不锈钢基材上镭雕时，不同的能量大小会镭雕出不同的颜色，能量越大，颜色越深)但需完全去除图案位置的漆膜3，而不损坏非图案区域的漆膜。镭雕图案的镭雕深度为0.01-0.4_，镭雕后的图案可以是平面的图案，也可以是凹陷的立体的图案。第4步:在镭雕后的基材上用真空镀膜工艺镀制图案所需颜色的PVD膜5(第二PVD膜)，此颜色是真空镀膜工艺可完成的颜色，包含银色、灰色、枪色、黑色、香槟色、咖啡色、金色、玫瑰金色、蓝色、蓝黑色等，但不限于上述几种颜色。镀制完成的基材需在所要求的图案区域内完全镀上图案所需的颜色，不能有掉膜。镀制的区域是图案范围，未雕刻的漆膜可镀制，也可不镀制。第5步:把在镀制第二层膜层后的基材上用碱性脱漆水脱除其表面上的遮蔽漆膜3，得到双色真空镀膜产品，双色真空镀膜产品底色为第一次真空镀膜镀制，图案为第二次真空镀膜镀制。本步骤需完全脱除基材底色上的漆膜，同时，不能用会腐蚀两次镀制膜层的脱漆水来脱除漆膜(脱漆水不能含强氧化剂，如硝酸、双氧水等)。本专利技术实施例的真空镀膜，含中频磁控溅射、弧源离子镀、干锅蒸发镀等真空镀膜工艺。本专利技术以上实施例双色真空镀膜工艺采用镭雕工艺雕刻图案，镭雕可以通过镭雕焦距、功率的调整，控制雕刻的深度，得到边缘清晰度高的平面图案或凹陷的立体图案；图案颜色可采用现有任意PVD颜色，不局限于T1、Zr靶材的颜色。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双色真空镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：101)在基材上用真空镀膜工艺镀制第一PVD膜；102)在第一PVD膜上涂覆漆膜；103)在漆膜上雕刻图案，雕刻深度等于或大于漆膜厚度；104)在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二PVD膜；105)去除漆膜。

【技术特征摘要】
1.一种双色真空镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤: 101)在基材上用真空镀膜工艺镀制第一PVD膜； 102)在第一PVD膜上涂覆漆膜； 103)在漆膜上雕刻图案，雕刻深度等于或大于漆膜厚度； 104)在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二PVD膜； 105)去除漆膜。2.根据权利要求1所述的双色真空镀膜工艺，其特征在于，所述的基材为金属基材或陶瓷基材。3.根据权利要求1所述的双色真空镀膜工艺，其特征在于，步...

【专利技术属性】
技术研发人员：石春放，段宁波，段小燕，
申请(专利权)人：深圳市鑫景源科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44