两亲性钌配合物单分子膜定向修饰的石墨烯基片及其制备方法技术

技术编号:11188362 阅读:120 留言:0更新日期:2015-03-25 17:08
本发明专利技术公开了一种两亲性钌配合物单分子膜定向修饰的石墨烯基片及其制备方法,其是将两亲性钌配合物分子中的芘基通过非共价键的作用固定在石墨烯导电基片上而制得,本发明专利技术的方法操作简单,组装层在石墨烯基底上修饰均匀充分,在室温下使用简单容器即可操作,无需特殊条件和设备,经定向修饰后的石墨烯基片具有优良的电化学活性,制备的薄膜具有良好的机械和化学稳定性,薄膜的厚度可控等诸多优点。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种两亲性钌配合物单分子膜定向修饰的石墨烯基片,其特征在于:将两亲性钌配合物分子中的芘基通过非共价键的作用固定在石墨烯导电基底上,形成两亲性钌配合物单分子膜定向修饰的石墨烯基片,其中两亲性钌配合物的化学结构式如下:。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王华杨丽李孔斋魏永刚祝星
申请(专利权)人:昆明理工大学
类型:发明
国别省市:云南;53

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