两亲性钌配合物单分子膜修饰的ITO基片及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种两亲性钌配合物单分子膜修饰的ITO基片及其制备方法，其是将两亲性钌配合物分子中的羟基通过共价键的作用固定在ITO导电玻璃上而制得，本发明专利技术的方法操作简单，修饰均匀充分，在室温下使用简单容器即可操作，无需特殊条件和设备，经修饰后的ITO基片具有优良的光、电化学性能，而且在少量水存在的条件下，仍能够大幅降低钌分子膜的解吸性，从而改善基片的抗水稳定性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种两亲性钌配合物单分子膜修饰的ITO基片，其特征在于：将两亲性钌配合物分子中的羟基通过共价键的作用固定在ITO导电玻璃上，形成两亲性钌配合物单分子膜修饰的ITO基片，其中两亲性钌配合物的化学结构式如下：。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王华，杨丽，李孔斋，魏永刚，祝星，
申请(专利权)人：昆明理工大学，
类型：发明
国别省市：云南;53