遮罩组及表面处理方法技术

一种用于模具表面处理的遮罩组，包含一第一遮罩及一第二遮罩。第一遮罩具有一通孔。第一遮罩能于一模具的光学面上遮蔽出一环状区域。第二遮罩可至少遮蔽环状区域所围绕出的内部区域的一部分。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关于一种遮罩组及一种表面处理方法。
技术介绍
在利用铸模法(casting process)制造隐形眼镜的制程中，定量可聚合(polymerizable)镜片材料注入母模(female mold half)内。接着，使公模(male moldhalf)和母模合模,形成密闭的模穴(molding cavity)。镜片材料在模穴中聚合,形成未水合的(unhydrated)的镜片。之后，将模打开，移出镜片，然后进行后续制程。 在使用亲水性单体(hydrophilic monomer)作为镜片材料及使用疏水材料(例如:聚烯烃(polyolefin))制作公、母模的情况下,公或母模会先进行表面处理,借此改善在合模时镜片材料与模具表面间的移转效率(transfer efficiency),以降低镜片材料流动时，绕过模具表面上接受度(receptivity)较差或不易变湿的区域而产生缺陷的情况。 在注入镜片材料前，可对公、母模的整个表面一起进行表面处理，让公、母模的整个表面具有一致性的亲水性质。然而，此种作法可能会让镜片过于紧固在公或母模上，不易脱离，甚至脱离后造成镜片的损坏；或镜片无法良好地附着在公或母模上，而于制程中意外脱离公或母模。
技术实现思路
有鉴于前述问题，本专利技术对应地提供至少一遮罩组及至少一表面处理方法。 本专利技术一实施例公开一种遮罩组。该遮罩组可用于模具表面处理。遮罩组包含一第一遮罩及一第二遮罩。第一遮罩具有一通孔。第一遮罩能于一模具的光学面上遮蔽出一环状区域。第二遮罩可至少遮蔽环状区域所围绕出的内部区域的一部分。 根据本专利技术的一种实施方式，其中该模具可选择为一母模及一公模之一。 根据本专利技术的另一种实施方式，其中该第二遮罩包含一端面，该端面至少部分外形轮廓与该光学面的外形轮廓相同。 根据本专利技术的另一种实施方式，其中该第二遮罩包含一侧环面，其中当该第二遮罩遮蔽该模具时，该侧环面与该模具的该光学面的间距不大于2毫米。 根据本专利技术的另一种实施方式，其中该第一遮罩包含一侧环面，其中当该第一遮罩遮蔽该模具时，该侧环面与该模具的该光学面的间距为I毫米。 本专利技术一实施例公开一种表面处理方法，该方法包含利用具有一通孔的一第一遮罩，于模具的内光学面上遮蔽出一环状区域，使该环状区域不受一表面处理能量的影响；以及利用一第二遮罩至少遮蔽该环状区域所界定出的内部区域的一部分，使该部分不受该表面处理能量的影响。 根据本专利技术的一种实施方式，其中该模具可选择为一母模及一公模之一。 根据本专利技术的另一种实施方式，其中该第一遮罩包含一侧环面，当该第一遮罩遮蔽该模具时，该侧环面与该模具的该光学面的间距为I毫米。 根据本专利技术的另一种实施方式，其中该第二遮罩包含一端面，该端面至少部分外形轮廓与该光学面的外形轮廓相同。 根据本专利技术的另一种实施方式，其中该第二遮罩包含一侧环面，其中当该第二遮罩遮蔽该模具时，该侧环面距离该模具的该光学面的间距不大于2毫米。 在本专利技术至少部分实施例中，对模具光学面不同处分开进行表面处理，使模具光学面的表面自由能非一致性地高或一致性地低，如此可避免镜片过于紧固在模具上或无法良好的附着在模具上。 【附图说明】 图1A为本专利技术一实施例的一制镜系统的一部分的示意图。 图1B为本专利技术一实施例的一制镜系统的一部分的不意图。 图2A为本专利技术一实施例的遮罩组的一遮罩的俯视图。 图2B为沿图2A的割面线100-100的剖视图。 图3A为本专利技术一实施例的遮罩组的另一遮罩的示意图。 图3B为沿图3A的割面线200-200的剖视图。 图4为本专利技术一实施例的第一遮罩和第二遮罩所遮蔽出的区域或范围的示意图。 图5为本专利技术另一实施例的另一种第一遮罩的示意图。 图6为本专利技术另一实施例的第一遮罩的示意图。 图7为本专利技术另一实施例的第二遮罩的示意图。 图8A为本专利技术一实施例的遮罩组的第一遮罩的示意图。 图8B为本专利技术一实施例的遮罩组的第二遮罩的示意图。 图9A为本专利技术一实施例的遮罩组的第一遮罩的示意图。 图9B为本专利技术一实施例的遮罩组的第二遮罩的示意图。 图10为本专利技术一实施例的一种表面处理方法的流程图。 【符号说明】 IaUb制镜系统 2 母模 3 遮罩 4投射装置 5 公模 11 电极 12电浆控制器 21 光学面 22 开口 31、31a、31b、31c、31d 第一遮罩 32、32b、32c、32d 第二遮罩 41 环状区域 42 区域 51 光学面 311 通孔 312 开口 313侧环面 314 内缘面 315 凸缘 316侧旁表面 317 端面 321 端面 322侧环面 323 端面 411 外边界 412 内边界 413内部区域 421 边界 500环状区域 501内部区域 dl、d2 间距 H1、H2 尺寸 w 宽度 S8US83 步骤 【具体实施方式】 图1A为本专利技术一实施例的一制镜系统Ia的一部分的不意图。图1B为本专利技术一实施例的一制镜系统Ib的一部分的不意图。参照图1A所不,制镜系统Ia可包含两电极11及电浆控制器12，其中两电极11耦接电浆控制器12。电浆控制器12控制位移电流(displacement current),以激发出电衆,其中该电衆可作为对模具或母模2进行表面处理的表面处理能量。电浆控制器12可包含电源供应器及相关辅助电路。 在一实施例中，电浆包含低温电浆。在一实施例中，电浆包含大气辉光电浆。在一实施例中，电衆可利用电晕放电(Corona Discharge)产生。在一实施例中，电衆可利用汤森介质阻挡放电(Dielectric Barrier Townsend Discharges)产生。 当模具的母模2进行表面处理时，遮罩组的多个遮罩3被使用。该些遮罩3用于遮蔽母模2的光学面上不同的区域，而至少部分的该些区域是部分重叠。使用多个遮罩3对母模2进行表面处理后，母模2的光学面会有多个区域具有不同的表面性质(例如:亲水性质)；或让母模2的光学面的亲或疏水性呈高、低起伏分布；或让母模2的光学面的亲或疏水性由内往外呈梯度分布。在一实施例中，模具是用于生产隐形眼镜。 参照图1B所示，遮罩3可运用在不同的表面处理系统。制镜系统Ib包含一投射装置4，该投射装置4提供表面处理能量。在一实施例中，该表面处理能量包含紫外光。在一实施例中，该表面处理能量包含短波紫外光(UV-C)。 图2A为本专利技术一实施例的遮罩组的一遮罩31的俯视图。图2B为沿图2A的割面线100-100的剖视图。图3A为本专利技术一实施例的遮罩组的另一遮罩32示意图。图3B为沿图3A的割面线200-200的剖视图。参照图2A至图3B所示，遮罩组包含一第一遮罩31及一第二遮罩32。第一遮罩31和第二遮罩32分别遮蔽母模2的光学面21上不同的区域。 参照图2A与图2B所示，第一遮罩31包含一通孔311，因此可遮蔽出一环状区域。当第一遮罩31遮蔽母模2时，第一遮罩31在母模2的光学面21可遮蔽出一环状区域500，其中环状区域500可界定出一内部区域501。当进行表面处理时，第一遮罩3本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种遮罩组，用于模具表面处理，其包含：一第一遮罩，具有一通孔，以于一模具的光学面上遮蔽出一环状区域；以及一第二遮罩，用于至少遮蔽该环状区域所界定出的内部区域的一部分。

【技术特征摘要】
2013.09.11 TW 1021327341.一种遮罩组，用于模具表面处理，其包含: 一第一遮罩，具有一通孔，以于一模具的光学面上遮蔽出一环状区域；以及 一第二遮罩，用于至少遮蔽该环状区域所界定出的内部区域的一部分。2.根据权利要求1的遮罩组，其中该模具可选择为一母模及一公模之一。3.根据权利要求2的遮罩组，其中该第二遮罩包含一端面，该端面至少部分外形轮廓与该光学面的外形轮廓相同。4.根据权利要求3的遮罩组，其中该第二遮罩包含一侧环面，其中当该第二遮罩遮蔽该模具时，该侧环面与该模具的该光学面的间距不大于2毫米。5.根据权利要求3的遮罩组，其中该第一遮罩包含一侧环面，其中当该第一遮罩遮蔽该模具时，该侧环面与该模具的该光学面的间距为1毫米...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈泷溎，锺欣翰，陈岱君，
申请(专利权)人：均豪精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71