掩膜版及滤光板的制造方法技术

一种掩膜版及滤光板的制造方法，该掩膜版用于形成滤光板上的遮光图案层或滤光层，遮光图案层具有遮光图案和位于遮光图案之间的第一开口，滤光层具有多个间隔排列的子画素滤光层，该掩膜版包括基板和位于基板上的遮光层，遮光层具有透光区域及遮光区域，所述透光区域与遮光图案或子画素滤光层的位置对应，所述遮光区域与遮光图案层中的第一开口或滤光层中子画素滤光层之间的间隙的位置对应，所述透光区域包括图案区域，所述图案区域具有设有多个第二开口的遮光部，所述图案区域与滤光板上副间隔柱的位置对应。利用本发明专利技术的掩膜版解决了在形成滤光板的具有段差的主间隔柱和副间隔柱时，容易出现副间隔柱剥离的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示装置领域，特别是涉及一种掩膜版及一种滤光板的制造方法。
技术介绍
图1是现有一种液晶显示装置的剖面结构示意图，如图1所示，液晶显示装置包括阵列基板1、滤光板2、位于阵列基板1和滤光板2之间的液晶层(未标识其中，滤光板2上形成有遮光图案层21和滤光层22。为了使液晶层中的液晶可以很好的固定在一定的空间内，避免液晶的流动造成显示不均匀的问题，在阵列基板1和滤光板2之间形成多个间隔柱(此。^)如狀61'，简称？3) 3，通过间隔柱3限定液晶注入的空间，保持电场均匀，避免影响液晶的灰阶显示。 现有技术中采用光阻制作间隔柱3，液晶显示装置发展初期，各个间隔柱3的高度相同，但是会出现以下问题:光阻材料的弹性较小，因此间隔柱3的弹性也相应较小。然而，实际工作中，液晶显示装置的温度不恒定，会发生变化。在液晶显示装置温度较高的情况下，间隔柱3发生延伸变形，但是该延伸变形很难恢复，由于各个间隔柱3变形的不均匀，会造成液晶盒厚不均匀，从而造成液晶显示装置色彩不均匀，影响显示效果。 为了解决以上问题，现有技术中采用在滤光板上制作具有段差的主间隔柱和副间隔柱。所谓主间隔柱与副间隔柱之间具有段差是指:副间隔柱的上表面低于主间隔柱的上表面。 现有技术中制作具有段差的主间隔柱和副间隔柱的方法主要包括两种，分别为半色调掩膜法(他“-如加此吐，简称！1110和灰阶掩膜法此吐，简称仍10。然而，利用半色调掩膜法或灰阶掩膜法形成主间隔柱和副间隔柱时，由于光阻层上用于形成副间隔柱的区域所收到的曝光量，远小于光阻层上用于形成主间隔柱的区域所收到的曝光量，造成在后续显影工序中经常出现副间隔柱剥离的现象。特别是随着液晶显示装置分辨率的提高，间隔柱小型化成为技术趋势，此种剥离现象愈专利技术显，严重影响了产品的良率。
技术实现思路
本专利技术要解决的问题是:在形成滤光板的具有段差的主间隔柱和副间隔柱时，容易出现副间隔柱剥离。 为解决上述问题，本专利技术提供了一种掩膜版，用于形成滤光板上的遮光图案层或滤光层，所述遮光图案层具有遮光图案和位于遮光图案之间的第一开口，所述滤光层具有多个间隔排列的子画素滤光层； 所述掩膜版包括基板和位于所述基板上的遮光层，所述遮光层具有透光区域和遮光区域； 所述透光区域与遮光图案或子画素滤光层的位置对应，所述遮光区域与遮光图案层中的第一开口或滤光层中子画素滤光层之间的间隙的位置对应，所述透光区域包括图案区域，所述图案区域具有设有多个第二开口的遮光部，所述图案区域与滤光板上副间隔柱的位置对应。 可选的，所述第二开口为多边形或多边形环。 可选的，所述第二开口的最小线幅为仏!!!?3^ %所述第二开口与遮光部边界之间的最小距离为1 ^ 0?5 ^ %相邻两个所述第二开口之间的距离为1 ^ 0?5 9 I 可选的，所述遮光部为多边形、且边长为16 ^?50 4 111。 可选的，所述图案区域中的所有第二开口排列成阵列。 可选的，所述图案区域中的所有第二开口均为矩形、且排列成矩形阵列。 可选的，所述图案区域中至少有一个所述第二开口为多边形环，所述多边形环将所述图案区域中的其他第二开口包围。 可选的，所述图案区域中的所有第二开口均为多边形环，且相邻两个多边形环中，一个多边形环将另一个多边形环包围。 可选的，所述多边形环为矩形环，所述其他第二开口中至少有一个第二开口为矩形，且所述矩形的各边与矩形环的内圈的各边平行。 在本专利技术所提供掩膜版的基础上，本专利技术还提供了一种滤光板的制造方法，包括: 提供基底； 在所述基底上形成负性光阻层； 利用上述任一所述的掩膜版对所述光阻层进行图案化，形成遮光图案层或滤光层，所述遮光图案层具有遮光图案和位于遮光图案之间的第一开口，所述滤光层具有多个间隔排列的子画素滤光层，且所述遮光图案或子画素滤光层上对应所述图案区域的位置形成有凹坑； 形成高度相等的主间隔柱和副间隔柱，且所述副间隔柱位于所述凹坑上方。 与现有技术相比，本专利技术的技术方案具有以下优点: 通过在掩膜版的透光区域增加图案区域，在利用掩膜版形成滤光板上的遮光图案层或滤光层时，可以在遮光图案层或滤光层上对应图案区域的位置形成凹坑，在遮光图案层或滤光层上形成高度相等的主间隔柱和副间隔柱，且使副间隔柱位于凹坑上方之后，可以使得主间隔柱与副间隔柱之间存在段差。由于主间隔柱的高度与副间隔柱的高度相等，因此利用光阻制作主间隔柱和副间隔柱时，光阻层上用于形成副间隔柱的区域所收到的曝光量，与光阻层上用于形成主间隔柱的区域所收到的曝光量几乎相同，因而在曝光之后的显影工序中不会出现副间隔柱剥离的现象。 【附图说明】 图1是现有一种液晶显示装置的剖面结构示意图； 图2是本专利技术的第一实施例中掩膜版的俯视图； 图3是沿图2中—方向的剖面图； 图4是图2所示掩膜版中图案区域的放大图； 图5是本专利技术的第二实施例中掩膜版上图案区域的示意图； 图6是本专利技术的第三实施例中掩膜版上图案区域的示意图； 图7是本专利技术的第一实施例中滤光板的俯视图； 图8是本专利技术的第一实施例中滤光板的制作流程示意图，且图8 (0)是沿图7中88方向的剖面图； 图9是本专利技术的第四实施例中掩膜版的俯视图； 图10是沿图9中X方向的剖面图； 图11是本专利技术的第二实施例中滤光板的俯视图； 图12是本专利技术的第二实施例中滤光板的制作流程示意图，且图12 ((1)是沿图11中00方向的剖面图。 【具体实施方式】 为了解决在形成滤光板的具有段差的主间隔柱和副间隔柱时，容易出现副间隔柱剥离的问题，本专利技术提供了一种用于形成遮光图案层或滤光层的掩膜版，该掩膜版与现有用于形成遮光图案层或滤光层的掩膜版的区别在于:前者在掩膜版的透光区域增加了图案区域，这样可以在遮光图案层或滤光层上对应图案区域的位置形成凹坑，在遮光图案层或滤光层上形成高度相等的主间隔柱和副间隔柱，且使副间隔柱位于凹坑上方之后，可以使得主间隔柱与副间隔柱之间存在段差。由于主间隔柱的高度与副间隔柱的高度相等，因此光阻层上用于形成副间隔柱的区域所收到的曝光量，与光阻层上用于形成主间隔柱的区域所收到的曝光量几乎相同，因而在曝光之后的显影工序中不会出现副间隔柱剥离的现象。 为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施例做详细的说明。 技术术语解释: 线幅:第二开口为多边形时，线幅是指多边形的顶点到该顶点的对边的垂直距离；第二开口为多边形环(是指该环的内圈和外圈均为多边形)时，外圈多边形的顶点到内圈多边形中与该顶点相对的边的垂直距离。 举例来讲，所述多边形为矩形时，线幅是指矩形的边长；所述多边形为相邻边不垂直的平行四边形时，线幅是指两个平行边之间的距离；所述多边形为正八边形时，线幅是指正八边形的内切圆的直径；所述多边形为三角形时，线幅是指三角形的高；所述多边形环为矩形环(是指该环的内圈和外圈均为矩形),且内圈矩形的各边与外圈矩形的各边平行时，线幅是指内圈矩形和外圈矩形之间的距离；所述多边形环为正八边形环(是指该环的内圈和外圈均为正八边形),且内圈正八边形的各边与外圈正八边形的各边平行时，线幅是指内圈正八边形和外圈正八边形之本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜版，用于形成滤光板上的遮光图案层或滤光层，所述遮光图案层具有遮光图案和位于遮光图案之间的第一开口，所述滤光层具有多个间隔排列的子画素滤光层，其特征在于：所述掩膜版包括基板和位于所述基板上的遮光层，所述遮光层具有透光区域和遮光区域；所述透光区域与遮光图案或子画素滤光层的位置对应，所述遮光区域与遮光图案层中的第一开口或滤光层中子画素滤光层之间的间隙的位置对应，所述透光区域包括图案区域，所述图案区域具有设有多个第二开口的遮光部，所述图案区域与滤光板上副间隔柱的位置对应。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，用于形成滤光板上的遮光图案层或滤光层，所述遮光图案层具有遮光图案和位于遮光图案之间的第一开口，所述滤光层具有多个间隔排列的子画素滤光层，其特征在于: 所述掩膜版包括基板和位于所述基板上的遮光层，所述遮光层具有透光区域和遮光区域； 所述透光区域与遮光图案或子画素滤光层的位置对应，所述遮光区域与遮光图案层中的第一开口或滤光层中子画素滤光层之间的间隙的位置对应，所述透光区域包括图案区域，所述图案区域具有设有多个第二开口的遮光部，所述图案区域与滤光板上副间隔柱的位置对应。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第二开口为多边形或多边形环。3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第二开口的最小线幅为1^0?34 %所述第二开口与遮光部边界之间的最小距离为1 ^ 0?5 ^ %相邻两个所述第二开口之间的距离为1 9 III?5 9 III。4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述遮光部为多边形、且边长为16 口 III ?50 口 III。5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述图案区域中的所有第二开口...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐文静，陈颖明，范刚洪，
申请(专利权)人：上海仪电显示材料有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31