透明阻气膜的制造方法和透明阻气膜的制造装置制造方法及图纸

技术编号:11152444 阅读:74 留言:0更新日期:2015-03-18 09:07
本发明专利技术的透明阻气膜的制造方法是使用卷对卷方式实施的。该制造方法包括在输送长条带状的树脂基板(8)过程中将成分不同的多种薄膜分别在所述树脂基板(8)上层叠多层的工序,在薄膜形成区域中设有数量与所述薄膜的种类数量对应的蒸发源(91、92),使所述长条带状的树脂基板(8)交替地穿过所述薄膜形成区域和非薄膜形成区域,通过在所述薄膜形成区域中使所述多个蒸发源(91、92)中含有的材料分别附着在所述树脂基板(8)上,从而在所述树脂基板(8)上形成层叠了多层所述多种薄膜而成的透明阻气层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种使用了卷对卷方式的透明阻气膜的制造方法和其制造装置。
技术介绍
液晶显示元件、有机EL(EL是电致发光的简称)元件、电子纸、太阳能电池以及薄膜锂离子电池等各种电子器件近年一直在进行轻质化、薄型化。已知上述器件中的多数因大气中的水蒸气而蚀损劣化。以往,在上述器件中作为其支承基板使用了玻璃基板。但是,基于轻质性、耐冲击性以及弯曲性等各种特性优异这样的理由,研究了使用树脂基板来代替玻璃基板。上述树脂基板通常具有水蒸气等的气体透过性明显比由玻璃等无机材料形成的基板的气体透过性大这样的性质。因此,对于上述器件所使用的树脂基板而言,要求树脂基板在维持光透过性的同时提高阻气性。然而,电子器件的阻气性与食品包装用途的阻气性相比,要求极高的等级。阻气性例如以水蒸气透过速度(Water Vapor Transmission Rate。以下记为WVTR)表示。以往的食品包装用途的WVTR值为1g·m-2·day-1~10g·m-2·day-1左右,与之相比,认为例如薄膜硅太阳能电池、化合物薄膜类太阳能电池用途的基板所需要的WVTR为1×10-3g·m-2·day-1以下,另外,有机EL元件用途的基板所需要的WVTR为1×10-5g·m-2·day-1以下。为了应对这样非常高的阻气性要求,提出了各种各样在树脂基板上形成阻气层的方法(例如,参照专利文献1和2)。但是,利用以这些方法所代表的真空工艺来形成的无机膜的阻气性并没有能够满足上述要求。因此,提出了使用相同的真空工艺把成分不同的多个种类的薄膜层叠起来并复合化而制得的阻气性膜(例如,参照专利文献3~5)。为了以卷对卷方式形成这样的具有多种薄膜的阻气性膜,需要配置数量与该薄膜层数对应的蒸发源(例如,蒸镀坩埚、靶材等)。例如,在形成将由成分A构成的薄膜和由成分B构成的薄膜(A和B的成分不同)各三层交替层叠于基板上而成的阻气性膜时,在输送长条带状的基板的过程中,需要以包含成分A的蒸发源、包含成分B的蒸发源、包含成分A的蒸发源、包含成分B蒸发源、包含成分A的蒸发源以及包含成分B的蒸发源的方式配置6个蒸发源。如果这样来设置数量与层数对应的蒸发源,则存在设备和管理成本增加这样的问题。另一方面,还公知如下方法,即:将数量与薄膜的种类数量对应的蒸发源以与旋转辊相对的方式设置并将基板以单片状粘贴在上述旋转辊上,一边使该旋转辊旋转一边使来自上述多个蒸发源的材料依次附着在基板上。该方法即所谓的批量生产式的方法。采用该方法,所设置的蒸发源的数量与薄膜的种类数量对应即可。例如,在上述例子中,能够利用包含成分A的蒸发源和包含成分B的蒸发源这两个蒸发源在基板上交替层叠多层由成分A构成的薄膜和由成分B构成的薄膜。但是,在批量生产方式的情况下,需要进行蒸发源的切换(例如,挡板的开闭,蒸发的启停等),而且,因为使用单片状的基板,所以存在制造效率差这样的问题。专利文献1:日本特开平8-164595号公报专利文献2:日本特开2004-151528号公报专利文献3:日本特开2006-68992号公报专利文献4:日本特开2007-230115号公报专利文献5:日本特开2009-23284号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的目的在于提供一种高效制造阻气性优异的透明阻气膜的方法和其制造装置。用于解决问题的方案本专利技术的透明阻气膜的制造方法是使用卷对卷方式实施的。该制造方法包括在输送长条带状的树脂基板过程中将成分不同的多种薄膜分别在所述树脂基板上层叠多层的工序,在薄膜形成区域设有数量与所述薄膜的种类数量对应的蒸发源,使所述长条带状的树脂基板交替地穿过所述薄膜形成区域和非薄膜形成区域,并在所述薄膜形成区域中使所述多个蒸发源中含有的材料分别附着在所述树脂基板上,从而在所述树脂基板上形成层叠了多层所述多种薄膜而成的透明阻气层。本专利技术的优选制造方法为,在所述薄膜形成区域中排列有多个所述蒸发源,在所述薄膜形成区域中,沿着所述蒸发源的排列方向输送所述树脂基板。本专利技术的进一步优选的制造方法为,多个所述蒸发源所含有的材料各不相同,所述材料包含金属和准金属中的至少一种。本专利技术的进一步优选的制造方法为,利用从蒸镀法、溅镀法以及离子镀法中选出的真空加工法,使所述材料附着于所述树脂基板。采用本专利技术的另一技术方案,提供一种用于制造透明阻气膜的制造装置,该透明阻气膜具有成分不同的多种薄膜沿厚度方向层叠而成的透明阻气层。该制造装置是一种透明阻气膜的制造装置,该透明阻气膜具有成分不同的多种薄膜沿厚度方向层叠而成的透明阻气层,该制造装置具有:腔室,其具有薄膜形成区域和薄膜非薄膜形成区域;蒸发源,其含有金属和准金属中的至少一种材料;以及输送装置,其用于输送长条带状的树脂基板,在所述薄膜形成区域中设有数量与所述薄膜的种类数量对应的蒸发源,多个所述蒸发源各自独立,且含有不同的材料,多个所述蒸发源沿着所述长条带状的树脂基板的输送方向或者与输送方向正交的方向并排配置,所述输送装置构成为,以使所述树脂基板交替地穿过所述薄膜形成区域和非薄膜形成区域的方式输送所述树脂基板。在本专利技术的优选的制造装置中,所述输送装置以螺旋状的输送轨迹输送所述长条带状的树脂基板。在本专利技术的进一步优选的制造装置中,多个所述蒸发源沿着所述长条带状的树脂基板的输送方向并排设置。在本专利技术的进一步优选的制造装置中,在所述腔室内还具有用于产生等离子体的等离子体源和用于供给反应气体的反应气体供给装置。专利技术的效果采用本专利技术的制造方法和制造装置,能够高效地制造阻气性优异的透明阻气膜。另外,采用本专利技术的优选的制造方法和制造装置,能够高效地制造阻气性优异且透明阻气层的内部应力非常低的透明阻气膜。附图说明图1是表示本专利技术的一个实施方式的透明阻气膜的俯视图。图2是以图1的II-II线剖切而得到的放大剖视图。图3是其他实施方式的透明阻气膜的放大剖视图。图4是另一其他实施方式的透明阻气膜的放大剖视图。图5是表示第1实施方式所涉及的制造装置的概要的主视图。图6是该制造装置的左视图。图7是示意性地表示多种薄膜的形成过程的示意图。图8是表示第1实施方式的变形例所涉及的制造装置的概要的主视图。图9是表示第2实施方式所涉及的制造装置的概要的主视图。图10是该制造装置的左视图。图11是表示第2实施方式的变形例所涉及的制造装置的概要的主视图。图12是本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种透明阻气膜的制造方法,在该制造方法中采用了卷对卷方式,其中,该透明阻气膜的制造方法包括在输送长条带状的树脂基板的过程中,将成分不同的多种薄膜分别在所述树脂基板上层叠多层的工序,在薄膜形成区域设有数量与所述薄膜的种类数量对应的蒸发源,使所述长条带状的树脂基板交替地穿过所述薄膜形成区域和非形成区域,并在所述薄膜形成区域中使多个所述蒸发源中含有的材料分别附着在所述树脂基板上,从而在所述树脂基板上形成层叠了多层所述多种薄膜而成的透明阻气层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.02.08 JP 2013-0232991.一种透明阻气膜的制造方法,在该制造方法中采用了卷对卷方式,
其中,
该透明阻气膜的制造方法包括在输送长条带状的树脂基板的过程中,将
成分不同的多种薄膜分别在所述树脂基板上层叠多层的工序,
在薄膜形成区域设有数量与所述薄膜的种类数量对应的蒸发源,
使所述长条带状的树脂基板交替地穿过所述薄膜形成区域和非形成区
域,并在所述薄膜形成区域中使多个所述蒸发源中含有的材料分别附着在所
述树脂基板上,从而在所述树脂基板上形成层叠了多层所述多种薄膜而成的
透明阻气层。
2.根据权利要求1所述的透明阻气膜的制造方法,其中,
在所述薄膜形成区域中排列有多个所述蒸发源,
在所述薄膜形成区域,沿着所述蒸发源的排列方向输送所述树脂基板。
3.根据权利要求1或2所述的透明阻气膜的制造方法,其中,
多个所述蒸发源所含有的材料各不相同,所述材料包含金属和半金属中
的至少一种。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的透明阻气膜的制造方法,其中,
利用从蒸镀法、溅镀法以及离子镀法中选出的真空加工法,使所述材料
附着于所述树脂...

【专利技术属性】
技术研发人员:山田泰美
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1