【技术实现步骤摘要】
一种用于RIE制绒后的链式清洗设备
本技术涉及一种用于RIE制绒后的链式清洗设备,用于晶体硅片的刻蚀和清洗,属于太阳能电池领域。
技术介绍
常规的化石燃料日益消耗殆尽,在现有的可持续能源中,太阳能是一种安全可靠、经济实惠且容易获得的绿色能源。因此,太阳能电池组件得到了越来越多的关注,而高转换效率、低成本是太阳能电池发展的主要趋势,也是技术研宄者追求的目标。 为了获得更高的光电转换效率,除了要求晶体硅材料本身的高质量、能形成理想的PN结等内在特性外,还需要电池片表面有很好的陷光效果。陷光效应通常由表面织构化来实现的,即电池片生产中的重要工序一一制绒。它通过增加电池对光的吸收,降低表面反射率,增大太阳能电池的短路电流从而达到提高太阳电池效率的目的。 现有技术中,晶体硅太阳电池的制绒通常是采用湿法化学腐蚀方法制备微米级绒面结构。但是,由于微米级绒面的陷光效果有限,为了进一步提高陷光效果,近几年基于反应离子刻蚀方法(RIE)制备纳米绒面的方法在产业化生产中得到了广泛应用。晶体硅RIE制绒主要是在常规湿法化学腐蚀工艺制绒后得到的粗糙绒面(微米级)上形成更为精细的绒面结构(纳米级),从而大大降低反射率,提高电池效率。如日本专利JP2014082430A公开了一种RIE制绒的多晶硅太阳电池制造工艺,其包括如下步骤:(I)化学腐蚀去除线切割损伤层;(2)RIE制绒;(3)RIE损伤层去除以及后清洗处理;(4)扩散;(5)刻蚀以及去除PSG ;(6)PECVD ;(7)丝网印刷以及烧结。其中,步骤(3)RIE损伤层去除以及后清洗处理是必须进行的, ...
【技术保护点】
一种用于RIE制绒后的链式清洗设备,其特征在于:包括机台支架(1)、设于机台支架上的滚轮传动系统(10);所述机台支架上按滚轮传动系统行进方向依次设有背面腐蚀抛光槽(3)、去离子水清洗槽(6)、RIE损伤层腐蚀去除槽(4)、去离子水清洗槽、酸洗槽(5)、去离子水清洗槽、去离子水清洗槽。
【技术特征摘要】
1.一种用于虹2制绒后的链式清洗设备,其特征在于:包括机台支架(1)、设于机台支架上的滚轮传动系统(10); 所述机台支架上按滚轮传动系统行进方向依次设有背面腐蚀抛光槽(3)、去离子水清洗槽(6)、812损伤层腐蚀去除槽(4)、去离子水清洗槽、酸洗槽(5)、去离子水清洗...
【专利技术属性】
技术研发人员:邹帅,王栩生,
申请(专利权)人:苏州阿特斯阳光电力科技有限公司,盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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