一种清洗制绒水洗槽喷淋装置的设计方法制造方法及图纸
Design method of cleaning and washing bath spraying device
The invention discloses a design method of cleaning wool washing bath spraying device, which comprises a water inlet pipe and a plurality of spray heads, some spray head arranged on the side wall of the water inlet pipe, and at the same level; the number of the spray head and the distribution according to the cleaning every material milling equipment the number and location of the silicon wafer was determined; the outlet of the spray head comprises a plurality of arc-shaped structure spacing at the outlet and a plurality of arc spray head edge spacing structure etc. the spray head center is arranged concentrically with concentrically disposed water outlet; the spray head is in the shape of round or oval arbitrary shape and square etc.. The invention has the advantages of increasing the spray water flow, the water completely covers the wafer surface, fully clean the residual liquor of silicon surface, greatly reduced due to diffusion of wool washing is not clean and causes the appearance of abnormal rework ratio, reducing the manufacturing cost of battery plate.
【技术实现步骤摘要】
一种清洗制绒水洗槽喷淋装置的设计方法
本专利技术涉及晶硅太阳能电池片的制备领域，具体地涉及一种清洗制绒水洗槽喷淋装置的设计方法。
技术介绍
在晶硅太阳能电池片的制备工艺中，首先硅片需要经过清洗制绒。在现有的设备中，清洗制绒工序中使用的机台的水洗槽采用多孔并列式喷淋的设计结构。该设计结构的喷淋头存在喷淋口小且间距较大，水不能完全覆盖硅片表面等问题，难以保证片子表面残留药液得到完全去除，容易导致扩散后硅片表面有小黑点或者硅片发蓝等现象，使扩散返工片数量增加，从而增加制造成本。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种清洗制绒水洗槽喷淋装置的设计方法，达到在生产过程中，硅片经过水洗槽时水完全覆盖硅片表面，充分去除硅片表面残留药液，降低扩散外观异常返工片的比例的目的。本专利技术采用的技术解决方案是：一种清洗制绒水洗槽喷淋装置的设计方法，包括进水管和若干喷淋头，所述的若干喷淋头设置于进水管的侧壁上，并处于同一水平线上；所述喷淋头的数量及分布根据清洗制绒设备每次上料时硅片的数量及位置进行确定；所述的喷淋头的出水口包括喷淋头中心具有同心的等间距设置的若干个弧形结构的出水口和喷淋头盖...
【技术保护点】
一种清洗制绒水洗槽喷淋装置的设计方法，包括进水管和若干喷淋头，所述的若干喷淋头设置于进水管的侧壁上，并处于同一水平线上。
【技术特征摘要】
1.一种清洗制绒水洗槽喷淋装置的设计方法，包括进水管和若干喷淋头，所述的若干喷淋头设置于进水管的侧壁上，并处于同一水平线上。2.根据权利要求1所述的一种清洗制绒水洗槽喷淋装置的设计方法，其特征在于：所述喷淋头的数量及分布根据清洗制绒设备每次上料时硅片的数量及位置进行确定。3.根据权利要求1所述的一种清洗制...
【专利技术属性】
技术研发人员：潘龙，方智，王庆钱，
申请(专利权)人：浙江鸿禧能源股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33
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