本实用新型专利技术提供一种还原炉硅芯安装装置，包括两层的装配架，所述装配架包括配重区、下层作业区和用于进行水平安装硅芯的操作的上层作业区，配重区内设置有配重块，用以保持装配架的平衡，下层作业区和上层作业区从所述配重区水平延伸而出；所述下层作业区的下表面的高度高于还原炉底盘的高度，以便在所述下层作业区内进行将石墨件安装在还原炉底盘上的操作，通过设置两层的装配架，利用配重区内的配重块保持装配架的平衡，并由配重区延伸出上层作业区和下层作业区，从而使安装人员可以在下层作业区进行硅芯的安装操作，无需站在还原炉底盘上，避免还原炉底盘和电极受到污染，从而保证多晶硅产品的品质。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及多晶硅还原生产辅助设备
，特别是涉及一种还原炉硅芯安装装置。
技术介绍
改良西门子法多晶硅生产工艺中，还原炉内放置多组硅芯，每组硅芯包括两根与底盘垂直的硅芯和一根与底盘平行的硅芯，三根硅芯组成“∏”型，可构成单独的电流回路。硅芯与还原炉底盘的石墨件的夹头紧密连接，以获得良好的接触面，才能保证电流能够均匀通过。同时，要保证两根竖直硅芯相对于还原炉底盘的垂直度，防止在还原炉开炉送气阶段气流紊乱导致硅芯歪倒，以及在沉积阶段随着硅芯直径的增粗、重心偏移导致倒棒，造成经济损失并给设备造成损害。传统的还原炉硅芯安装通常利用装配车实现，装配车的作业平台能够竖直升降，也能够水平小幅移动。当需要在还原炉底盘上安装硅芯时，装配车沿还原炉底盘的外周移动到待安装位置附近后，作业平台承载着1个安装人员提升至一定高度，并水平移动到待安装位置，由2个安装人员拿着硅芯，分别与站在作业平台上的安装人员和站在还原炉底盘上的安装人员配合，将硅芯竖直插入还原炉底盘上的石墨件的夹头，并由另外一个安装人员目测指挥调整硅芯与还原炉底盘的垂直度，待硅芯的垂直度调整好之后，由站在还原炉底盘上的安装人员拧紧石墨件的夹头，从而将硅芯竖直安装在还原炉底盘上，之后，再将另外一根硅芯按照同样的方法竖直安装在还原炉底盘上，最后将第三根硅芯横向安装于两根竖直的硅芯的顶端，从而完成一组硅芯的安装。然而，由于多晶硅内的硼、磷、铁、铝等杂质含量在ppt(Part Per Trillion，万亿分之一)级，即10-12级，其中碳、氧浓度都在0.2*1017atm/cm3以下，少量的杂质引入都会影响多晶硅产品的品质，也就是说，多晶硅产品受环境洁净度、人为操作污染的影响很大，而在硅芯安装过程中，需要有安装人员站在还原炉底盘上，与装配车上的安装人员配合作业，难以保证多晶硅产品的品质。
技术实现思路
本技术针对现有技术中存在的上述不足，提供一种还原炉硅芯安装装置，用以解决还原炉硅芯安装过程中对还原炉底盘和电极造成污染的问题。本技术为解决上述技术问题，采用如下技术方案：本技术提供一种还原炉硅芯安装装置，包括：两层的装配架，所述装配架包括配重区、下层作业区和用于进行水平安装硅芯的操作的上层作业区，配重区内设置有配重块，用以保持装配架的平衡，下层作业区和上层作业区从所述配重区水平延伸而出；所述下层作业区的下表面的高度高于还原炉底盘的高度，以便在所述下层作业区内进行将石墨件安装在还原炉底盘上的操作。进一步的，所述装置还包括能够水平调节所述上层作业区和下层作业区的作业位置的延伸机构。优选的，所述上层作业区包括顶部横梁和能够承载安装人员的上层底板，所述下层作业区包括能够承载安装人员的下层底板；所述延伸机构包括行程梁和支撑板，设置于上层作业区顶部的行程梁与所述顶部横梁相连，能够水平延伸或收回，设置于上层作业区底部的行程梁能够从所述上层底板水平延伸或收回，设置于上层作业区底部的支撑板能够沿上层作业区底部的行程梁水平延伸或收回；下层作业区底部的行程梁能够从所述下层底板水平延伸或收回，设置于下层作业区底部的支撑板能够沿下层作业区底部的行程梁水平延伸或收回。进一步的，所述装置还包括用于竖直容置硅芯的硅芯放置架，所述硅芯放置架设置于所述装配架的上层作业区和下层作业区。优选的，所述硅芯放置架成组设置，所述装置设置有两组硅芯放置架。优选的，所述上层作业区包括顶部横梁和能够承载安装人员的上层底板，所述下层作业区包括能够承载安装人员的下层底板；每组硅芯放置架包括：水平开口的第一U型槽和第二U型槽，第一U型槽设置于所述下层作业区底部的支撑板上，第二U型槽设置于上层作业区顶部的行程梁上，第一U型槽的开口与第二U型槽的开口方向一致。进一步的，所述装置还包括硅芯对准器，所述硅芯对准器设置于上层作业区，能够抓取硅芯，借助硅芯的自重，使硅芯处于竖直状态，并能够将所述硅芯移动至还原炉底盘的待安装位置。优选的，所述硅芯对准器包括：多节拐臂和竖直设置的夹持部件，各节拐臂通过连接轴相连，首节拐臂的一端设置于上层作业区，末节拐臂的一端与所述夹持部件软连接。进一步的，所述装置还包括用于容置石墨件的石墨件放置箱，所述石墨件放置箱设置于所述下层作业区。进一步的，所述装置还包括用于带动装配架水平移动的滚轮，所述滚轮设置于装配架的配重区的下方。本技术的还原炉硅芯安装装置通过设置两层的装配架，利用配重区内的配重块保持装配架的平衡，并由配重区延伸出上层作业区和下层作业区，从而使安装人员可以在下层作业区进行硅芯的安装操作，无需站在还原炉底盘上，避免还原炉底盘和电极受到污染，从而保证多晶硅产品的品质。附图说明图1为本技术实施例提供的还原炉硅芯安装装置的结构主视图；图2为本技术实施例提供的还原炉硅芯安装装置的结构俯视图。图例说明：1、装配架 2、配重区 3、下层作业区4、上层作业区 5、配重块 6、还原炉底盘7、硅芯 9、硅芯放置架 10、硅芯对准器11、石墨件放置箱 12、工具箱 13、滚轮14、辅控制面板 31、下层底板 32、楼梯41、顶部横梁 42、上层底板 61、石墨件81、行程梁 82、支撑板 84、主控制面板101、拐臂 102、夹持部件具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细描述。本技术实施例提供一种还原炉硅芯安装装置，以下结合图1详细说明该还原炉硅芯安装装置的结构。如图1所示，该还原炉硅芯安装装置包括装配架1，装配架1为两层，包括配重区2、下层作业区3和上层作业区4，配重区内设置有配重块5，用以保持装配架1的平衡。配重块5设置于配重区2的下部中间的位置，配重块的重量可以根据整个还原炉硅芯安装装置的总重量以及伸出长度确定。下层作业区3和上层作业区4从配重区2水平延伸而出。下层作业区3的下表面的高度高于还原炉底盘6的高度，以便在下层作业区3内进行将硅芯7竖直安装在还原炉底盘6上的操作，上层作业区4用于进行石墨件本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种还原炉硅芯安装装置，其特征在于，包括两层的装配架，所述装配架包括配重区、下层作业区和用于进行水平安装硅芯的操作的上层作业区，配重区内设置有配重块，用以保持装配架的平衡，下层作业区和上层作业区从所述配重区水平延伸而出；所述下层作业区的下表面的高度高于还原炉底盘的高度，以便在所述下层作业区内进行将石墨件安装在还原炉底盘上的操作。
【技术特征摘要】
1.一种还原炉硅芯安装装置，其特征在于，包括两层的装配
架，所述装配架包括配重区、下层作业区和用于进行水平安装硅
芯的操作的上层作业区，配重区内设置有配重块，用以保持装配
架的平衡，下层作业区和上层作业区从所述配重区水平延伸而出；
所述下层作业区的下表面的高度高于还原炉底盘的高度，以
便在所述下层作业区内进行将石墨件安装在还原炉底盘上的操
作。
2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括
能够水平调节所述上层作业区和下层作业区的作业位置的延伸机
构。
3.如权利要求2所述的装置，其特征在于，所述上层作业区
包括顶部横梁和能够承载安装人员的上层底板，所述下层作业区
包括能够承载安装人员的下层底板；
所述延伸机构包括行程梁和支撑板，设置于上层作业区顶部
的行程梁与所述顶部横梁相连，能够水平延伸或收回，设置于上
层作业区底部的行程梁能够从所述上层底板水平延伸或收回，设
置于上层作业区底部的支撑板能够沿上层作业区底部的行程梁水
平延伸或收回；下层作业区底部的行程梁能够从所述下层底板水
平延伸或收回，设置于下层作业区底部的支撑板能够沿下层作业
区底部的行程梁水平延伸或收回。
4.如权利要求3所述的装置，其特征在于，所述装置还包括
用于竖直容置硅芯的硅芯放置架，所述硅芯放置架设置于所述装
配架的上层作业区和下层作业区...
【专利技术属性】
技术研发人员：张旭，陶立新，
申请(专利权)人：新特能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：新疆;65
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