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一种由芳腈直接制备芳醛的新方法技术

技术编号:10960498 阅读:67 留言:0更新日期:2015-01-28 12:45
本发明专利技术提供一种由芳腈直接制备芳醛的方法:在醋酸水溶液中,吡啶和次亚磷酸钠在氮气氛围中、雷尼镍催化下将芳腈一步还原为芳醛。该方法以醋酸水溶液为反应溶剂,次亚磷酸钠和醋酸作用所生成的次亚磷酸与吡啶形成一种盐,该盐在雷尼镍催化下释放出原位氢将芳腈直接还原为芳醛,反应快捷,操作简便,原料易得,条件温和,有较高产率,适宜工业化制备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于化学合成领域,特别涉及。
技术介绍
芳腈作为一种常见易得的合成中间体,其制备方法很多,如通过卤代芳烃与氰化 亚铜反应得到芳腈,也可通过芳香伯胺经Sandmeyer重氮化反应得到芳腈。 芳醛是一种重要的化学中间体,其化学活性较强,能发生多种化学反应,其醛基官 能团在有机合成中相当重要。 由芳腈直接制备芳醛的方法有着较大的应用价值。目前由芳腈制备芳醛的技术方 法主要有以下几种: I)Fred Xi, Fred Kamal 等人在《A novel and convenient transformation of nitriles to aldehydes》中使用氧化钼做催化剂,甲酸为还原剂将芳腈还原为芳醒; 2)A. Chatter jee,R. A. Shaikh 等人在《Direct reductive hydrolysis ofnitriles to aldehydesover Ru-and Pt-loaded zeolites》中报导用钌 / 沸石、钼 / 沸 石作催化剂通入氢气将芳腈还原为芳醛; 3) Bu i The Kha i , An ton i 〇 Ar c e 11 i 等人在《A New Hy dro gen Source. 3. Chemoselective Reduction with Et3NH+H2P02、nH20/Raney Nickel and RuCl2 (PPh3) 3》一文中提到在THF与乙醇作溶剂的反应体系中力口入Et3NH+H2P0 2_*I· 5H20/ Raney Ni中还原芳腈为芳醒; 4)Kei Goto,Junji Kobayashi 等在《Synthesis, Structure, and Reducing Ability of a Stable Organotrihydroaluminate Bearing a Novel Bowl-Type Substituent》中合成催化剂BmtAlH3Li (DME)2,用其还原芳腈; 5)A. ff. Finhoi. TE等在《Organic Reductions by Sodium Aluminum Hydride》中 使用四氢错钠 ,Alfrede E.G.等在《Reductions with Dialkylaluminum Hydrides》中使 用二烷基氢化铝,将芳腈还原为芳醛。 纵观这些由芳腈制备芳醛的技术方法,通常步骤复杂,反应条件严苛,操作安全性 低,反应试剂难得,而且具有产率低、副产物多(如过度还原将醛变为醇),反应化学选择 性低等缺陷。
技术实现思路
专利技术目的:本专利技术目的在于提供一种工艺简单、条件温和、产率高的由芳腈直接制 备芳醛的方法。 技术方案:本专利技术提供的是一种由芳腈直接制备芳醛的方法:在醋酸水溶液中, 吡啶和次亚磷酸钠在氮气氛围中、雷尼镍催化下将芳腈一步还原为芳醛; 其反应式如下: 本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种由芳腈直接制备芳醛的方法,其特征在于:在醋酸水溶液中,吡啶和次亚磷酸钠在氮气氛围中、雷尼镍催化下将芳腈一步还原为芳醛; 其反应式如下: 。

【技术特征摘要】
1. 一种由芳腈直接制备芳醛的方法,其特征在于:在醋酸水溶液中,吡啶和次亚磷酸 钠在氮气氛围中、雷尼镍催化下将芳腈一步还原为芳醛; 其反应式如下: Py, NaH2PO2 ArCN -? ArCHO。 R-Ni, HOAc2. 根据权利要求1所述的一种由芳腈直接制备芳醛的方法,其特征在于:反应时间为 4-10h,反应温度为60-150°C。3. 根据权利要求1所述的一种由芳腈直接芳...

【专利技术属性】
技术研发人员:葛裕华李婷婷任开路
申请(专利权)人:东南大学
类型:发明
国别省市:江苏;32

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