一种阵列基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够解决在Cell工艺中，产生的白Mura不良的问题。上述制作方法包括形成显示区域和非显示区域的方法。还包括：通过构图工艺，在显示区域形成取向膜的图案，并至少在非显示区域中除电路绑定区域以外的部分，形成透明保护层的图案。然后，通过摩擦压印工艺，在取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案，用于对液晶层中的液晶分子进行有序排列；其中，上述透明保护层的表面高度小于等于取向膜的表面高度。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管-液晶显示器)作为一种平板显示装置，因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点，而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。TFT-LCD由阵列基板和彩膜基板构成。在阵列基板和彩膜基板之间设置有液晶层，通过控制液晶层中液晶分子的偏转，实现对光线强弱的控制，最终达到图像显示的目的。现有TFT-LCD的制造工艺主要包括四个阶段，分别为彩膜基板制备工艺、Array(阵列基板制造)工艺、Cell(液晶盒制备)工艺以及Module(模块组装)工艺。为了有效的对液晶分子的偏转进行控制，在Cell工艺中，如图1所示，需要在已经制备好的阵列基板的有效显示区域(ActiveArea，简称AA区域)的表面设置取向膜10，以使得位于所述取向膜10表面的液晶分子能够排列一致。具体的，在所述AA区域的表面形成一透明树脂层，然后采用印刷辊(RubbingCloth)在所述透明树脂层的表面进行摩擦，以制作出整齐的纹路，从而完成取向膜10的制备。然而，在上述制备取向膜的过程中，当印刷辊在所述取向膜材料层的表面进行摩擦时，同时会对AA区域以外的区域(非显示区域)进行摩擦。由于非显示区域内设置有用于传输控制信号的金属线20或用于电路绑定区域21的金属层。当印刷辊与金属线20或金属层摩擦时，会产生金属碎屑以及过多的印刷辊上的印刷布料(Cloth)碎屑。在清洗过程中，由于所述金属碎屑的质地较硬，在水流的冲击作用下会对已经制备好的取向膜10的表面进行破坏，并且上述Cloth碎屑会残留于取向膜的表面。从而导致部分液晶分子无法按照预设位置进行排序。这样一来，在显示过程中，上述处于无序排列状态的液晶分子，其偏转状态将无法被有效控制。从而导致AA区域出现不受控的亮像素点(即白Mura不良)，对画面品质造成不良的影响。虽然现有技术中会对阵列基板进行光学检测，以对检测出的不良进行修复。然而由于所述阵列基板上的像素电极层的厚度较薄，降低了光学检测的识别度，因此导致白Mura不良漏检率升高。从而严重降低了产品的质量和显示效果。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，能够解决在Cell工艺中，产生的白Mura不良的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例的一方面，提供一种阵列基板的制作方法，包括形成显示区域和非显示区域的方法，还包括：通过构图工艺，在所述显示区域形成取向膜的图案；通过构图工艺，至少在所述非显示区域中除电路绑定区域以外的部分，形成透明保护层的图案；通过摩擦压印工艺，在所述取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案，用于对液晶分子进行有序排列；其中，所述透明保护层的表面高度小于等于所述取向膜的表面高度。本专利技术实施例的另一方面，提供一种阵列基板，包括显示区域和非显示区域，还包括：位于显示区域的取向膜，所述取向膜的表面设置有多条具有一致排列方向的纹路图案，用于对液晶分子进行有序排列；至少位于非显示区域中除电路绑定区域以外部分的透明保护层；其中，所述透明保护层的表面高度小于等于所述取向膜的表面高度。本专利技术实施例的又一方面，提供一种显示装置，包括如上所述的任意一种阵列基板。本专利技术实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置。其中上述制作方法包括形成显示区域和非显示区域的方法。还包括：通过构图工艺，在显示区域形成取向膜的图案，并至少在非显示区域中除电路绑定区域以外的部分，形成透明保护层的图案。然后，通过摩擦压印工艺，在取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案，用于对液晶层中的液晶分子进行有序排列；其中，上述透明保护层的表面高度小于等于取向膜的表面高度。这样一来，在对取向膜进行摩擦压印工艺的过程中，由于保护层的存在，能够防止印刷辊对保护层下方的用于传输控制信号的金属线进行摩擦，从而避免了金属碎屑和过多Cloth碎屑的产生。此外，虽然电路绑定区域的表面没有覆盖透明保护层，但是在阵列基板的制作过程中，上述电路绑定区域的面积一般小于印刷辊的印刷面积，且透明保护层位于电路绑定区域的上方。因此印刷辊会与电路绑定区域周边的透明保护层相接触而不会磨损到电路绑定区域的金属层，避免了金属碎屑的产生。因此在后续的冲洗过程中，由于没有质地较硬的金属碎屑对已经制备好的取向膜的表面进行破坏，并且由于Cloth碎屑的减少，降低了其在取向膜表面的残留数量。因此可以使得液晶分子能够按照预设位置在取向膜的表面进行排序，解决在Cell工艺中，产生的白Mura不良的问题。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中提供的一种阵列基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作方法流程图；图3为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的制作方法流程图；图5a-图5e为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作过程示意图；图6为本专利技术实施例提供的又一种阵列基板的制作方法流程图；图7a-图7g为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的制作过程示意图。附图说明：01-阵列基板；10-取向膜；20-金属线；21-电路绑定区域；30-透明保护层；40-光刻胶；101-第一树脂层；201-第二树脂层；401-第一光刻胶完全覆盖区域；402-第一光刻胶完全去除区域；411-第二光刻胶完全覆盖区域；412-第二光刻胶完全去除区域；413-光刻胶部分去除区域；AA-显示区域。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种阵列基板的制作方法，包括形成如图1所示的，显示区域AA和非显示区域(除了显示区域AA以外的区域，图中未示出)的方法，如图2所示，还可以包括：S101、通过构图工艺，如图3所示，在显示区域AA形成取向膜的图案。S102、通过构图工艺，至少在非显示区域中除电路绑定区域21以外的部分，形成透明保护层30的图案。S103、通过摩擦压印工艺，在所述取向膜10的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案，用于对液晶层中的液晶分子进行有序排列。其中，透明保护层30的表面高度小于等于取向膜10的表面高度。本专利技术实施例提供一种阵列基板的制作方法，包括形成显示区域和非显示区域的方法。还包括：通过构图工艺，在显示区域形成取向膜的图案，并至少在非显示区域中除电路绑定区域以外的部分，形成透明保护层的图案。然后，通过摩擦压印工艺，在取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案，用于对液晶层中的液晶分子进行有序排列；其本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板的制作方法，包括形成显示区域和非显示区域的方法，其特征在于，还包括：通过构图工艺，在所述显示区域形成取向膜的图案；通过构图工艺，至少在所述非显示区域中除电路绑定区域以外的部分，形成透明保护层的图案；通过摩擦压印工艺，在所述取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案，用于对液晶分子进行有序排列；其中，所述透明保护层的表面高度小于等于所述取向膜的表面高度。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制作方法，包括形成显示区域和非显示区域的方法，其特征在于，还包括：通过构图工艺，在所述显示区域形成取向膜的图案；通过构图工艺，至少在所述非显示区域中除电路绑定区域以外的部分，形成透明保护层的图案；通过摩擦压印工艺，在所述取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案，用于对液晶分子进行有序排列；其中，所述透明保护层的表面高度小于等于所述取向膜的表面高度；所述透明保护层与所述取向膜异层设置。2.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在进行所述摩擦压印工艺之前，形成透明保护层的方法包括：在形成有所述取向膜的基板表面，涂覆第一树脂层；在所述第一树脂层的表面形成光刻胶；通过一次掩膜曝光工艺，并进行显影后形成第一光刻胶完全覆盖区域和第一光刻胶完全去除区域，所述第一光刻胶完全覆盖区域对应待形成的所述透明保护层的图案；所述第一光刻胶完全去除区域对应所述取向膜的图案以及所述电路绑定区域；刻蚀对应所述第一光刻胶去除区域的所述第一树脂层；对所述第一光刻胶完全覆盖区域的光刻胶进行剥离，以形成所述透明保护层。3.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在进行所述摩擦压印工艺之前，形成所述取向膜和所述透明保护层的方法包括：在形成有所述显示区域和所述非显示区域的阵列基板的表面，涂覆第一树脂层；在形成有所述第一树脂层的基板表面，涂覆第二树脂层；在所述第二树脂层的表面形成光刻胶；通过一次掩膜曝光工艺，并进行显影后形成第二光刻胶...

【专利技术属性】
技术研发人员：董廷泽，王羽佳，莫骏，管培强，张志男，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11