本公开提供了一种溅射阴极装置，用于向镀膜基板的表面进行溅射，其包括分离的多个阴极部件，每个阴极部件均包括阴极管及设置在该阴极管外周的至少一个平面靶材，所述多个阴极部件被布置成每个阴极部件的其中一个平面靶材朝向镀膜基板的表面，从而对该表面进行溅射。本公开使用具有多个阴极部件的分割式阴极结构，每个阴极部件上可以安装有至少一个靶材，能够借助多个平面靶材同时对镀膜基板实施溅射，加快了镀膜速率和提高了靶材利用率。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本公开提供了一种溅射阴极装置，用于向镀膜基板的表面进行溅射，其包括分离的多个阴极部件，每个阴极部件均包括阴极管及设置在该阴极管外周的至少一个平面靶材，所述多个阴极部件被布置成每个阴极部件的其中一个平面靶材朝向镀膜基板的表面，从而对该表面进行溅射。本公开使用具有多个阴极部件的分割式阴极结构，每个阴极部件上可以安装有至少一个靶材，能够借助多个平面靶材同时对镀膜基板实施溅射，加快了镀膜速率和提高了靶材利用率。【专利说明】溅射阴极装置
本公开涉及一种镀膜技术，尤其涉及一种溅射阴极装置。
技术介绍
现有G4.5代串式(Cluster)溅射镀膜机的镀膜方式是用一块平面靶材溅射到基板上成膜。如图1所示，平面金属靶材12安装在镀膜机的阴极管11上，等离子体轰击金属革巴材12碰撞出金属原子,逸出的原子按照一定方向沉积在玻璃基板16上形成一定厚度的膜层。此种结构有较多缺陷:靶材四个角的刻蚀最快，利用率低；一块靶材用完后必须更换靶材，设备维护保养(PM)的周期短；一个室内无法连续镀多层膜；因易发小丘，一旦设备停止3分钟以上则需要先跑测试片(Pre)，来把靶材表面的杂质溅射到测试片上带走，从而延长了工艺时间；并且成膜速率较低。 在所述
技术介绍
部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
鉴于以上内容，本技术公开了一种溅射阴极装置，能够加快镀膜速率并提高靶材的利用率。 本公开的额外方面和优点将部分地在下面的描述中阐述，并且部分地将从描述中变得显然，或者可以通过本公开的实践而习得。 本公开的一方面提供了一种溅射阴极装置，用于向镀膜基板的表面进行溅射，其包括分离的多个阴极部件，每个阴极部件均包括阴极管及设置在该阴极管外周的至少一个平面靶材，所述多个阴极部件被布置成每个阴极部件的其中一个平面靶材朝向镀膜基板的表面，从而对该表面进行溅射。 一实施例中，每个阴极部件还包括支撑座和机架，阴极管安装于支撑座上，机架与支撑座连接，并能够带动支撑座和阴极管旋转，使得每个阴极部件的平面靶材选择性的朝向镀膜基板的表面。 一实施例中，阴极部件的数量为3个，包括第一阴极部件、第二阴极部件及第三阴极部件，第一阴极部件及第三阴极部件位于第二阴极部件的两侧，第一阴极部件与镀膜基板的表面之间具有第一距离，第二阴极部件与镀膜基板的表面之间具有第二距离，第三阴极部件与镀膜基板的表面之间具有第三距离，其中，第一距离等于第三距离，且小于第二距离。 一实施例中，第二阴极部件的朝向镀膜基板的表面的平面靶材是选择性地与该表面平行，第一阴极部件的朝向镀膜基板的表面的平面靶材以及第三阴极部件的朝向镀膜基板的表面的平面靶材均以一预定角度来朝向该镀膜基板的表面，且第一、第二及第三阴极部件相对于镀膜基板的表面对称设置。 一实施例中，第一、第二及第三阴极部件在镀膜基板的表面上分别形成第一、第二及第三溅射区域，且第一溅射区域与第二溅射区域部分重叠，第二溅射区域与第三溅射区域部分重叠，且上述重叠部分面积相等。 一实施例中，每一阴极管外周均匀设置多个平面靶材。 一实施例中，每一阴极管垂直于其长度方向的截面为多边形，且在与所述多边形的每条边对应的侧面上均布置有一个平面靶材。 一实施例中，所述截面为三角形、四边形或五边形。 一实施例中，每个阴极部件还包括屏蔽罩，屏蔽罩固定连接于机架，其沿着阴极管的长度方向设置并围绕所述阴极管，且该屏蔽罩具有开口，在机架带动支撑座和阴极管旋转的过程中，使每一阴极部件的平面靶材选择性的朝向镀膜基板的表面并从开口露出。 本公开使用具有多个阴极部件的分割式阴极结构，每个阴极部件上可以安装有至少一个靶材，能够借助多个平面靶材同时对镀膜基板实施溅射，加快了镀膜速率和提高了靶材利用率。 【专利附图】【附图说明】 通过参照附图详细描述其示例实施方式，本公开的上述和其它特征及优点将变得更加明显。 图1是现有技术的溅射镀膜机的镀膜方式示意图； 图2是示意性图示根据本公开实施例的溅射镀膜机的镀膜方式的俯视图； 图3是根据本公开实施例的单个阴极部件的结构侧视图；及 图4是示意性图示根据本公开实施例的重叠溅射区域的俯视图。 【具体实施方式】 现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本公开将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中，为了清晰，夸大了区域和层的厚度。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。 所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而没有所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、材料等。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本公开的各方面。 本公开揭露一种由多根直立式靶材同时溅射的阴极结构，能加快镀膜速率和提高靶材利用率。本公开的阴极结构可应用于真空镀膜的生产设备中。 图2是示意性图示根据本公开实施例的溅射镀膜机的镀膜方式的俯视图。如图2所示，本实施例提供一种溅射阴极装置，用于向镀膜基板26的表面进行溅射。溅射阴极装置包括分离的多个阴极部件210，每个阴极部件210均包括阴极管211及设置在该阴极管211外周上的至少一个平面靶材212，多个阴极部件210被布置成每个阴极部件210的其中一个平面靶材212朝向镀膜基板26的表面，从而对该表面进行溅射。本公开使用具有多个阴极部件的分割式阴极结构，每个阴极部件上可以安装有至少一个靶材，能够借助多个平面靶材同时对镀膜基板实施溅射，加快了镀膜速率和提高了靶材利用率。 如图3所示，本实施例中，每个阴极部件210还包括支撑座34和机架35，阴极管211安装于支撑座34上，机架35与支撑座34连接，并能够带动支撑座34旋转，进而使阴极管211旋转。阴极管211的旋转过程中，其上的平面靶材212选择性的朝向镀膜基板26的表面。当阴极管211的三个侧面上安装相同材质的靶材时，一面靶材用完后可以换面使用，减少设备维护保养(PM)的次数；当阴极管211的三个侧面上安装不同材质的靶材时，可根据溅射需要选择相应的平面靶材，因此无需更换整个阴极部件。 优选的，在阴极管211的内部还可绝缘支承有中心支承管(未图示)，中心支承管的底部设置有磁芯元件。中心支承管的内腔与安装在机架35上的进水管相通，在内腔中流动着冷却水，以避免长期工作后平面靶材212的工作温度过高。 另外,支承座34可通过绝缘件及轴承绝缘地活动支承在机架35上。支承座34上设置有电刷(未图示)，电源通过电刷和支承座34传导连接到阴极管211上；工作时，高负电压通过电刷经由支承座34传递至阴极管211上。 如图2所示，本实施例中，阴极部件210的数量为3个，包括第一阴极部件214、第二阴极部件215及第三阴极部件216。应当理解，溅射阴极装置中包括的阴本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种溅射阴极装置，用于向镀膜基板的表面进行溅射，其特征在于，其包括分离的多个阴极部件，每个阴极部件均包括阴极管及设置在该阴极管外周的至少一个平面靶材，所述多个阴极部件被布置成每个阴极部件的其中一个平面靶材朝向镀膜基板的表面，从而对该表面进行溅射。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：卞楷周，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。