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本公开提供了一种溅射阴极装置，用于向镀膜基板的表面进行溅射，其包括分离的多个阴极部件，每个阴极部件均包括阴极管及设置在该阴极管外周的至少一个平面靶材，所述多个阴极部件被布置成每个阴极部件的其中一个平面靶材朝向镀膜基板的表面，从而对该表面进行...
该专利属于上海和辉光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海和辉光电有限公司授权不得商用。

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