一种抗反射内嵌式微纳金属互联线路制造技术

本实用新型专利技术提供一种抗反射内嵌式微纳金属互联线路，包括：基底；柔性材料层，结合于所述基底表面，所述柔性材料层表面形成有多个凹槽结构；导电金属层，形成于所述柔性材料层表面及各凹槽结构中，所述导电金属层表面具有凹陷区域；抗反射层，形成于所述导电金属层表面的各凹陷区域中。本实用新型专利技术与现有技术相比，避免了多次刮印对器件表面的损伤，改善了外观，适用于对表面形貌要求高的触控产品工艺，本实用新型专利技术成本较低，可应用在触摸屏行业、天线制备及HDI板等行业。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供一种抗反射内嵌式微纳金属互联线路，包括：基底；柔性材料层，结合于所述基底表面，所述柔性材料层表面形成有多个凹槽结构；导电金属层，形成于所述柔性材料层表面及各凹槽结构中，所述导电金属层表面具有凹陷区域；抗反射层，形成于所述导电金属层表面的各凹陷区域中。本技术与现有技术相比，避免了多次刮印对器件表面的损伤，改善了外观，适用于对表面形貌要求高的触控产品工艺，本技术成本较低，可应用在触摸屏行业、天线制备及HDI板等行业。【专利说明】一种抗反射内嵌式微纳金属互联线路
本技术属于印刷电子
，特别是涉及一种抗反射内嵌式微纳金属互联线路。
技术介绍
印刷电子技术是基于印刷原理的电子制造技术。在过去的几十年时间内，硅基半导体微电子技术占据了电子技术的绝对主导地位。但由于硅基集成电路制造技术的日益复杂和所需要的巨大投资，硅基集成电路的制造完全垄断在全世界少数几家大公司手中。因此，在过去10多年中对溶液化有机与无机半导体材料的研究开发，催生了用传统印刷技术制造各种电子器件的探索研究。 印刷电子技术是继硅基微电子技术之后电子制造领域的一项变革性产业技本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗反射内嵌式微纳金属互联线路，其特征在于：包括：基底；柔性材料层，结合于所述基底表面，所述柔性材料层表面形成有多个凹槽结构；导电金属层，形成于所述柔性材料层表面及各凹槽结构中，所述导电金属层表面具有凹陷区域；抗反射层，形成于所述导电金属层表面的各凹陷区域中。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：徐厚嘉，杨恺，平财明，林晓辉，
申请(专利权)人：上海蓝沛新材料科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31