一种制备低反射率金属薄膜的方法技术

本发明专利技术涉及一种制备低反射率金属薄膜的方法，特别涉及一种在光学玻璃表面制备低反射率薄膜的方法，适用于航天器用光学零件如码盘、光栅等所采用的低反射率薄膜的制备，属于薄膜制备技术领域。本发明专利技术的方法制备的金属薄膜的反射率低≤10%，能够作为制备码盘、柱面镜、光学入射缝板等光学零件的低反射率薄膜；在制备过程中使用了反应气体，使膜层含气，不易氧化，容易刻蚀。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种制备低反射率金属薄膜的方法，其特征在于该方法的步骤为：1）按要求将石英玻璃基片加工成型，然后对石英玻璃基片进行清洗，最后将石英玻璃基片装入真空镀膜机的真空室中；2）在石英玻璃基片上用磁控溅射法制备低反射率薄膜，步骤为：（a）对真空镀膜机的真空室抽真空，并将石英玻璃基片加热至100℃?130℃；（b）当真空镀膜机的真空室的真空度达到2×10?3Pa以下时开始进行溅射蒸镀工作，步骤为：（ⅰ）将工作气体和反应气体充入真空镀膜机的真空室中，使真空镀膜机的真空室的压力为6×10?1～8×10?1Pa；所述的工作气体为氩气，反应气体为氧气或氮气，工作气体与反应气体的体积比为5?6:1；（ⅱ）对金属靶进...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘江，秦素然，高修涛，石建民，范汉超，王婧烨，赵娜，
申请(专利权)人：北京控制工程研究所，
类型：发明
国别省市：