一种用于阵列基板的测试单元、阵列基板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于阵列基板的测试单元、阵列基板及显示装置，属于显示技术领域，可防止测试结构的爬坡处发生断裂等不良现象的发生，保证测试结果的准确程度。该用于阵列基板的测试单元，包括测试结构和两个金属衬底，其中，所述测试结构包括连接部分和两个接触部分，其中，接触部分位于对应的金属衬底之上且与该金属衬底接触，所述连接部分连接两个接触部分，任一接触部分与所述连接部分的连接处位于金属衬底的对应区域之外。本发明专利技术可用于液晶电视、液晶显示器、手机、平板电脑等显示装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，具体地说，涉及一种用于阵列基板的测试单元、阵列基板及显示装置。
技术介绍
液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称LCD)是目前主流的显示装置。液晶显示器主要由阵列基板、彩膜基板、周边电路及背光组件等部分构成。其中，阵列基板是采用特定规格的玻璃基板，在该玻璃基板上经过镀膜、曝光、刻蚀等一系列工艺制成一定数量的像素，每一像素包括三个不同颜色的子像素，每一子像素为阵列基板的最小显示组成。每一子像素都能正常工作保证了该液晶显示器能够正常显示画面。 液晶显示器的生产工艺，尤其是阵列基板的制造工艺非常复杂，所以在制造过程中，不可避免的会因为工艺误差而发生各种缺陷。为了尽可能的降低缺陷发生率从而提高产品良率，在制造过程中的关键工艺后通常会设置相应的检测工序，以便能及时地发现缺陷并采取相应措施杜绝缺陷大范围扩散或将缺陷带入下一工艺步骤。其中，对于各子像素的像素电极的测试来说，通常是在阵列基板的边缘设置一个测试单元，该测试单元包括有与像素电极同时形成的测试结构、分别承载测试结构的两端的两个金属衬底。测试设备的探针同时与两个金属衬底接触，可测得该测试结构的阻值，进而可知像素电极的阻值是否符合要求。 专利技术人发现，现有技术中，测试结构的位置低于金属衬底的位置，因此，测试结构与金属衬底的接触需要测试结构经过爬坡实现。而测试结构的爬坡处容易发生断裂等接触不良现象，会造成测试结果的误判，需要消耗大量的人力物力进行清理，既增加阵列基板的制备成本又降低制备效率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于阵列基板的测试单元、阵列基板及显示装置，可防止测试结构的爬坡处发生断裂等不良现象的发生，保证测试结果的准确程度。 本专利技术提供一种用于阵列基板的测试单元，包括测试结构和两个金属衬底，其中，所述测试结构包括连接部分和两个接触部分，其中，接触部分位于对应的金属衬底之上且与该金属衬底接触，所述连接部分连接两个接触部分，任一接触部分与所述连接部分的连接处位于金属衬底的对应区域之外。 其中，所述的测试单元还包括：位于所述测试结构和金属衬底之间的绝缘层，所述绝缘层形成有通孔，接触部分通过通孔与金属衬底接触。 其中，所述连接部分为具有多个弯折的条状结构。 其中，任一金属衬底为方形。 进一步的，任一接触部分为方形，其与所述连接部分连接的侧边位于金属衬底的对应区域之外。 其中，所述测试结构的材质为氧化铟锡。 本专利技术带来了以下有益效果：在本专利技术实施例的技术方案中，提供了一种用于阵列基板的测试单元，该测试单元包括测试结构和两个金属衬底。其中，该测试结构包括连接部分和两个接触部分，接触部分位于对应的金属衬底之上且与该金属衬底接触，且其与连接部分的连接处位于金属衬底的对应区域之外。意味着接触部分需要部分延伸出金属衬底的对应区域，增大了测试结构的爬坡处的面积尺寸，减小了发生断裂等接触不良现象发生的可能性，提高了测试结果的准确程度。 本专利技术第二方面提供了一种阵列基板，包括上述的用于阵列基板的测试单元。 本专利技术第三方面提供了一种显示装置，包括上述的阵列基板。 本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。 附图说明 为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要的附图做简单的介绍： 图1是本专利技术实施例提供的测试单元的示意图； 图2是图1中A-A的剖面示意图。 附图标记说明： 1—测试结构；     11—连接部分；  12—接触部分； 2—金属衬底；     3—绝缘层；     4—通孔； 5—栅极绝缘层；   6—基板。 具体实施方式 以下将结合附图及实施例来详细说明本专利技术的实施方式，借此对本专利技术如何应用技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是，只要不构成冲突，本专利技术中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合，所形成的技术方案均在本专利技术的保护范围之内。 本实施例第一方面提供了一种用于阵列基板的测试单元，如图1所示，该测试单元包括包括测试结构1和两个金属衬底2，其中，所述测试结构1包括连接部分11和两个接触部分12，其中，接触部分12位于对应的金属衬底2之上且与该金属衬底2接触，所述连接部分11连接两个接触部分12，任一接触部分12与所述连接部分11的连接处位于金属衬底2的对应区域之外。 具体的，接触部分12与连接部分11的连接处位于金属衬底2的对应区域之外，意味着接触部分12需要部分延伸出金属衬底2的对应区域。如此一来，增大了测试结构1的爬坡处的面积尺寸，减小了断裂发生的可能性；另外有杂质等接触不良现象带来的影响也减小，可保证测试结果的准确程度。 在本专利技术实施例的技术方案中，提供了一种用于阵列基板的测试单元，该测试单元包括测试结构和两个金属衬底。其中，该测试结构包括连接部分和两个接触部分，接触部分位于对应的金属衬底之上且与该金属衬底接触，且其与连接部分的连接处位于金属衬底的对应区域之外。意味着接触部分需要部分延伸出金属衬底的对应区域，增大了测试结构的爬坡处的面积尺寸，减小了发生断裂等接触不良现象发生的可能性，提高了测试结果的准确程度。 进一步的，该测试结构1与阵列基板上的像素电极为在同一次构图工艺中形成的，其材质与像素电极一致，通常为氧化铟锡(Indium Tin Oxide，简称ITO)、氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，简称IZO)、氧化铟镓锌(Indium Gallium Zinc Oxide，简称IGZO)等透明的金属氧化物制成。相应的，金属衬底2与阵列基板上的数据线、薄膜晶体管的源/漏极为在同一次构图工艺中形成的，通常采用铜等导电性良好的材料制成。由于测试结构与像素电极在同一次构图工艺中形成，因此，虽然测试结构1与像素电极绝缘，但是通过设定合适的测试结构1的图形，通过本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于阵列基板的测试单元，包括测试结构和两个金属衬底，其特征在于，所述测试结构包括连接部分和两个接触部分，其中，接触部分位于对应的金属衬底之上且与该金属衬底接触，所述连接部分连接两个接触部分，任一接触部分与所述连接部分的连接处位于金属衬底的对应区域之外。

【技术特征摘要】
1.一种用于阵列基板的测试单元，包括测试结构和两个金属衬底，其特征
在于，
所述测试结构包括连接部分和两个接触部分，其中，接触部分位于对应的金
属衬底之上且与该金属衬底接触，所述连接部分连接两个接触部分，任一接触部
分与所述连接部分的连接处位于金属衬底的对应区域之外。
2.根据权利要求1所述的测试单元，其特征在于，还包括：
位于所述测试结构和金属衬底之间的绝缘层，所述绝缘层形成有通孔，接触
部分通过通孔与金属衬底接触。
3.根据权利要求1所述的测试单元，其特征在于，所述连接部分...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐向阳，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44