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改进密封结构制造技术

技术编号:10687474 阅读:118 留言:0更新日期:2014-11-26 16:51
本实用新型专利技术公开了一种改进密封机构,包括转轴和壳体,所述壳体内设置有轴承和密封副,所述转轴依次穿过轴承和密封副,所述密封副包括永磁体、设置在永磁体两端的磁极和设置在所述两个磁极与所述转轴之间的磁流体,所述轴承和磁极之间设置有挡流环,所述壳体转轴的连接处设置有密封圈。该结构的密封结构,采用密封圈密封和磁流体密封的复合密封结构,可以达到完全无泄漏的密封效果,同时,利用挡流环挡住密封液,可以避免密封液对磁流体的冲刷,避免磁流体流失,从而进一步确保密封效果,延长密封结构的使用寿命。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种改进密封机构,包括转轴和壳体,所述壳体内设置有轴承和密封副,所述转轴依次穿过轴承和密封副,所述密封副包括永磁体、设置在永磁体两端的磁极和设置在所述两个磁极与所述转轴之间的磁流体,所述轴承和磁极之间设置有挡流环,所述壳体转轴的连接处设置有密封圈。该结构的密封结构,采用密封圈密封和磁流体密封的复合密封结构,可以达到完全无泄漏的密封效果,同时,利用挡流环挡住密封液,可以避免密封液对磁流体的冲刷,避免磁流体流失,从而进一步确保密封效果,延长密封结构的使用寿命。【专利说明】改进密封结构
本技术涉及密封结构,特别涉及一种改进后的磁流体密封结构。
技术介绍
磁流体密封技术在密封技术上的应用是其最重要的成果之一,经过几十年的发展,磁流体密封已在国防、航天、机械、电子、仪表、原子能、化工、制药等众多领域得到了广泛应用,特别是在防尘密封、真空密封和压差密封三个方面表现十分突出。如重要机械旋转部位的密封,尤其是在转轴中作为设备的动态防漏部分具有突出的优越性。 现有技术的磁流体密封结构在密封液体时存在如下问题:密封液与磁流体间的相互运动,密封液对磁流体进本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种改进密封机构,包括转轴(1)和壳体(2),其特征在于:所述壳体内设置有轴承(3)和密封副,所述转轴依次穿过轴承(3)和密封副,所述密封副包括永磁体(4)、设置在永磁体两端的磁极(5)和设置在所述两个磁极与所述转轴之间的磁流体(6),所述轴承和磁极之间设置有挡流环(7),所述壳体转轴的连接处设置有密封圈(8)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:袁月
申请(专利权)人:袁月
类型:新型
国别省市:重庆;85

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