灰阶掩模板和彩膜基板及制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了灰阶掩模板及其制作方法、彩膜基板及其制作方法、显示装置。本发明专利技术的灰阶掩模板，包括透明基板和形成于所述透明基板上的遮光层，所述遮光层包括曝光区，其中：所述曝光区形成有光学半透膜，所述光学半透膜的透光率从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。本发明专利技术的灰阶掩模板的曝光区的透光率整体较均匀，因而通过该灰阶掩模板制作的柱状物的顶面呈平面状而不是传统的凸面状，这样在受到外力作用下时其硬度呈现出线性变化，避免或减轻液晶面板对外界压力变化比较敏感的L0漏光和Touch Mura等不良。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了灰阶掩模板及其制作方法、彩膜基板及其制作方法、显示装置。本专利技术的灰阶掩模板，包括透明基板和形成于所述透明基板上的遮光层，所述遮光层包括曝光区，其中：所述曝光区形成有光学半透膜，所述光学半透膜的透光率从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。本专利技术的灰阶掩模板的曝光区的透光率整体较均匀，因而通过该灰阶掩模板制作的柱状物的顶面呈平面状而不是传统的凸面状，这样在受到外力作用下时其硬度呈现出线性变化，避免或减轻液晶面板对外界压力变化比较敏感的L0漏光和Touch?Mura等不良。【专利说明】灰阶掩模板和彩膜基板及制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种隔垫物掩模板及其制作方法、彩膜基板 及其制作方法、显示装置。
技术介绍
液晶显示器的面板，包括平行设置并对盒的阵列基板和彩膜基板，两者之间设置 有液晶层，为了控制液晶层厚度的稳定均一性，在两基板之间设置隔垫物。目前，高性能的 薄膜晶体管液晶显示面板一般采用柱状隔垫物（PS)。 现有的薄膜晶体管液晶显面板制作过程中，因柱状隔垫物上表面是凸形结构，类 似于馒头状，在受到外力作用下时，因柱状隔垫物上表面接触面积较小，而柱状隔垫物本身 有弹性，形变量比较大，同时因接触面积不断变化，柱状隔垫物硬度呈现出非线性变化，这 些问题将导致液晶面板出现对外界压力变化比较敏感的不良，例如发生L0漏光和Touch Mura,严重影响画面品质。 而柱状隔垫物上表面呈凸形结构的根本原因在于传统的柱状隔垫物的制作方法， 传统方法一般为：首先在彩膜基板上涂布负性光刻胶，负性光刻胶在受到光照后将形成不 可溶物质；利用掩模板对负性光刻胶进行曝光和显影，将没有受到光照的负性光刻胶溶解 清除，而掩模板的曝光区下方的负性光刻胶就因为不可溶而形成柱状隔垫物，但是传统的 掩模板的曝光区的光强度并不均匀，而是从中间区域向边缘区域逐渐减小，所以曝光区下 方对应的负性光刻胶中间部分受到光照多，而边缘部分受到光照少，显影后边缘部分的负 性光刻胶溶解较多，这样，最终形成的柱状隔垫物上表面就会呈现凸形结构。
技术实现思路
(一）解决的技术问题 针对现有技术的不足，本专利技术提供灰阶掩模板及其制作方法、彩膜基板及其制作 方法、显示装置，使得通过该灰阶掩模板制作的柱状物在受到外力作用下时硬度呈现出线 性变化，因而避免或减轻液晶面板对外界压力变化比较敏感的不良。 (二）技术方案 为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现： -种灰阶掩模板，包括透明基板和形成于所述透明基板上的遮光层，所述遮光层 包括曝光区，其中： 所述曝光区形成有光学半透膜，所述光学半透膜的透光率从所述光学半透膜的中 间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。 优选地所述光学半透膜的厚度从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜 的边缘区域逐渐下降或梯次下降。 优选地，所述光学半透膜包括多层单位光学半透膜，在离开所述透明基板的方向 上，上一层单位光学半透膜形成于下一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半 透膜的面积尺寸小于所述下一层单位光学半透膜。 优选地，所述光学半透膜包括多层单位光学半透膜，在离开所述透明基板的方向 上，上一层单位光学半透膜形成于下一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半 透膜的面积尺寸大于所述下一层单位光学半透膜，除最下层单位光学半透膜外的每层单位 光学半透膜分布在从所述最下层单位光学半透膜起到其自身的每一层。 一种制造灰阶掩模板的方法，该方法包括： 在透明基板上形成带有曝光区的遮光层； 在所述曝光区上形成光学半透膜，且所述光学半透膜的透光率从所述光学半透膜 的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。 优选地，所述在所述曝光区上形成光学半透膜包括：在所述曝光区上依次形成多 层单位光学半透膜，使得在离开所述透明基板的方向上，上一层单位光学半透膜形成于下 一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半透膜的面积尺寸小于所述下一层单位 光学半透膜。 优选地，所述在所述曝光区上形成光学半透膜包括：在所述曝光区上依次形成多 层单位光学半透膜，使得在离开所述透明基板的方向上，上一层单位光学半透膜形成于下 一层单位光学半透膜之上，且所述上一层单位光学半透膜的面积尺寸大于所述下一层单位 光学半透膜，除最下层单位光学半透膜外的每层单位光学半透膜分布在从所述最下层单位 光学半透膜起到其自身的每一层。 一种制作彩膜基板的方法，该方法包括： 提供形成有彩色滤光层的基板； 在所述基板上涂布负性光刻胶； 使用上述的灰阶掩模板，对所述负性光刻胶进行曝光； 将没有受到光照的负性光刻胶清除，从而所述灰阶掩模板的曝光区下方的负性光 刻胶形成柱状隔垫物。 -种彩膜基板，其由上述的彩膜基板制作方法制成，所述彩膜基板上形成的柱状 隔垫物的顶面为平面状。 -种显示装置，其特征在于，包括：对盒的阵列基板和上述的彩膜基板，所述彩膜 基板的柱状隔垫物使所述彩膜基板和所述阵列基板之间形成有空间，所述空间中设置有液 晶。 (三）有益效果 本专利技术至少具有如下的有益效果： 本专利技术所提出的灰阶掩模板，其曝光区的光学半透膜的透光率从中间区域向边缘 区域逐渐下降或梯次下降，使得曝光区的透光率整体较均匀，因而通过该灰阶掩模板制作 的柱状物的顶面呈平面状而不是传统的凸面状，这样在受到外力作用下时其硬度呈现出线 性变化，避免或减轻液晶面板对外界压力变化比较敏感的L0漏光和Touch Mura等不良。 【专利附图】【附图说明】 为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术 的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据 这些附图获得其他的附图。 图1是现有技术的灰阶掩模板及其形成的柱状隔垫物的示意图； 图2是现有技术的灰阶掩模板的曝光区及其周围遮光部分的示意图； 图3是沿图2的线AA剖开的截面图； 图4是本专利技术第一实施例的灰阶掩模板和使用其形成的第四实施例的彩膜基板 的不意图； 图5是本专利技术第一实施例的灰阶掩模板的曝光区及其周围遮光部分的示意图； 图6是本专利技术第一实施例的灰阶掩模板的一种优选方式的沿图5的线BB剖开的 截面图； 图7是本专利技术第一实施例的灰阶掩模板的另一种优选方式的沿图5的线BB剖开 的截面图； 图8是本专利技术第二实施例的灰阶掩模板制造方法的流程图； 图9是本专利技术第三实施例的彩膜基板制造方法的流程图； 图10是本专利技术的第四实施例的显示装置的液晶面板与现有技术的显示装置的液 晶面板在受到压力时的柱状隔垫物的形变与压力的曲线关系图。 【具体实施方式】 为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例 中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是 本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种灰阶掩模板，其特征在于，包括透明基板和形成于所述透明基板上的遮光层，所述遮光层包括曝光区，其中：所述曝光区形成有光学半透膜，所述光学半透膜的透光率从所述光学半透膜的中间区域向所述光学半透膜的边缘区域逐渐下降或梯次下降。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴洪江，袁剑峰，黎敏，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11