一种玻璃钝化器件光刻机的自动对位装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种玻璃钝化器件光刻机的自动对位装置，包括光刻机模板和光源，所述光刻机模板，模板的一次相模对应点，设置为二个正方形对应点，二次相模对应点右移一位后设置为小圆点对应点，三次相模对应点，设置为小圆点对应点；所述光源，设置为同轴的二个红外光源，即在中心光源的外围，有辅助光源。具有提高了对位精度，又大大提高了生产效率，通用性好的优点。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体玻璃钝化器件光刻

技术介绍
目前，半导体玻璃钝化器件光刻技术，玻璃钝化、立体结构的半导体器件光刻工艺，如附图1所示现有光刻机模板的示意图，图中的一次相模板1的对应点2，二次相模板3的对应点4，以及三次相模板5的对应点6，采用人工对位方式，人工对位精确性差，效率低，影响晶片制造品质及单位成本。 
技术实现思路
为解决前述光刻机存在的问题，本技术提供一种玻璃钝化器件光刻机的自动对位装置，包括光刻机模板和光源，所述光刻机模板，模板的一次相模对应点，设置为二个正方形对应点，二次相模对应点右移一位后设置为小圆点对应点，三次相模对应点，设置为小圆点对应点；所述光源，设置为同轴的二个红外光源，即在中心光源的外围，有辅助光源。本技术的优点是，红外线辅助内外同轴光源，增加玻璃光刻胶表面材料透过率，降低表面材料反光影响，有利于图像传感器对电子或半导体功率芯片器件结构与光刻模板图像辨识、比对；采用新设计的光刻模板和同轴光源，能够实现自动对位,实现光刻过程自动化，既提高了对位精度，又大大提高了生产效率。可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种玻璃钝化器件光刻机的自动对位装置，包括光刻机模板和光源，其特征在于，所述光刻机模板，模板的一次相模对应点，设置为二个正方形对应点，二次相模对应点右移一位后设置为小圆点对应点，三次相模对应点，设置为小圆点对应点；所述光源，设置为同轴的二个红外光源，即在中心光源的外围，有辅助光源。

【技术特征摘要】
1.一种玻璃钝化器件光刻机的自动对位装置，包括光刻机模板和光源，其特征在于，所述光刻机模板，模板的一次相模对应点，设置为二个正方形对应点，二次相模...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙镇江，叶海峰，张继稳，吴爱国，魏敦林，郝昌玲，
申请(专利权)人：上海旭福电子有限公司，敦南微电子无锡有限公司，敦南科技无锡有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31