一种掩膜板及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种掩膜板，包括基板，所述基板上包括不曝光区域和部分曝光区域；其中，所述基板的不曝光区域上至少形成有不透光材料层；所述基板的部分曝光区域上形成有部分透光材料层；所述部分曝光区域中的部分透光材料层两端部分的厚度大于中间部分的厚度，且所述部分曝光区域中的部分透光材料层与不曝光区域中的不透光材料层相连。本发明专利技术还公开了一种掩膜板的制造方法，能随意调整过孔的大小，尤其是能制造出较小尺寸的过孔。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜场效应晶体管液晶显示器(TFT-1XD)
，尤其涉及。
技术介绍
TFT-1XD作为一种低功耗低辐射的新型显示器，越来越在市场中占有重要地位，当今，市场上小型化的趋势越来越明显，特别是小尺寸的产品受到更多厂家的青睐，在小尺寸TFT-1XD面板的开发中布线技术的精细化显得尤为重要，而影响布线技术最重要的因素便是过孔的大小。较小的过孔能为后续工艺提供较大的设计空间，而且由于过孔较小，能极大的改善产品的品质，并能应用于每英寸拥有像素(Pixels per inch, PPI)数高的产品的生产，特别是应用在一些特殊高端产品上时，较小的过孔就显得更为重要了。 传统制备工艺制备的过孔，其大小主要受设备本身的精度影响，因而难以制造更小尺寸的过孔，这就需要开发一种技术来尽量减小过孔的尺寸。目前，在现有技术中主要依靠两种方法来调整过孔的尺寸，一种为薄膜调整，另一种为刻蚀条件的调整；虽然通过上述两种方法可以减小最终过孔的尺寸，但减小的程度有限，且并未从根本上解决问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的主要目的在于提供，能随意调整过孔的大本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，包括基板，所述基板上包括不曝光区域和部分曝光区域；其特征在于，所述基板的不曝光区域上至少形成有不透光材料层；所述基板的部分曝光区域上形成有部分透光材料层；其中，所述部分曝光区域中的部分透光材料层两端部分的厚度大于中间部分的厚度，且所述部分曝光区域中的部分透光材料层与不曝光区域中的不透光材料层相连。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，包括基板，所述基板上包括不曝光区域和部分曝光区域；其特征在于，所述基板的不曝光区域上至少形成有不透光材料层；所述基板的部分曝光区域上形成有部分透光材料层；其中，所述部分曝光区域中的部分透光材料层两端部分的厚度大于中间部分的厚度，且所述部分曝光区域中的部分透光材料层与不曝光区域中的不透光材料层相连。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述部分透光材料层包括:第一部分透光材料层和第二部分透光材料层；其中， 所述第一部分透光材料层形成于所述部分曝光区域的两端部分，且所述第一部分透光材料层与所述不透光材料层连接；所述第二部分透光材料层形成于所述第一部分透光材料层上、以及形成于未覆盖有所述第一部分透光材料层的部分曝光区域上；或者， 所述第一部分透光材料层形成于部分曝光区域上，且所述第一部分透光材料层与不透光材料层连接；所述第二部分透光材料层形成于所述部分曝光区域的两端部分，且所述第二部分透光材料层与所述不透光材料层连接。3.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述不曝光区域上还形成有部分透光材料层，且所述部分透光材料层形成于所述不透光材料层上。4.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述部分透光材料层采用的材料包括:树脂或氧化铬。5.一种掩膜板的制造方法，所述掩膜板包括基板，所述基板包括不曝光区域和部分曝光区域；其特征在于，所述方法包括:在所述基板的不曝光区域上至少形成不透光材料层...

【专利技术属性】
技术研发人员：李田生，刘保力，谢振宇，郭建，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11