传递模以及结构制造方法技术

本发明专利技术涉及传递模以及结构制造方法。该传递模包括主体、第一层以及第二层。所述主体具有凸凹表面。所述第一层包含无机材料并且设置在所述主体的凸凹表面上。所述第二层包含氟并且设置在所述第一层的表面上。在其上设置所述第一和第二层的凸凹表面的硬度值的平均值为30Hv或更高。

【技术实现步骤摘要】
传递模以及结构制造方法交叉引用相关申请本申请要求于2013年3月1日提交的日本优先权专利申请JP2013-041075的权益，该案之全文并入本文中，以作参考。
本技术涉及一种传递模（transfermold）以及一种结构制造方法，并且更尤其地涉及一种具有凸凹表面的传递模。
技术介绍
迄今为止，在压印模中，为了提高在模具与工件之间的可释放性，使用了一种技术，该技术通过在模具的表面中应用氟化合物或硅油来减少表面能量。已经提出了以下技术，用于提高模具的可传递性。Willson等人已经提出了以下技术。使用作为包含氯氟碳树脂聚合物的硅烷偶联剂的十三氟-1,1,2,2-四氢辛基三氯硅烷，对具有非常细微的结构的石英模具进行表面处理，以便形成氟碳树脂聚合物化学吸附膜。在该技术中，通过形成在模具的表面上的化学吸附膜，减少表面能量，从而提高模具的可释放性（参考M.Colburn,S.Johnson,M.Stewart,S.Damle,T.Bailey,B.Choi.M.Wedlake,T.Michaelson,S.V.Sreenivasan,J.EkerdtandC.G.Willson,Proc.ofSPIE3676,(1999)378,andT.Bailey,B.J.Choi,M.Colburn,M.Meissl,S.Shaya,J.G.Ekerdt,S.V.Screenivasan,C.G.Willson；“StepandFlashImprintLithography:TemplateSurfaceTreatmentandDefectAnalysis”，J.Vac.Sci.Technol.B,18(6),3572-3577(2000)）。日本未经审查的专利申请公开号2012-044019公开了一种技术，用于在模具的传递形状或传递基底上形成润湿性变化层。该润湿性变化层能够通过应用具有第一波长的光以及具有第二波长的光，来相对于水可逆地改变接触角度。该公开描述了通过该技术获得以下优点。可控制湿润性变化层的湿润性，以便可提高在模具的传递形状内的工件的荷电率。还可控制湿润性变化层的湿润性，以便可保证硬化工件的模具的可释放性。通过这些优点，可稳定地形成具有高精度的图案。此外，甚至在重复使用模具的工序中，实现稳定的图案形成。日本未经审查的专利申请公开号2011-207221公开了一种技术，用于通过将树脂模具的表面的氟元素浓度（Es）设为高于在形成树脂模具的树脂内的平均氟元素浓度（Es），来提高在树脂模具与传递材料树脂之间的可释放性。
技术实现思路
因此，可取地提供了一种具有优异的可传递性的传递模以及一种结构制造方法。根据本技术的一个实施方式，提供了一种传递模，包括：主体，其具有凸凹表面；第一层，其包含无机材料，设置在所述主体的凸凹表面上；以及第二层，其包含氟，设置在所述第一层的表面上。在其上设置第一和第二层的凸凹表面的硬度值的平均值为30Hv或更高。根据本技术的一个实施方式，提供了一种结构制造方法。该制造方法包括：通过将传递模的形状传递给传递材料，来形成光学单元。传递模包括：主体，其具有凸凹表面；第一层，其包含无机材料，设置在所述主体的凸凹表面上；以及第二层，其包含氟，设置在所述第一层的表面上。在其上设置第一和第二层的凸凹表面的硬度值的平均值为30Hv或以上。根据本技术的一个实施方式，能够提供具有优异的可传递性的传递模。附图说明图1A为示出根据本技术的第一实施方式的光学单元的配置的一个实例的平面图；图1B为在图1A中所示的光学单元的表面的一部分的放大透视图；图2A为在图1A中所示的光学单元的表面的一部分的放大平面图；图2B为沿着图2A的线IIB-IIB截取的剖视图；图2C为沿着图2A的线IIC-IIC截取的剖视图；图3为在图2B中所示的光学单元的表面的一部分的放大剖视图；图4为示出光学单元的波面的横截面的面积S相对于波面的幅度A的变化的示图；图5A为根据本技术的第一实施方式的复制母版（master）的配置的一个实例的平面图；图5B为在图5A中所示的复制母版的表面的一部分的放大透视图；图6A为在图5A中所示的复制母版的表面的一部分的放大平面图；图6B为沿着图6A的线VIB-VIB截取的剖视图；图6C为沿着图6A的线VIC-VIC截取的剖视图；图7为在图6B中所示的复制母版的表面的一部分的放大剖视图；图8为示出复制母版的波面的横截面的面积S相对于波面的幅度A的变化的示图；图9A为滚轴母版的配置的一个实例的透视图；图9B为在图9A中所示的滚轴母版的一部分的放大平面图；图9C为沿着图9B的线IXC-IXC截取的剖视图；图9D为沿着图9B的线IXD-IXD截取的剖视图；图10为示出用于形成滚轴母版的滚轴母版曝光装置的配置的一个实例的示意图；图11A到图11C示出了根据本技术的第一实施方式的光学单元的制造方法的一个实例；图12A到图12C示出了根据本技术的第一实施方式的光学单元的制造方法的一个实例；图13A到图13E示出了根据本技术的第一实施方式的光学单元的制造方法的一个实例；图14A为示出根据第一修改例的光学单元的配置的一个实例的剖视图；图14B为示出根据第一修改例的复制母版的配置的一个实例的剖视图；图15为示出根据第二修改例的光学单元的配置的一个实例的平面图；图16A为根据第五修改例的光学单元的波面的一部分的放大透视图；图16B为根据第五修改例的光学单元的一部分的放大剖视图；图17A为根据第五修改例的复制母版的表面的一部分的放大透视图；图17B为根据第五修改例的复制母版的一部分的放大剖视图；图18A为示出根据第六修改例的光学单元的配置的一个实例的透视图；图18B为沿着图18A的线XVIIIB-XVIIIB截取的剖视图；图19为示出根据本技术的第二实施方式的成像装置的配置的一个实例的示意图；图20为示出根据本技术的第三实施方式的成像装置的配置的一个实例的示意图；图21为示出根据本技术的第四实施方式的显示装置的配置的一个实例的透视图；图22A为示出根据本技术的第五实施方式的显示装置的配置的一个实例的透视图；图22B为示出根据一个修改例的显示装置的配置的一个实例的分解透视图；图23A为示出根据本技术的第六实施方式的电视机的一个实例的外观图；图23B为示出根据本技术的第六实施方式的笔记本式个人计算机的一个实例的外观图；图24A为示出根据本技术的第六实施方式的蜂窝电话的一个实例的外观图；图24B为示出根据本技术的第六实施方式的平板电脑的一个实例的外观图；图25示出了在每个复制母版的ITO层的厚度与参考实例1-1到1-4、2、3-1到3-5以及4的每个光学薄片的平均反射比之间的关系；以及图26示出了参考实例1-1、1-2、5以及6的每个光学薄片的反射光谱。具体实施方式下面，按照以下顺序描述本技术的实施方式。1、第一实施方式（光学单元和复制母版（master）的实例）2、第二实施方式（成像装置的实例）3、第三实施方式（成像装置的实例）4、第四实施方式（显示装置的实例）5、第五实施方式（显示装置的实例）6、第六实施方式（电子设备的实例）1、第一实施方式【光学单元的配置】图1A为示出根据本技术的第一实施方式的光学单元1的配置的一个实例的平面图。图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种传递模，包括：主体，其具有凸凹表面；第一层，其包含无机材料，设置在所述主体的凸凹表面上；以及第二层，其包含氟，设置在所述第一层的表面上，其中，在其上设置所述第一层和所述第二层的凸凹表面的硬度值的平均值为30Hv或更高。

【技术特征摘要】
2013.03.01 JP 2013-0410751.一种传递模，包括：主体，其具有凸凹表面；第一层，其包含无机材料，设置在所述主体的凸凹表面上；以及第二层，其包含氟，设置在所述第一层的表面上，其中，在其上设置所述第一层和所述第二层的凸凹表面的硬度值的平均值为30Hv或更高，其中，照射在所述凸凹表面上的能量辐射的反射比为4％或更低，其中，所述凸凹表面是波面，该波面的波长等于或短于可见光的波长。2.根据权利要求1所述的传递模，其中，所述无机材料是氧化物半导体或介电质。3.根据权利要求1所述的传递模，其中，所述传递模有可挠性。4.根据权利要求1所述的传递模，其中，所述第一层具有从1.0×10-10到2.0×10-7m的厚度。5.根据权利要求1所述的传递模，其中，所述主体包括基底构件以及设置在所述基底构件的表面上的形状层。6.根据权利要求5所述的传递模，其中，所述基底构件具有从0.5×10-...

【专利技术属性】
技术研发人员：坪里惠，林部和弥，田泽洋志，梶谷俊一，田中洋志，谷田部透，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP