粘合剂组合物、粘合剂层、粘合片、光学构件以及触控面板制造技术

技术编号:10352523 阅读:106 留言:0更新日期:2014-08-25 11:35
本发明专利技术涉及粘合剂组合物、粘合剂层、粘合片、光学构件以及触控面板。本发明专利技术提供高度地保持胶粘可靠性及透明性并且防腐蚀效果优良的光学构件、以及能够以低成本有效地制造这样的光学构件的粘合剂组合物及粘合片。本发明专利技术的粘合剂组合物,其特征在于,含有防锈剂和基础聚合物,所述基础聚合物不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成单体成分。另外,本发明专利技术提供具有由所述粘合剂组合物形成的粘合剂层的粘合片。

【技术实现步骤摘要】
粘合剂组合物、粘合剂层、粘合片、光学构件以及触控面板
本专利技术涉及粘合剂组合物、粘合剂层、粘合片、光学构件以及触控面板。
技术介绍
近年来,在各种领域中广泛使用液晶显示器(IXD)等显示装置、触控面板等输入装置。这些显示装置和输入装置的制造等中,在粘贴光学构件的用途中使用粘合片。例如,在触控面板等各种显示装置中的光学构件的粘贴中,使用透明的粘合片。对于这些显示装置和输入装置而言,存在由于水分或酸性气体、盐水、腐蚀性成分从外部环境侵入到内部而腐蚀金属布线的问题。随着近年传感器的大型化和窄框化,具备铜布线的例子增多。铜仅次于银具有优良的导电性,作为布线是有用的材料,但是已知容易氧化、腐蚀。一般而言,为了防止金属的氧化、腐蚀,采用通过在金属布线上涂布防湿性的保护层以防止水分或腐蚀成分的浸入的方法(专利文献I)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2011-28594号公报
技术实现思路
但是,上述涂布需要在设置金属布线后进行,工序增加,费时,因此,在制造成品率的下降、成本方面成为重大课题。另外,使用防湿性的保护层时,有时在胶粘性以及耐发泡剥离性(在高温环境下在粘合片与被粘物的界面处不易产生发泡或剥离的特性)等胶粘可靠性、透明性的确保方面产生问题。因此,本专利技术的目的在于提供高度地保持胶粘性和耐发泡剥离性(在高温环境下在粘合片与被粘物的界面处不易产生发泡或剥离的特性)等胶粘可靠性、透明性并且铜布线等金属布线的防腐蚀效果优良的光学构件(特别是带粘合片的光学构件)、以及能够以低成本有效地制造这样的光学构件的粘合剂层、形成该粘合剂层的粘合剂组合物及粘合片。因此,本专利技术人为了解决上述课题进行了广泛深入的研究,结果发现,通过使用适当的构成粘合剂层的基础聚合物并且使用防锈剂,可以具有胶粘可靠性、透明性以及防腐蚀效果,从而完成了本专利技术。特别是发现,通过不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成基础聚合物的单体成分并且使用防锈剂,对防腐蚀效果得到协同作用,从而完成了本专利技术。 即,本专利技术提供一种粘合剂组合物,其特征在于,含有防锈剂和基础聚合物,所述基础聚合物不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成单体成分。另外,本专利技术提供一种粘合剂组合物,其特征在于,含有防锈剂和构成基础聚合物的单体成分的混合物或构成基础聚合物的单体成分的混合物的部分聚合物,并且不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为所述单体成分。另外,本专利技术提供一种粘合剂组合物,其特征在于,含有防锈剂和丙烯酸类聚合物(A),丙烯酸类聚合物(A)不含有或者实质上不含有含羧基单体作为构成单体成分。另外,本专利技术提供一种粘合剂组合物,其特征在于,含有防锈剂和构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分的混合物或构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分的混合物的部分聚合物,并且不含有或者实质上不含有含羧基单体作为所述单体成分。上述粘合剂组合物,优选相对于构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分总量(100重量份),含有5重量份以上含羟基单体。上述粘合剂组合物,优选相对于构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分总量(100重量份),含有5重量份以上含氮原子单体。上述防锈剂优选为苯并三唑类化合物。上述粘合剂组合物,优选其雾度(根据JIS K7136)为1.0%以下。上述粘合剂组合物,优选其总光线透射率(根据JIS K7361-1)为90%以上。上述粘合剂组合物,优选下述定义的薄层电阻率的变化率T小于150%,薄层电阻率的变化率T (%)= (R1-R0) /R0XlOOR0:试验片的薄层电阻值(初期薄层电阻)R1:在85°C、85%RH的环境下放置300小时后,在23°C、50%RH的环境下放置24小时后的试验片的薄层电阻值试验片:包含作为在三乙酰纤维素基材的一个面上设置有防反射处理层的薄膜的AR薄膜、前述粘合剂组合物、作为在环烯烃基材的一个面上设置有铜层的薄膜的铜薄膜、前述粘合剂组合物和玻璃板,具有按此顺序层叠的结构,所述AR薄膜的三乙酰纤维素基材侧的面与所述粘合剂组合物接触,所述铜薄膜的环烯烃基材侧的面隔着所述粘合剂组合物与所述玻璃板接触的试验片。另外,本专利技术提供一种粘合片,其具有由上述粘合剂组合物构成的粘合剂层。上述粘合片,优选其相对于玻璃板的180°剥离胶粘力为8N/20mm以上。上述粘合片,优选其厚度为12~350 μ m。另外,本专利技术提供一种光学构件,其至少具有所述粘合片以及基板,其中,所述基板的至少单面上具有金属布线,所述基板的具有所述金属布线的侧的面上粘贴有所述粘合片。上述光学构件,优选所述金属布线为铜布线。另外,本专利技术提供一种触控面板,其至少具有所述粘合片以及基板,其中,所述基板的至少单面上具有金属布线,所述基板的具有所述金属布线的侧的面上粘贴有所述粘合片。上述触控面板,优选所述金属布线为铜布线。专利技术效果 根据本专利技术的粘合剂组合物,可以具有胶粘可靠性、透明性以及防腐蚀效果,因此,可以得到高度地保持胶粘性及耐发泡剥离性等胶粘可靠性及透明性并且铜布线等金属布线的防腐蚀效果优良的光学构件、以及可以制造这样的光学构件的粘合剂层和粘合片。另外,通过赋予粘合剂层防腐蚀能力,不需要保护层的涂布,工序减少,因此,成本降低,成品率提闻。【附图说明】图1是表示本专利技术的光学构件的优选方式的具体例的示意图。图2是表示本专利技术的触控面板的优选方式的具体例的示意图。图3是耐发泡剥离性评价中使用的带高差玻璃的俯视图。图4是上述带高差玻璃的剖视图(A-A’线剖视图)。图5是上述带高差玻璃的剖视图(B-B’线剖视图)。图6是试验片的概略剖视图。图7是表示金属布线图案的一例的平面示意图。标号说明1、4、5光学构件2触控面板3金属布线10、10a、10b、IOc粘合片11透明导电薄膜12a、12b透明基板13薄膜传感器14a、14b偏振板15硬涂薄膜20带高差玻璃(高差试验片)21玻璃板22高差6试验片61AR 薄膜611防反射处理层612三乙酰纤维素基材62粘合剂层63铜薄膜631铜层632环烯烃基材64玻璃板71a、72a、73a、74a、75a、76a 金属布线(图案布线)71b、72b、73b、74b、75b、76b 金属布线(图案布线)81、82、83、84、85、86电极(透明电极)【具体实施方式】[1.粘合剂组合物及粘合剂层]本专利技术的光学用粘合剂,只要含有防锈剂和基础聚合物,上述基础聚合物不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成单体成分即可,其它方面没有特别限制。另外,本专利技术的粘合剂组合物,只要含有防锈剂和构成基础聚合物的单体成分的混合物或者构成基础聚合物的单体成分的混合物的部分聚合物,不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为上述单体成分即可,其它方面没有特别限制。另外,本说明书中,上述的“单体成分的混合物”包括由单一单体成分构成的情况和由两种以上单体成分构成的情况。另外,上述“单体成分的混合物的部分聚合物”是指上述的“单体成分的混合物”的构成单体成分中的一种或两种以上单体成分部分地聚合的组合物。另外,本专利技术的粘合剂组合物至少含有基础聚合物和防锈剂。本专利技术的粘合剂组合物不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成基础聚合物的单体成分,并且含有防锈剂,由此,关于防腐蚀效果,可以得到协同效果,具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种粘合剂组合物,其特征在于,含有防锈剂和基础聚合物,所述基础聚合物不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成单体成分。

【技术特征摘要】
2013.02.14 JP 2013-026610;2013.05.23 JP 2013-109421.一种粘合剂组合物,其特征在于, 含有防锈剂和基础聚合物, 所述基础聚合物不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为构成单体成分。2.一种粘合剂组合物,其特征在于, 含有防锈剂和构成基础聚合物的单体成分的混合物或构成基础聚合物的单体成分的混合物的部分聚合物,并且不含有或者实质上不含有含酸性基团单体作为所述单体成分。3.一种粘合剂组合物,其特征在于, 含有防锈剂和丙烯酸类聚合物(A), 丙烯酸类聚合物(A)不含有或者实质上不含有含羧基单体作为构成单体成分。4.一种粘合剂组合物,其特征在于, 含有防锈剂和构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分的混合物或构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分的混合物的部分聚合物,并且不含有或者实质上不含有含羧基单体作为所述单体成分。5.如权利要求3或4所述的粘合剂组合物,其中, 相对于构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分总量(100重量份),含有5重量份以上含羟基单体。6.如权利要求3~5中任一项所述的粘合剂组合物,其中, 相对于构成丙烯酸类聚合物(A)的单体成分总量(100重量份),含有5重量份以上含氮原子单体。7.如权利要求1~6中任一项所述的粘合剂组合物,其中, 所述防锈剂为苯并三唑类化合物。8.一种光学用的粘合剂层,其由权利要求1~7中任一项所述的粘合剂组合物形成。9.如权利要求8所述的粘合剂层,其雾度(根据JISK7136)为1.0%以下。10.如权利要求7或8所述的粘合剂层...

【专利技术属性】
技术研发人员:形见普史野中崇弘岸冈宏昭
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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