平版印刷版亲水底板和它的制备制造技术

制备平版印刷元件基底的方法，该方法包括使底板与含有硅酸盐溶液的液体接触从而在底板上形成亲水层的步骤，在硅酸盐溶液中分散有颗粒物。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及平版印刷，并提供了制备平版印刷元件基底和平版印刷元件本身的方法。本专利技术特别涉及平版印刷，但也不排除其它。亲水法包括在基底上，实质上在一个普通的平面上，建立图象(着墨)区和非图象(非着墨)区。当印刷工业使用这样的方法时，非图象区一般是亲水的，图象区一般是亲油的。因此，在水施加到基底上之后，油基性墨与非图象区相排斥。多种方法可以产生图象区和非图象区，这些方法包括使基底表面上一层图象物质受到射线辐照的步骤。射线的辐照作用将在对应于图象区和非图象区的图象物质上产生溶解度差。在显影期间，除去易溶区，在基底上留下对应于图象的图案。制备接受一层图象物质的基底必须保证图象物与基底相粘结。可是，在显影期间，必须要让可溶的图象物质释放出来。平版印刷最常用的一种基底包含一个铝基层，对铝基层进行处理，以使它适宜于使用。通常铝层含有高质量的铝，例如1050合金，1050合金的纯度至少是99.5％。为了制备基底，铝例如用电起纹(electrograining)，粗糙化阳极氧化，然后用化学法调整，例如用水，磷酸盐溶液或硅酸盐溶液，或多羧酸进行处理。例如英国专利申请1 439 127号，美国专利3,181,461；3,963,594；4,052,275；4,072,589；4,131,518号和欧洲专利申请0110417号和日本专利公开20/3956叙述了使用电起纹的和/或阳极氧化的和/或化学调整的铝的平版印刷版。已知方法的一个问题是，这些方法在电起纹和阳极氧化步骤中要消耗大量的电能。而且这些步骤将产生必须要处置的化学废物。此外这些方法一般只能以较低的速度进行。对于上述问题已经提出了许多解决办法；但是没有什么是可用于产业上的建议。例如，国际申请WO 91/12140公开了金属铝的平版印刷版，这种板载有来自氧化锆溶胶产生的氧化物层。美国专利4,457,971公开了平版印刷版，这种平版印刷版包括铝或铝化基底，基底具有陶瓷层，陶瓷层含有非金属无机颗粒和耐水相或至少一种一碱价磷酸盐脱水产物相。美国专利4,420,549公开了包括有铝或铝化基底的平版印刷版，基底有陶瓷涂层，陶瓷涂层含有聚合态的磷酸铝或磷酸铝的混合物，其中涂层基本上不含粒状物。美国专利4,542,089公开了制备光敏基底的方法，该方法应用至少一种一碱价磷酸盐的淤浆在铝基底或基底的铝化表面提供亲水陶瓷，在铝或铝化基底的至少一表面上提供无机非金属颗粒，使淤浆在至少230℃的温度下进行焙烧足够长的时间，保证陶瓷层基本完全的脱水，以形成亲水陶瓷涂层。意大利专利申请MI 94 A 000 448叙述了对铝底板涂复含有氟硅酸盐、二氧化硅、聚偏氟乙烯和二氧化钛的胶体混合物来制备亲水印刷版。氟硅酸盐的聚合是在225～300℃的温度下进行的，聚合时间达50～180秒。与上述方法有关的一个问题是由在铝上固化和/或聚合涂层所需要的较高的温度引起的。发现高温能使铝底板退火，并使铝底板的抗拉强度降低。另外，高温能使印刷版变形，使它具有波状结构。当印刷版在印刷压力机上运行时，这两个效应可能会有问题的。PCT专利申请GB 93/01910叙述了电起纹和/或退火问题的另一种解决方案。该文公开了利用Al2O3粉末在铝合金片上进行等离子体喷涂制造平版印刷版的情况。作为铝的替代物，可以使用塑料例如聚酯作为底板。此外，这样一些塑料材料的表面涂层已有大量公开。例如，美国专利4,330,605公开了能够利用银盐扩散迁移法作成图象的照相平版接受板，扩散迁移法包括使聚对苯二甲酸乙酯薄膜与胶态二氧化硅和干二氧化硅粉进行涂复。欧洲专利0 619 524，0 619 525和620 502也公开了聚对苯二甲酸乙酯薄膜的各种涂层。本专利技术的一个目的就是为解决与已知的平版印刷版、印刷版的部件以及它们的生产方法有关的问题。根据本专利技术，提供一种制备平版印刷元件基底的方法，该方法包括通过使底板与含有硅酸盐溶液的液体相接触在底板上形成亲水层的步骤，在硅酸盐溶液中分散有颗粒状物质。所述的平版印刷元件优选地是一种印刷版。所述硅酸盐溶液可以包括任何一种可溶性的硅酸盐溶液，包括常常称作水玻璃、正硅酸盐、原硅酸盐和倍半硅酸盐的化合物。所述硅酸盐溶液可以包括改性的硅酸盐例如硼硅酸盐或磷硅酸盐的溶液。所述硅酸盐溶液可以包括一种或多种，优选地只有一种，金属或非金属的硅酸盐。金属硅酸盐可以是碱金属硅酸盐。非金属硅酸盐可以是硅酸季铵盐。所述硅酸盐溶液可以由硅酸盐形成，其中硅(例如二氧化硅)与阳离子(例如金属离子)的摩尔比在0.25-10的范围内，优选地在0.25-6的范围内，更优选地在0.5-4的范围内。所述硅酸盐优选地是碱金属硅酸盐。在此种情况下，在所述硅酸盐中SiO2与M2O的摩尔比至少可以是0.25，合适地至少0.5，优选地至少1，更优选地至少1.5，其中M代表了碱金属。所述比值至少是2.5的情况是特别优选的。所述比可以小于6，优选地小于5，更优选地小于4。优选的碱金属硅酸盐包括锂、钠和钾的硅酸盐，锂和/或钠的硅酸盐是特别优选的。仅含有硅酸钠的硅酸盐溶液是最优选的。所述的液体可以含有2～30％(重量)的硅酸盐(例如溶解的硅酸钠固体)，优选地5-20％(重量)，更优选地8-16％(重量)。此种液体可以使用10-60％(重量)，优选地30-50％(重量)，更优选地35-45％(重量)的硅酸盐溶液制备，这种硅酸盐溶液含有30-40％(重量)的硅酸盐。所述液体可包含5-60％(重量)的颗粒物。此种液体优选包含10-50％(重量)，更优选地15-45％(重量)，特别优选地20-40％(重量)的颗粒物。此液体中硅酸盐(重量)与颗粒物(重量)之比优选地在0.1-2的范围内，更优选地在0.1-1的范围内。重量比在0.2-0.6的范围内是特别优选的。所述液体可以包含多于20％(重量)，优选地多于30％(重量)，更优选地多于40％(重量)，特别优选地多于45％(重量)的水(包括所述硅酸盐溶液包含的水)。所述液体可以包括少于80％(重量)，优选地少于70％(重量)，更优选地少于65％(重量)，特别优选地少于约60％(重量)的水。所述颗粒物可以是有机物或无机物。有机颗粒物可以以乳胶提供。无机颗粒物可以选自氧化铝、二氧化硅、碳化硅、硫化锌、氧化锆、硫酸钡、滑石、粘土(例如高岭土)，锌钡白(lithopone)和二氧化钛。所述的颗粒物可以包括第一物质，这种物质的硬度大于8改进的莫氏硬度(按0-15莫式的标度)，优选地大于9，更优选地大于10。所述第一物质一般包括球形颗粒。或者，所述物质可以包括扁平颗粒或片状体。所述第一物质可以具有至少0.1微米，优选地至少0.5微米的平均粒度。所述的第一物质可以具有小于45微米，优选地小于20微米，更优选地小于10微米的平均粒度。第一物质的95％颗粒的粒度分布可以在0.01-150微米的范围内，优选地在0.05-75微米的范围内，更优选地在0.05-30微米的范围内。所述第一物质优选地包括无机物。所述第一物质优选地包括氧化铝，氧化铝包括Al2O3和它的水化物，例如Al2O3·3H2O。所述物质优选地是Al2O3。在所述液体中的所述颗粒物可以至少包括20％(重量)，优选地至少30％(重量)，更优选地至少40％(重量)的所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：H·S·巴汉布拉，R·M·奥根，
申请(专利权)人：霍西尔绘图工业有限公司，
类型：发明
国别省市：