无处理热敏阴图平版印刷版前体制造技术

本发明专利技术的目的在于提供一种热敏阴图记录成像元件和无处理平版印刷版前体。该热敏阴图成像元件由亲水聚合物微粒与疏水聚合物微粒组成，亲水聚合物微粒主要由亲水性单体自由基聚合生成，拒绝墨水或油；而疏水聚合物微粒主要由疏水性单体自由基聚合生成，接受墨水或油。该热敏阴图成像元件还可能包含一种能够将辐射转换成热量的物质，该成像元件可涂布到基材上形成一层辐射敏感的材料，从而产生一种平版印刷版前体，同时也可以在制版机上生成图像或直接在印刷机的圆柱型滚筒上生成图像。该热敏阴图记录成像元件涂布和干燥后表面层具有极好的亲水性，但是水或润版液都不能将它从版基上除去。成像元件表面亲水性在热的作用下可以变成疏水性。当该平版热敏阴图记录成像元件被涂布在适当的基版上能够形成无处理平版印刷版前体。在吸收可转换成热能的辐射后，这样制成的无处理平版印刷版前体受到辐射部分成为疏水性区域；而没有受到辐射部分保留其亲水性能。这样形成的图像被用来作为阴图平版印刷版印版。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种平版印刷版前体，具体而言，本专利技术涉及一种无湿处理显像 的热敏阴图平版印刷版前体。
技术介绍
平版或胶印印刷是在一个特意准备的平面表面上印刷的过程。特意准备的平 面表面的一些地区能够接受胶印油墨或油，而其他地区被水湿润后，是不会接受 墨水或油的。接受墨水或油的区域形成印刷图像区域，而拒绝墨水或油的区域形成背景区。光敏组分已被广泛运用在诸如印刷电路板和胶印制版，通常这些组分被覆盖 在基版上，干燥和/或固化，形成一个记录成像元件，然后经过辐射或粒子束的 成像照射后，被照射的区域和没有被照射的区域可以有不同的属性。在某些情况 下，照射会直接导致辐射地区被除去或烧蚀，在其他情况下辐射地区的化学行为 会发生改变。其中一个例子就是辐射地区比没有被照射的区域可以或多或少更易 溶于合适的液体。在另一些情况下，辐射地区和没有被照射的区域对某些液体 例如油墨、油、水或润版剂的亲和力会不同。平版或胶印印刷技术是目前最常用的印刷形式。胶印印刷涉及在一个适合平 面上生成印刷和非印刷区，通过照射形成的印刷和非印刷区对于印刷油墨或水有 不同的亲和力。当没有被照射的区域的涂层最终形成了印刷区，前体则被称为"阳 图版"。反过来说，当印刷区由上述照射或粒子束造成，前体则被称为"阴图版"。在常规生产平版印刷版或印刷电路板的工艺中，原像胶片被放在成像元件层 上，然后紫外线和/或可见光通过原像胶片辐照成像元件层。这种工作方法的缺 点是累赘和劳动密集。在过去10几年中，基于计算机数码的激光直接成像方法已被广泛开发和应用在生产平版印刷版或印刷电路板，这样可以减少使用胶巻这个中间处理过程。激光直接成像方法提供了许多优势，例如印刷版质量好，成像 速度快，产量高，费用低，以及其他公认的好处。在热敏成像过程中，成像可以通过直接加热媒介的方式进行，例如使用热探 头的方法。比较典型的方法是一种非接触式的方法，例如通过光源成像的方法很 受关注。在这种方法中，光首先被吸收，然后转变成热。而由此产生的热量，被 用来驱动有关热敏成像过程。原则上，任何波长的光波都可以使用这种方法制作 平版印刷版。最近的YAG激光器，或者更近的能产生800-900纳米红外线辐射波长光的 大功率第三组至第五组激光二极管和二极管列阵已经被广泛应用。使用这些红外 线波长的光，可以消除在暗室成像的麻烦，即使红外线波长的光被用于成像过程， 光能仍然要被转化为热量，以驱动热过程。在传统的阳图版中，记录成像元件的单元层里包含有重氮醌化合物。在重氮 醌化合物的作用下，碱溶性树脂在碱性显影液中的溶解度受到抑制。另一方面， 在紫外线的照射下，重氮醌化合物发生光化学分解形成茚羧酸(indenecarboxylic 酸)，而上述溶解度抑制效应将丧失，感光层在碱性显影液中的溶解度会改善。 含有重氮醌化合物的阳图版成像机理就是成像元件的单元层中爆光部分与非爆 光部分因化学变化而在碱性显影液中的溶解度不同。包含有碱溶性树脂和重氮醌化合物的记录成像元件的单元层被覆盖在基版 上，经过干燥后制成的平版印刷版被称为阳图版。紫外线透过银盐原像胶片照射 在阳图版上，然后由碱溶液显影出阳图平版印刷版。然而，传统阳图平版印刷版 的成像元件单元层内的重氮醌化合物存在一个缺点，因为它对紫外光的敏感性， 致使它必须在黄灯下进行处理。此外，还存在贮存稳定性较差及较低的印刷质量 等问题。因此，光敏印刷版正在被热敏平版印刷版所取代。在生产阴图平版印刷版的过程中，亲水支撑被包覆一层阴图记录成像元件薄 膜。此用途的典型涂料包括含有重氮化合物的光敏感聚合物层，铬酸盐预敏亲水 胶体和大量的各种人造光聚合物，尤其重氮预敏化系统是使用最为广泛的。对这 些光敏感层进行辐射成像，受辐照区域不易溶解在显影液里，而未受辐照区域仍 然易溶于显影液里。这种版在一个合适的显影液里可以除去未受辐照领域的涂层 而生成一块平版印刷版。在生产阴图平版印刷版过程中基本上有两种成像机制，一种是基于记录成像 元件的光化学过程，光化学过程使得记录成像元件的被照射区域硬化。另一个更 近的作法是利用热过程。在这一方法中，覆盖在基版上的记录成像元件涂层凭借 一个热过程使被照射区域硬化，这该方法包括热驱动聚合或交联，聚合物微粒的 熔化和聚集。其中一个最受欢迎的热机制方式获得阴图平版印刷版是使用一个催化反应。 一个合适的光酸发生剂被添加在覆盖在基版上的记录成像元件涂层中，其他各种 添加剂和试剂，如填料、表面活性剂、稳定剂和着色剂，在需要的情况下也可以 被加入。当印刷版被照射时，根据所产生的酸的分布，产生一个清晰的图像，随 后在显影前有一个被称为"预热"加热步骤，酸引起交联，在印刷版上形成碱不 溶区域。当与一个合适的碱性显影液接触时，非照射区易溶于显影液中被除去。 当安装在一个合适的印刷机上，该印刷版首先与润版液接触，而润版液选择性地 润湿亲水基版，而使已经交联的疏水区域接受油墨。由于"预热"过程容易产生许多问题，人们提出许多改进方法，其中之一涉 及免除预热步骤。"无预热"红外线敏感阴图印刷版就是利用乙烯基不饱和单体 自由基引发聚合。覆盖在基版上辐射敏感层是一种红外光敏感混合物，由一个自由基聚合系统 组成，至少含有乙烯基不饱和单体和低聚物、引发体系、包括至少有一个化合物 能够吸收红外辐射，和至少有一化合物能够产生自由基。在受到辐射时红外线吸 收剂吸收红外线辐射，转移能源(热或光子)到引发剂，然后形成自由基，进而 引发乙烯基不饱和单体的聚合。虽然根据以上原则已经提出了一些"无预热"红外线敏感阴图印刷版系统， 但是这些系统往往具有显影宽度不足，耐印力低，影像稳定性差等缺点。对一个 阴图版来说，显影宽度是指在何种程度下版的非辐射部位可以被固定活性的显影 液完全清除，但辐射部位却完全不受影响。耐印力是指这一印刷版在使用过程中 可以达到的印数。显然市场上对宽显影度长耐印力的"无预热"红外线敏感阴图 印刷版系统有着强烈的需求。日本专利6061752透露了一个取消原像胶片，将数据直接从计算机转移到印 刷版的尝试。由于光敏涂层对激光不够敏感，专利提出在记录成像元件涂层上面再涂一层卤化银。卤化银层被直接暴露在受计算机控制的激光下，随后，对卤化 银层进行显影，在记录成像元件涂层上面产生一个银色的图像。该银色图像在对 记录成像元件涂层进行整体曝光时起着一个面具作用。经过整体曝光后，银色的 图像被除去，记录成像元件涂层被显影。这种方法的不利之处是太复杂以及需要 相关的显影液体。另外一个尝试是将一个金属层或一个含炭黑层覆盖在记录成像元件涂层上， 然后用激光烧蚀金属层或含炭黑层，在记录成像元件涂层上面产生一个面具图 像。透过面具图像，记录成像元件涂层被完全暴露在紫外光下，除去面具图像，记录成像元件涂层被显影取得印刷版。这种方法被披露在英国专利1492070,但 是这种方法仍然具有在对记录成像元件涂层显影前需除去面具图像的累赘。美国专利5340699描述了一个阴图红外激光成像元件。红外敏感层由可溶性 酚醛树脂、热固性酚醛树脂、布朗斯台德酸和红外吸收物质组成。但是用这种方 法制备的印刷版的性能不是很好。欧洲专利784233披露阴图化学放大型光敏复合物由可溶性酚醛树脂或聚乙 烯苯酚、能交联树脂的复本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种无湿处理显像的热敏阴图平版印刷版前体，其特征在于由支撑，支撑上的一层记录成像元件组成。记录成像元件由（１）可以将辐射转换成热的物质，（２）疏水聚合物微粒，（３）亲水聚合物微粒组成；。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：于义松，黎仕友，何洪，王利军，黄永生，
申请(专利权)人：成都科瑞聚数码科技有限公司，
类型：发明
国别省市：90[中国|成都]