除草化合物制造技术

本发明专利技术涉及具有化学式(I)的化合物或所述化合物的一种农学上可接受的盐，其中R1、R2、R3和R4是如此处所定义的。本发明专利技术进一步涉及包含具有化学式(I)的化合物的除草组合物，并且涉及它们用于特别是在有用植物作物中控制杂草的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术涉及具有化学式(I)的化合物或所述化合物的一种农学上可接受的盐，其中R1、R2、R3和R4是如此处所定义的。本专利技术进一步涉及包含具有化学式(I)的化合物的除草组合物，并且涉及它们用于特别是在有用植物作物中控制杂草的用途。【专利说明】除草化合物本专利技术涉及新颖哒嗪酮衍生物、涉及用于制备它们的方法、涉及包含这些新颖衍生物的除草组合物、并且涉及其用于特别是在有用植物作物中控制杂草或用于抑制植物生长的用途。因此，根据本专利技术，提供了一种具有化学式(I)的化合物:【权利要求】1.一种具有化学式(I)的化合物: 2.根据权利要求1所述的化合物，其中R3和/或R4是氢。3.根据权利要求1或权利要求2所述的化合物，其中R1选自下组，该组由以下各项组成:Ala、Alb、Alc、Ald、A2a、A2b 以及 A2c: 4.根据权利要求3所述的化合物，其中R1是Ala或Alb。5.根据以上权利要求中任一项所述的化合物，其中R2选自下组，该组由以下各项组成:氢、氨基、氯、溴、甲基、乙基、异丙基、乙烯基、异丙烯基、甲基-S(O)p-、环丙基以及氰基。6.根据以上权利要求中任一项所述的化合物，其中R5选自下组，该组由以下各项组成:羟基、卤素、C1-C6烷基、C1-C6环烷基X1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基X1-C6烷氧基C1-C3烷基、C1-C6烷氧基-C2-C6烷氧基-C1-C3烷基、C1-C6卤代烷氧基C1-C3烷基、C1-C6烷基-S (O)p-、芳基、芳氧基、杂环基-C1-C3烷氧基-C1-C3烷基、C1-C3 二烷基氨基-、C1-C3烷基-S(O)p-氨基-C1-C3 二烷基、氰基以及硝基。7.根据权利要求6所述的化合物，其中R5选自下组，该组由以下各项组成:氯、甲基、三氟甲基、以及甲基s(0)p-。8.根据以上权利要求中任一项所述的化合物，其中R6选自下组，该组由以下各项组成:氢、卤素、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷基-S (0)p-、C2-C6烯基以及C2-C6炔基。9.根据以上权利要求中任一项所述的化合物，其中R7选自下组，该组由以下各项组成:氢*、卤素和C1-C3烷基-。10.根据以上权利要求中任一项所述的化合物，其中R9选自下组，该组由以下各项组成:氢、4，5- 二氢异噁唑-3-基卤素、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷基-S (O)p-、C2-C6烯基以及C2-C6炔基。11.一种除草组合物，包含根据以上权利要求中任一项所述的一种除草化合物和一种农业上可接受的配制佐剂。12.根据权利要求11所述的除草组合物，进一步包含至少一种另外的杀有害生物剂。13.根据权利要求12所述的除草组合物，其中该另外的杀有害生物剂是一种除草剂或除草剂安全剂。14.一种在一个场所控制杂草的方法，该方法包括向该场所施用杂草控制量的根据权利要求11至13中任一项所述的组合物。15.如在权利要求1中所定义的具有化学式(I)的化合物作为一种除草剂的用途。【文档编号】C07D401/04GK103974939SQ201280060503 【公开日】2014年8月6日 申请日期:2012年12月7日 优先权日:2011年12月9日【专利技术者】W·G·怀廷哈姆, N·P·马尔霍兰, R·维尼尔, A·C·埃里奥特, K·L·布里奇伍德, J·M·克拉夫, K·比弗特门特, G·米歇尔, G·门斯 申请人:先正达有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有化学式(I)的化合物：或其农学上可接受的盐，其中：‑R1选自下组，该组由A1和A2组成其中X1是N或CR7；X2是N或CR8；X3是N或CR9；X4是N或CR6；R2选自下组，该组由以下各项组成：氢、卤素、氰基、C1‑C6烷基、C3‑C6环烷基、C2‑C6烯基、C4‑C6环烯基、C2‑C6炔基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6烷氧基‑C1‑C3‑烷基、C1‑C6烷氧基‑C2‑C6烷氧基‑、C1‑C6烷氧基‑C2‑C6烷氧基‑C1‑C3烷基‑、C3‑C6环烷基C1‑C3‑烷基‑、氨基、C1‑C6烷基氨基、C1‑C6二烷基氨基、C1‑C3烷基羰基氨基C1‑C4烷基‑、C1‑C6烷基‑S(O)p‑、C1‑C6烷基‑S(O)p‑C1‑C3‑烷基、C1‑C6卤代烷基‑S(O)p‑以及C1‑C6卤代烷基‑S(O)p‑C1‑C3‑烷基；R3选自下组，该组由以下各项组成：氢、羟基、卤基、硝基、氨基、氰基、C1‑C6烷基、C1‑C3烷氧基‑、C3‑C6环烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基‑C1‑C3‑烷基、C3‑C6环烷基‑C1‑C3‑烷基、C1‑C6烷基‑S(O)p‑、C1‑C6烷基‑S(O)p‑C1‑C3‑烷基、C1‑C6卤代烷基‑S(O)p‑、C1‑C3烷基氨基、C1‑C3二烷基氨基以及C1‑C6卤代烷基‑S(O)p‑C1‑C3‑烷基；R4选自下组，该组选自氢、C1‑C6烷基羰基、芳基羰基、C1‑C6烷氧基羰基、C1‑C6烷基‑S(O)p‑、C1‑C6烷基‑S(O)p羰基‑以及芳基‑S(O)p‑，其中所述芳基基团可以任选地被一个或多个R11取代；R5选自下组，该组由以下各项组成：羟基、卤素、C1‑C6烷基、C1‑C6环烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C1‑C6烷氧基、C2‑C6烯氧基‑、C3‑C6环烷基C1‑C3‑烷基‑、C1‑C6烷氧基C1‑C3烷基、C1‑C6烷氧基‑C2‑C6烷氧基、C1‑C6烷氧基‑C2‑C6烷氧基‑C1‑C3烷基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基‑C1‑C3烷基、C1‑C6烷基‑S(O)p‑、C1‑C6卤代烷基‑S(O)p‑、芳基、芳基‑S(O)p、杂环基、杂环基‑S(O)p、芳氧基、芳基‑C2‑C6烷基‑、芳基‑C1‑C6烷氧基‑、杂环氧基、杂环基‑C1‑C3烷氧基‑C1‑C3烷基、羟基羰基、羟基羰基‑C1‑C3烷氧基‑、C1‑C3烷氧基羰基、C1‑C3烷氧基羰基‑C1‑C3烷氧基‑、C1‑C3烷基氨基‑、C1‑C3二烷基氨基‑、C1‑C3烷基氨基‑S(O)p‑、C1‑C3烷基氨基‑S(O)p‑C1‑C3烷基‑、C1‑C3二烷基氨基‑S(O)p‑、C1‑C3二烷基氨基‑S(O)p‑C1‑C3烷基‑、C1‑C3烷基氨基羰基‑、C1‑C3烷基氨基羰基‑C1‑C3烷基‑、C1‑C3二烷基氨基羰基‑、C1‑C3二烷基氨基羰基‑C1‑C3烷基‑、C1‑C3烷基羰基氨基‑、C1‑C3烷基‑S(O)p‑氨基‑、C1‑C3烷基‑S(O)p‑C1‑C3烷基氨基‑、C1‑C3烷基‑S(O)p‑氨基C1‑C3烷基‑、氰基以及硝基，其中所述杂环基是含有从一至三个杂原子的五元或六元杂环基，每个杂原子独立地选自下组，该组由以下各项组成：氧、氮和硫，并且其中这些芳基或杂环基组分可以任选地被选自下组的一个或多个取代基取代，该组由以下各项组成：卤基、C1‑C3烷基、C1‑C3卤代烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷氧基、苯基、氰基以及硝基；R6和R9独立地选自下组，该组由以下各项组成：氢、羟基、卤素、C1‑C6烷基、C1‑C6环烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C1‑C6烷氧基‑、C2‑C6烯氧基‑、C3‑C6环烷基C1‑C3‑烷基‑、C1‑C6烷氧基C1‑C3烷基‑、C1‑C6烷氧基‑C2‑C6烷氧基‑、C1‑C6烷氧基‑C2‑C6烷氧基‑C1‑C3烷基‑、C1‑C6卤代烷氧基‑、C1‑C6卤代烷氧基‑C1‑C3烷基‑、C1‑C6烷基‑S(O)p‑、C1‑C6卤代烷基‑S(O)p‑、芳基、芳基‑S(O)p‑、杂环基、杂环基‑S(O)p‑、芳氧基‑、芳基‑C2‑C6烷基‑、芳基‑C1‑C6烷氧基‑、杂环氧基‑、杂环基‑C1‑C3烷氧基‑C1‑C3烷基‑、羟基羰基、羟基羰基‑C1‑C3烷氧基‑、C1‑C3烷氧基羰基‑、C1‑C3烷氧基羰基‑C1‑C3烷氧基‑、C1‑C3烷基氨基‑、C1‑C3二烷基氨基‑、C1‑C3烷基氨基‑S(O)p‑、C1‑C3烷基氨基‑S(O)p‑C1‑C3烷基‑、C1‑C3二烷基氨基‑S(O)p‑、C1‑C3二烷基氨基‑S(O)p‑C1‑C3烷基‑、C1‑C...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：W·G·怀廷哈姆，N·P·马尔霍兰，R·维尼尔，A·C·埃里奥特，K·L·布里奇伍德，J·M·克拉夫，K·比弗特门特，G·米歇尔，G·门斯，
申请(专利权)人：先正达有限公司，
类型：发明
国别省市：英国;GB