一种还原炉复合隔热屏及还原炉制造技术

本实用新型专利技术提供一种还原炉复合隔热屏及还原炉，包括：金属护板、第一镍铬基合金板、复合隔热板和第二镍铬基合金板；所述金属护板、第一镍铬基合金板、复合隔热板和第二镍铬基合金板依次抽真空层压为一体；与所述金属护板层压的第一镍铬基合金板的表面上涂覆有碳化硅涂层，利用金属护板保护第一镍铬基合金板表面的碳化硅涂层，防止其被倒下的硅棒损坏，延长隔热屏的使用寿命，并防止多晶硅生产过程中产生的氯化氢对碳化硅涂层的腐蚀，避免对还原炉气氛产生污染；利用第一镍铬基合金板进行二次热辐射，并利用复合隔热板阻止热辐射向还原炉的内壁传递，能够节能降耗，并降低硅棒中心和表面温度梯度，均匀炉内热场。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供一种还原炉复合隔热屏及还原炉，包括：金属护板、第一镍铬基合金板、复合隔热板和第二镍铬基合金板；所述金属护板、第一镍铬基合金板、复合隔热板和第二镍铬基合金板依次抽真空层压为一体；与所述金属护板层压的第一镍铬基合金板的表面上涂覆有碳化硅涂层，利用金属护板保护第一镍铬基合金板表面的碳化硅涂层，防止其被倒下的硅棒损坏，延长隔热屏的使用寿命，并防止多晶硅生产过程中产生的氯化氢对碳化硅涂层的腐蚀，避免对还原炉气氛产生污染；利用第一镍铬基合金板进行二次热辐射，并利用复合隔热板阻止热辐射向还原炉的内壁传递，能够节能降耗，并降低硅棒中心和表面温度梯度，均匀炉内热场。【专利说明】一种还原炉复合隔热屏及还原炉
本技术涉及多晶硅生产
，特别是涉及一种多晶硅还原炉复合隔热屏及还原炉。
技术介绍
三氯氢娃氢还原是改良西门子法生产多晶娃的一个重要生产环节，将对多晶娃的质量及成本产生重要影响，尤其是氢还原直接电耗在多晶硅生产成本中占有较大的比例，在多晶娃还原炉中，由于福射和气体对流传热的双重原因，加热娃棒的电能约有85~90%消耗在炉壁上，冷却的炉壁会带走加热硅棒的热量。现有本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种还原炉复合隔热屏，其特征在于，包括：金属护板、第一镍铬基合金板、复合隔热板和第二镍铬基合金板；所述金属护板、第一镍铬基合金板、复合隔热板和第二镍铬基合金板依次抽真空层压为一体；与所述金属护板层压的第一镍铬基合金板的表面上涂覆有碳化硅涂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郭增昌，刘申良，孟华，
申请(专利权)人：新特能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：新疆;65