荧光猝灭体系用于潜在指纹显现的方法技术

本发明专利技术涉及痕量检测技术领域，具体公开了一种荧光猝灭体系用于潜在指纹显现的方法，该方法为一种利用荧光猝灭体系的“turn-on”效应即重新发出荧光而显现出潜在指纹的方法。先制备荧光猝灭体系，所述荧光猝灭体系的猝灭状态可被指纹成分破坏；然后将其喷、涂到各种物品上，有指纹的部分，其中的氯离子、氨基酸或者葡萄糖等指纹成分破坏所述荧光猝灭体系的猝灭状态，使荧光再现从而显现指纹；在特殊光照下透过滤光片或者在自然光照下直接拍照。本发明专利技术的优点在于方法简单、快速，而且在指纹细节不够清晰的时候，可以再使用常用的DFO、IND、茚三酮、硝酸银等继续显现指纹，即该方法还可用于指纹“标记”或者“示踪”。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种荧光猝灭体系用于潜在指纹显现的方法，其步骤如下：先制备荧光猝灭体系，所述荧光猝灭体系的猝灭状态可被指纹成分破坏；然后将其喷、涂到各种物品上，有指纹的部分，指纹成分破坏所述荧光猝灭体系的猝灭状态，使荧光再现从而显现指纹；所述的荧光猝灭体系包括荧光物质和能够将荧光物质的荧光猝灭的物质。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王利华，胡军成，陈欢，黄正喜，
申请(专利权)人：中南民族大学，
类型：发明
国别省市：湖北;42