透明导电性薄膜制造技术

本发明专利技术提供一种薄膜构成简单，另一方面，即便在实施退火处理时，也难以看出透明导电性膜的图案形状的透明导电性薄膜。所述透明导电性薄膜是在透明塑料薄膜基材的至少一面依次层叠光学调整层和透明导电性膜而成的透明导电性薄膜，透明塑料薄膜在150℃下加热1小时时的透明塑料薄膜基材的与主取向轴正交的方向的热收缩率为T1（%）、透明塑料薄膜基材的与主取向轴平行的方向的热收缩率为T2（%）、透明塑料薄膜基材的厚度为L（μm)时，满足下述关系式（1）和（2）。T1/L<0.0045（1）T2/L<0.0035（2）。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种薄膜构成简单，另一方面，即便在实施退火处理时，也难以看出透明导电性膜的图案形状的透明导电性薄膜。所述透明导电性薄膜是在透明塑料薄膜基材的至少一面依次层叠光学调整层和透明导电性膜而成的透明导电性薄膜，透明塑料薄膜在150℃下加热1小时时的透明塑料薄膜基材的与主取向轴正交的方向的热收缩率为T1（%）、透明塑料薄膜基材的与主取向轴平行的方向的热收缩率为T2（%）、透明塑料薄膜基材的厚度为L（μm)时，满足下述关系式（1）和（2）。T1/L<0.0045（1）T2/L<0.0035（2）。【专利说明】透明导电性薄膜
本专利技术涉及一种透明导电性薄膜。特别涉及薄膜构成简单，另一方面，即便实施退火处理时，也难以看出透明导电性膜的图案形状的透明导电性薄膜。
技术介绍
以往，可通过与图像显示部直接接触来输入信息的触摸面板是在显示器上配置透光性的输入装置而成的。作为上述触摸面板的代表形式，存在将2张透明电极基板以各自的透明电极层相对的方式设置间隙而进行配置而成的电阻膜式触摸面板、利用在透明电极膜和手指之间产生的静电容量的变化的静电容量式触摸面板。其中，静电容量式触摸面板中，作为用于检测手指的触摸位置的传感器，大致存在透明导电性膜层叠于玻璃基材上而成的玻璃传感器和透明导电性膜层叠于透明塑料薄膜基材上而成的薄膜传感器。特别是在薄膜传感器中，大多通过将2张具备图案化为线状的透明导电性膜的透明导电性薄膜按各自的图案相互交错的方式进行配置来形成格子状的图案。然而，这样将透明导电性膜进行图案化时，出现图案部和非图案部的边界部分容易被看出，静电容量式触摸面板的美观性变差的问题。因此，公开了用于解决上述问题的技术(例如，参照专利文献I)。更具体而言，公开了一种透明导电性薄膜的制造方法，其特征在于，上述透明导电性薄膜在透明的薄膜基材的单面或者两面介由至少I层的底涂层具有透明导电体层，且透明导电体层已图案化，并且在不具有透明导电体层的非图案部具有至少I层的底涂层，上述制造方法具有:在透明的薄膜基材的单面或者两面，利用有机物形成从透明的薄膜基材为第一层的底涂层的工序；在底涂层上，利用溅射法形成透明导电体层的工序；以及蚀刻透明导电体层而图案化的工序。并且，专利文献I中，公开了通过对具有图案化了的透明导电体层的透明导电性薄膜实施退火处理，从而使该透明导电体层结晶，提高电导度。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2011-142089号公报(权利要求书)
技术实现思路
然而，专利文献I的实施例中公开的透明导电性薄膜是如下形成的:在聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(以下，有时称为“PET薄膜”)的一面依次层叠2层的底涂层和透明导电体层，并且在PET薄膜的另一面介由粘着剂层贴合支撑体，该支撑体是在厚度不同的PET薄膜上层叠厚的硬涂层而成的。因此，专利文献I中记载的透明导电性薄膜有层构成复杂、生产成本高的问题。因此，本专利技术的专利技术人等，为了解决上述生产成本的问题，尝试从上述专利文献I的实施例中的透明导电性薄膜的构成中省略支撑体。然而，省略支撑体的情况下，又新产生了退火处理后，容易看出图案形状的问题。另外，要进一步改善生产成本，尝试了提高退火处理温度，缩短退火处理时间，结果又出现了图案形状容易被看出的问题。S卩，本专利技术的目的在于提供薄膜构成简单，另一方面，即便实施退火处理时，也难以看出透明导电性膜的图案形状的透明导电性薄膜。本专利技术的专利技术人等进行了深入研究，结果发现利用以下的透明导电性薄膜能够解决上述的课题，完成了专利技术。S卩，提供一种透明导电性薄膜，能够解决上述问题，其特征在于，是在透明塑料薄膜基材的至少一面依次层叠光学调整层和透明导电性膜而成的透明导电性薄膜，透明塑料薄膜在150°C下加热I小时时的透明塑料薄膜基材的与主取向轴正交的方向的热收缩率为Tl (%)、透明塑料薄膜基材的与主取向轴平行的方向的热收缩率为T2 (%)、透明塑料薄膜基材的厚度为L ( μ m)时,满足下述关系式(I)和(2)。T1/L<0.0045 (I)T2/L<0.0035 (2)S卩，采用本专利技术的透明导电性薄膜，作为透明塑料薄膜基材，使用以其主取向轴为基准而规定的热收缩率和厚度满足规定的关系式的透明塑料薄膜基材。由此，能够实现薄膜构成简单，另一方面，即便实施退火处理时，也难以看出透明导电性膜的图案形状。另外，由于在透明导电性膜和透明塑料薄膜基材之间设置光学调整层，所以能够使由透明导电性膜的折射率和透明塑料薄膜基材的折射率之差引起的透明导电性膜的图案形状难以被看出。另外，本专利技术的透明导电性薄膜中，优选透明塑料薄膜基材的与主取向轴正交的方向的热收缩率(Tl)为O?0.5%。通过这样构成，即便实施退火处理时，也能够使透明导电性膜的图案形状难以被看出。另外，本专利技术的透明导电性薄膜中，优选透明塑料薄膜基材的与主取向轴平行的方向的热收缩率(T2)为O?0.4%。通过这样构成，即便实施退火处理时，也能够使透明导电性膜的图案形状难以被看出。另外，本专利技术的透明导电性薄膜中，优选透明塑料薄膜基材的厚度(L)为25?200 μ m。通过这样构成，即便实施退火处理时，也能够使透明导电性膜的图案形状难以被看出。另外，本专利技术的透明导电性薄膜中，优选光学调整层从透明塑料基材侧依次层叠中折射率层、高折射率层和低折射率层，中折射率层是折射率为1.4以上且小于1.7、比低折射率层的折射率高且比高折射率层的折射率低的层，高折射率层的折射率为1.6以上且小于2，低折射率层为折射率为1.3以上且小于1.6。通过这样构成，能够使由透明导电性膜的折射率和透明塑料薄膜基材的折射率之差引起的透明导电性膜的图案形状难以被看出。另外，本专利技术的透明导电性薄膜中，优选上述中折射率层的厚度为50?5000nm，高折射率层的厚度为20?130nm，低折射率层的厚度为10?150nm。通过这样构成，能够使由透明导电性膜的折射率和透明塑料薄膜基材的折射率之差引起的透明导电性膜的图案形状难以被看出。另外，本专利技术的透明导电性薄膜中，优选透明导电性膜由铟锡氧化物(以下，有时称为“ΙΤ0”)构成，并且在光学调整层上形成图案状而成。这样构成的情况下，通过实施退火处理，通常容易看出透明导电性膜的图案形状，如果是本专利技术的透明导电性薄膜，则能够使透明导电性膜的图案形状难以被看出。另外，本专利技术的透明导电性薄膜中，优选透明导电性膜的厚度为5?500nm。这样构成的情况下，通过实施退火处理，通常透明导电性膜的图案形状变得明显，如果是本专利技术的透明导电性薄膜，能够使透明导电性膜的图案形状难以被看出。【专利附图】【附图说明】图1是用于对本专利技术的透明导电性薄膜进行说明的图。图2 (a)?图2 (C)是用于对透明塑料薄膜基材的Tl方向和T2方向进行说明的图。图3是用于说明T1/L与退火处理后的透明导电性膜的图案的可视性的关系的图。图4是用于说明T2/L与退火处理后的透明导电性膜的图案的可视性的关系的图。符号说明1:透明导电性膜，2:光学调整层，2a:低折射率层，2b:高折射率层，2c:中折射率层，3:透明塑料薄膜基材，10:透明导电性薄膜【具体实施方式】本专利技术的实施方式，如图1所示，透明导电性薄膜10的特征在于，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明导电性薄膜，其特征在于，是在透明塑料薄膜基材的至少一面依次层叠光学调整层和透明导电性膜而成的透明导电性薄膜，所述透明塑料薄膜在150℃下加热1小时时的所述透明塑料薄膜基材的与主取向轴正交的方向的热收缩率为T1（%）、所述透明塑料薄膜基材的与主取向轴平行的方向的热收缩率为T2（%）、所述透明塑料薄膜基材的厚度为L时，满足下述关系式（1）和（2），T1/L<0.0045    （1）T2/L<0.0035    （2）其中，L的单位为μm。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒添铁也，大类知生，所司悟，
申请(专利权)人：琳得科株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP