一种微纳米颗粒分散分布的分析评估方法技术

本发明专利技术提供的一种微纳米颗粒分散分布的分析评估方法，包括以下步骤：采集微纳米颗粒显微图像，并进行灰度化处理；采用OTSU大津法进行二值化处理，去除图像中的杂质点和无效连通域；利用形态学运算，分离相连的连通域，并填补连通域中的孔洞；添加虚拟颗粒，采用分水岭算法进行图像分割，获得分割后的特征连通域；计算特征连通域的相关数据；对微纳米颗粒分散分布进行评估。本发明专利技术提供的分析评估方法，能够获得更加精确的结果；可批量快速处理大量的微纳米颗粒分布显微图像；能够从均匀度、密度和团聚程度三个方面，全面地对微纳米颗粒分布的情况进行分析和评估。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供的，包括以下步骤：采集微纳米颗粒显微图像，并进行灰度化处理；采用OTSU大津法进行二值化处理，去除图像中的杂质点和无效连通域；利用形态学运算，分离相连的连通域，并填补连通域中的孔洞；添加虚拟颗粒，采用分水岭算法进行图像分割，获得分割后的特征连通域；计算特征连通域的相关数据；对微纳米颗粒分散分布进行评估。本专利技术提供的分析评估方法，能够获得更加精确的结果；可批量快速处理大量的微纳米颗粒分布显微图像；能够从均匀度、密度和团聚程度三个方面，全面地对微纳米颗粒分布的情况进行分析和评估。【专利说明】
本专利技术涉及微纳米颗粒的分布和操控及分析领域，以及电子封装领域，具体涉及。
技术介绍
微纳米颗粒的材料价值和应用前景，已经逐步被人们所认识，纳米科学与技术被认为是21世纪的三大科技之一。由于微纳米颗粒的尺度较小，其体积效应和表面效应在磁性、电性及催化性能、吸附性能等等方面都表现出特别的性能，受到极大关注，但与此同时，由于微纳米颗粒的比表面积大，比表面能高，在分散和分布的过程中，易发生团聚现象，这是我们所不期望看到的。玻璃覆晶(Chip-0n-Glass，C0G本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微纳米颗粒分散分布的分析评估方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）采集微纳米颗粒显微图像，并进行灰度化处理，得到灰度图像；（2）采用OTSU大津法对所述灰度图像进行处理，得到二值化图像，去除所述二值化图像中的杂质点和无效连通域；（3）利用形态学运算处理所述二值化图像，分离相连的连通域，并填补连通域中的孔洞；（4）添加虚拟颗粒，对添加虚拟颗粒后的图像采用分水岭算法进行图像分割，获得分割后的特征连通域；（5）计算所述特征连通域的相关数据；（6）对所述微纳米颗粒分散分布进行评估。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：熊振华，袁鑫，盛鑫军，朱向阳，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：上海;31