壳聚糖/原位两性硅-钛杂化膜及制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种壳聚糖/原位两性硅-钛杂化膜及制备和应用。该杂化膜厚度为80~120μm，它是由壳聚糖、二氧化硅和二氧化钛组成。其制备过程包括：壳聚糖溶液的制备，两性无机硅-钛溶胶溶液的制备，将两性无机硅-钛溶胶与壳聚糖溶液混合进行缩聚反应得到铸膜液，铸膜液经铸膜过程得到壳聚糖/原位两性硅-钛杂化膜。该杂化膜用作直接甲醇燃料电池质子交换膜。本发明专利技术的优点在于：制备方法简单易操作，膜中无机颗粒中共同存在酸性基团和碱性基团，原位溶胶凝胶法使得纳米级的硅-钛颗粒分布均匀在杂化膜中，有效地改善了膜的性能，该杂化膜具有较低的甲醇渗透率及较高的质子传导率。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种壳聚糖/原位两性硅‑钛杂化膜，其特征在于，该杂化膜厚度为80~120 μm，它是由壳聚糖、二氧化硅和二氧化钛三部分组成，其中二氧化硅与二氧化钛的摩尔比为1:（0.5~2），填入的无机二氧化硅‑二氧化钛组分与壳聚糖质量比为（0.01~0.07）:1。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴洪，尹永恒，姜忠义，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：天津;12